半导体温度传感器及其芯片集成技术_图文.
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第12期・传感器技术・半导体温度传感器及其芯片集成技术*林凡,吴孙桃。
郭东辉(厦门大学,福建厦门 361005摘要:半导体温度传感器是利用集成电路的工艺技术,将硅基半导体的温度敏感元件与外围电路集成在同一芯片上,与传统类型的温度传感器比较,具有灵敏度高、线性好、体积小、功耗低、易于集成等优点。
分别介绍了双极型工艺和 CMOS工艺下的半导体温度传感器的基本设计原理,并具体提出一种CMOS型集成温度传感器设计电路。
此外,还介绍了半导体温度传感器的芯片集成技术,并总结了Ic设计中出现的关键技术问题与解决方法。
关键词:半导体温度传感器;集成电路;单片系统中图分类号:TN212.11文献标识码:A 文章编号:1002—1841(200312—0001—02Semiconductor Temperature Sensor and its SoC TedmologyLIN Fan,、vU Sum-tao,GUO Dong-hui(Xiamen University,Xiamen 361005,ChinaAbstract:Using IC technology,Semiconductor temperature鸵nsor caIl realize the in 嘧tion of sensing and di西tal processing func・ tions on the班llne chip.G砌1删with otller traditional temperature se删娜,it has the advantages of 800dsensitivity,lineatrity,low power consumption,etc.Introducing the basic desi伊principles of semiconductortemt℃rature靶删,using bipolar and CMOS technology re-spectively,and妯ng forward a practical circuit of CMOS integrated temperature senfior.In additions,its system-on-chip(SoCtechnology and key technologies in the IC design am¥1Jmmalq_zed.KeyWords:Semiconductor Temperature Sensor;Integrated Circuit;System-on-Chip.1引言性。
另外,在cMOS工艺中利用寄生双极晶体管也能达到较好传统的温度传感器(如热电偶、铂电阻、双金属开关等有的传感性能。
许多局限硅,只能提供模拟信号输出,且在大多数应用中输出以往大多数的集成温度传感器是用双极型工艺实现,选择端都需要另外配置比较器、AD转换器或放大器等。
此外还受双极晶体管为温敏器件进行设计。
但是现今CMOS工艺成为到封装体积、线性表现以及准确度的制约,限制了其在微型化主导工艺,并随着Ic集成度的提高和便携式设备的普及,能在高端电子产品中的应用。
随着集成工艺的发展,半导体集成温标准数字工艺中实现的CMOS集成温度传感器具有低电源、低度传感器将辅助电路中的元件和温度传感元件同时集成在一功耗、占用面积小、易于在同一芯片上进行信号调节和信号处块芯片上,具有价格低廉、设计简单、测量精确、高度集成等优理的优点,也逐渐得到人们的重视。
以下将主要介绍这两种工点,在计算机、电信、工业控制等领域得到广泛的应用。
近年艺技术下温度传感器的设计原理,并提出一种可实际应用的集来,集成温度传感器在平均价格有所下降的同时,销售率却以成温度传感器电路。
17%。
18%的速度持续增长,2000年集成温度传感器总收人为 2.1双极晶体管的温度传感原理2.3亿美元,据估计2006年总收入将达6亿美元。
因此将介绍二极管电流包括扩散电流和耗尽层、表面层里的产生一复半导体温度传感器的设计原理及其芯片集成技术,并总结温度合电流,这些电流相对纯扩散电流有不同的温度行为,晶体管传感器IC的设计中的关键技术问题。
的基极可以吸取这部分电流,所以正向偏置的双极晶体管的集2半导体温度传感器的设计原理在以硅为基础的半导体集成电路中,可以实现温度传感功能的器件单元主要有集成电阻、MOS晶体管、硅二极管、双极晶体管和CMOS工艺下的寄生双极晶体管等。
其中,集成电阻有出色的长期稳定性,但没有较好的线性度,无法满足高精度运用的要求。
MOS晶体管的温度基本信号来自阈值电压和迁移率,主要限制因素是高温下会产生漏电流、复现能力低、容差大和长期稳定性差,在高性能要求时必须有大范围的微调和校准工作。
硅二极管和双极晶体管的PN结能产生正比于温度的电压,优点是低成本、出色的长期稳定性、高灵敏度、可预测性较高和相关温度的时间非依赖性。
缺点是受自生成热、工艺容差的影响,以及热循环后信号有小漂移和小数量级的非线*国家自然科学基金(No:60076015;福建省自然科学基金(No: A0010019,Eollo004资助项目;厦门市科技资助项目(3502220031089。
收稿日期:2003—05—07收修改稿日期:2003—07—25 电极电流基本上都是纯扩散电流。
双极晶体管的理想集电极电流‘在正向工作区与电压亿的关系式是:比=等k(毒 (1 式中:_|}是波尔兹曼常数;T是绝对温度;18是饱和电流;厶为集电极电流,c=k(r/ro。
式中:口是温度指数;Jc.是绝对温度,为%时的集电极电流。
代入式(1,经整理可得双极晶体管的基极一发射极电压的二次近似[1]:比=‰一sr小Qr(等2(2 k k+高m_口‘‰ 式中:sr=[飞一k+口%[1一万考爵]+(y 一口‰]。
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式中:%是%时的带隙电压;T是绝对温度;,=4一m,m是有效迁移率指数(空穴m=2.2,电子m=2.42;¨=KT/q; k是%温度下的基极一发射极电压;A。
是基极一发射极面积;%是基极宽度;ⅣDb是基区掺杂浓度;CTE是与温度无关的常数;,。
是在温度为%时的集电极电流。
式(3中,%。
主要由温度为%时的带隙电压k和来自带隙电位公式的a、b物理常数所决定,与晶体管尺寸无关,也基本上与工艺参数无关(只有迁移率温度指数y因基极注入浓度而稍有变化。
斜率值ST不能精确估值,主要是受到l,k 的影响。
‰受工艺参数容差的影响,但这只是影响到斜率值 .sT,没有改变初始值y妇和二次非线性项系数Qr.所以工艺制造过程参数的改变不会影响线性度,并且斜率s,的调整可通过修改晶体管几何尺寸以及集成电极偏置电流密度来完成。
QT主要是由一些物理常量所决定,在它的影响下,‰温度曲线在高温和低温处会略向下弯曲。
影响并不大,但为有更好的线性度,也可以采用二次非线性项补偿的方法对其进行补偿。
因此在不考虑二次非线性项时,通过‰与温度r之间的线性关系可以实现温度的测量。
2.2a帕S工艺下的温度传感原理对于CMOS温度传感器的设计,依据不同的传感原理,人们也提出了不同的设计方法[2-5]:利用MOS晶体管在弱反型区的电性质原理;MOS晶体管阈值电压b和增效因子卢的温度性质;环形振荡器的频率温度相关原理;单晶硅内部热扩散常数的热相关性质等。
但这些方法都各自存在一些性能上的不足,现在大多数的CMOS 温度传感器的设计是利用CMOS工艺中的寄生双极晶体管作为温度敏感元,从而达到与双极晶体管接近的温度性能。
采用的结构有CMOS纵向双极晶体管 (CVBT和CMOS横向双极晶体管(cIJI玎,如图1所示。
横向晶体管(ogr的剖面图其中,CMOS纵向双极晶体管(彻是以源漏扩散作为发射极,阱作为基区,衬底作为集电区,它的性能与典型的双极晶体管比较接近,缺点是管子的集电极被固定在芯片的衬底,使用范围受到限制。
如Penijs与Bakker用0.7tunCMOS工艺实现的该类型传感器,经二次非线性补偿后在一50—120oC的温度范围内,3盯精确度为±1.5℃,芯片面积为2.8Ⅱ击(包含 AD转换和数字接口Mj。
而CMOS横向寄生双极晶体管(CLWr,是以MOSFET的源、漏扩散为发射极和集电极,沟道区作为基区。
它的工序相对更简单,且集电极不受到限制。
其性能与典型的双极晶体管相比,不足的是沟道下迁移率的不均匀性(由于基区注入浓度的偏差,以及基极一发射极面积和基极宽度无法精确定义。
Bianchi等设计的这种类型传感器,经二次非线性项补偿后,在一50—150℃的温度范围内的均方根误差小于0.25℃,功耗低于0.55n1W[1|。
这样,在CMOS工艺中采用r这种比较简单的方法也实现了近似双极晶体温度性能的结构,实现了线性的温度测量。
2.3一种㈣S型集成温度电路的设计利用式(1的k表达式,将两个不同电流密度的匹配晶体管的叱求差值,△‰=‰一k,即为正比于绝对温度 (PrAT的电压信号:F个 ,已,‘‰=‰一‰=等h(芹=spt日lT (4‘q 。
c21’可见,若利用高精度的电流源使得这两个匹配晶体管的集电极电流相同,则‰。
直接由绝对温度和电流密度比决定,与工艺参数无关。
依据这个原理,温度可由测量△k得到,而与 PN结的初始正向电压、物理尺寸、泄漏和其他特性无关。
无论是FIAT温度信号还是发射结电压温度信号都只能在0K时实现零信号输出,若将两者结合则可以在温度接近所测温度范围的初始值%时把输出的信号定为0,而不是一定要在0K时,从而简化芯上A/D转换器的设计。
如图2,ybe与温度成线性反比关系,而y。
是与绝对温度成线性正比相关。
若把放大。
倍的‰信q--q k信号相减,便可得到具有更好的温度灵敏度的K温度信号,其斜率为‰和yk两者斜率之和,同时可以使得K信号在测温范围的初始值兄处为0。
一扩 //已 H的 //K。
aKut—kt /图2由ybe、y。
相加减构成的温度传感信号11,和带隙基准电压I,一集成数字温度传感器由于在集成系统中增加了模数转换器,所以其芯上的内部基准电源是一个重要的输出,稳定性和精确度直接影响到温度传感器的性能。
在图2中,参考电压 %的产生是通过把放大口倍的ypt砒和ybet相加,正负温度系数互相补偿,于是输出基准电压%的温度系数接近为0,以获得低温度系数的基准电压源。
图3设计的一种基于电流模式的CMOS带隙温度传感器电路。
图3左边部分是PrAT电路,Ql和Q是两个匹配的 CMOS横向双极晶体管,Q1的发射区面积是Q2的r倍,Ml和坞构成一对MOS镜像电流源,且(耽/L2/(WI儿1=P.根据镜像电流源原理,Q1和Q2的集电极电流比为:,q/I。