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图6.29 成分起伏随时间 而增大的示意图
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图6.20 Al-Cu合金130℃时效的硬度变化
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图6.9 Al-4.5Cu合金中的G.P.区结构模型
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图6.11 Al-Cu合金θ″相、θ′相合θ相的结构
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图6.14 合金非连续脱溶的成分特点(a) 及胞状脱溶物示意图(b)
≤±2%
电光转换效率
≥20%
一次充气 运行时间
≥24h
运转噪音
≤65dB
光束直径
25mm,(窗口)
光束发散角
≤3mrad
光束指向 稳定性
<0.2mrad
电力配置
额定输出功率时总电力60KVA, 三相380V±10%四线配置。
工作气体及 气体消耗
不足或膨胀系数不协调而造成的涂层开裂和剥落现象。离子注入 的缺点是注 入层较浅(通 常≯1μm) , 也不能处理 复杂工件的 凹腔表面。 离子注入 装置如图2.4 所示。 离子注入 有缺点比较 见表2.2。
3.激光加热真空蒸镀 图3.3是激光加热真空蒸镀装置示意图。 通过透过窗 将高能密度的激 光束引入到真空 室内,在蒸发材 料表面聚焦后, 是材料的表层瞬 间气化。利用激 光法,可蒸镀 Al2O3 、MgO、 石墨等难以蒸发 的物质。 为保证材料 均匀蒸发,防止
2. DC三极、四极离子溅射 三极或四极溅射(右图)是 以DC二极溅射为基础, 在真 空室内设置热阴极。由于热 阴极能够产生足够的电子, 因此可在较低电压( 0-2kV ) 和低真空(1.33×10-1至6.65× 10-2Pa)条件下完成溅射镀膜。 DC二极、三极或四极溅 射装置,只能用于导电性靶材的溅 射镀膜。如果用高频(13.56MHZ) 电源取代直流电源(右下图),利用 离子和电子的移动速度差, 在绝缘 性靶材表面感应形成负偏压, 即可 对绝缘性靶材溅射镀膜。