聚焦离子束技术介绍

二、聚焦离子束功能• 在双束系统中离子束有3种主要功能: 成像、切割、沉积/增强刻蚀二、聚焦离子束功能• 左图为黄铜样品截面的二次电子像 • (a)图为扫描电子束激发出的二次电子图

2024-02-07
聚焦离子束微纳加工技术

聚焦离子束与固体材料表面的相互作用入射入离射子离注子入注入反冲注入 入射离子背散射 二次离子发射 二次电子发射• 入射离子在与材料中的电 子和原子的不断碰撞中, 逐渐丧失能量并被固

2024-02-07
聚焦离子束加工技术及其应用

聚焦离子束加工技术及其应用摘要:。聚焦离子束(FIB)技术是把离子束斑聚焦到亚微米甚至纳米级尺寸,通过偏转系统实现微细束加工的新技术。文章简述了聚焦离子束工作原理和应用前景等。关键词:聚焦离子束、刻蚀1.聚焦离子束简介聚焦离子束(focused ion beam,FIB)与聚焦电子束从本质上讲是一样的,都是带电粒子经过电磁场聚焦形成细束。但聚焦电子束不同于聚

2024-02-07
聚焦离子束技术

第四章聚焦离子束技术(FIB)本章主要内容4.1 FIB系统介绍41FIB4.2 FIB-SEM构造及工作原理4.3 离子束与材料的相互作用4.4 FIB主要功能及应用参考书:顾文琪等,聚焦离子束微纳加工技术,北京工业大学出版社,2006。参考书:顾文琪等聚焦离子束微纳加工技术北京工业大学出版社2006。41FIB 4.1 FIB系统介绍 (Focused

2024-02-07
聚焦离子束加工系统说明

31 ConfidentialOverview - Patterning optionsDirect drawing in the UISmall number of site-s

2024-02-07
基于聚焦离子束注入的微纳加工技术研究

第28卷第1期2009年2月电 子 显 微 学 报Journal of Chinese Electron Microscopy SocietyVol 28,No 12009 2文章编号:1000 6281(2009)01 0062 06基于聚焦离子束注入的微纳加工技术研究徐宗伟1,2,房丰洲1,2*,张少婧1,陈耘辉1(1.天津大学精密测试技术及仪器国家重点

2024-02-07
聚焦离子束纳米加工

国加州休斯研究所的R.L.Seliger等人建立了第一台装有Ca离子LMIS的FIB系统,其束斑直径仅为100nm(目前已可获得只有5nm的束斑直径)。电流密度为。这给进行亚微米加

2024-02-07
聚焦离子束微纳加工技术

离子光学柱束描画系统X-Y工件台信号采集处理单元 信号采集处理单元5~10μ m+M1 +M2槽深2μ m+M3+M4 套刻对准用的“十”字标记1

2024-02-07
聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)

聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器,目前商用系统的离子束为液相金属离子源(Liquid Metal I

2024-02-07
聚焦离子束系统方法通则编制说明

教育行业标准《聚焦离子束系统方法通则》(征求意见稿)编制说明受全国教学仪器标准化技术委员会委托,本标准编写建议稿由北京科技大学作为主持修订单位,国家纳米科学中心、哈尔滨工业大学作为辅助修订单位,南京大学、西安交通大学、天津大学、重庆大学作为参加单位一起完成。在修订稿编写的过程中,积极参加编制组各次工作会议,提供编制组需要的相关参考资料,对标准的各版进行认真的

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聚焦离子束技术介绍

四、双束系统的应用• 透射电镜样品制备 – 制备流程四、双束系统的应用• 透射电镜样品制备 – 去除非晶层四、双束系统的应用• 电路编辑 – 连接和切断连接四、双束系统的应用• 电

2024-02-07
聚焦离子束技术修订稿

聚焦离子束技术WEIHUA system office room 【WEIHUA 16H-WEIHUA WEIHUA8Q8-讲习班总结7月11日(周二)1.聚焦离子束技术(FIB)定义:将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级,通过偏转系统和加速系统控制离子束扫描运动,实现微纳米图形的检测分析和微纳米结构的无掩模加工。离子源:液态金属镓应用:掩模板修复、电路修正、失

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聚焦离子束FIB

聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器,目前商用系统的离子束为液相金属离子源(Liquid Metal Ion Source,LMIS),金属材质为镓(Gallium, Ga),因为镓元素具有低熔点、低蒸气压、及良好的抗氧化力;典型的离子束显微镜包括液相金属离子源、电透镜、扫描电极、二

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聚焦离子束技术

讲习班总结7月11日(周二)1.聚焦离子束技术(FIB)定义:将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级,通过偏转系统和加速系统控制离子束扫描运动,实现微纳米图形的检测分析和微纳米结构的无掩模加工。离子源:液态金属镓应用:掩模板修复、电路修正、失效分析、透射电子显微镜样品制备、三维结构直写等方面。基本组成:离子源、电子透镜、扫描电极、二次粒子探测器、多轴多向移动的样品

2024-02-07
聚焦离子束技术

V.J. Araullo-Peters,Script Mater, 2012, 66,907College of MSE, CQU161.4 聚焦离子束的主要功能及应用(2)离子溅

2024-02-07
聚焦离子束技术

讲习班总结7月11日(周二)1.聚焦离子束技术(FIB)定义:将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级,通过偏转系统和加速系统控制离子束扫描运动,实现微纳米图形的检测分析和微纳米结构的无掩模加工。离子源:液态金属镓应用:掩模板修复、电路修正、失效分析、透射电子显微镜样品制备、三维结构直写等方面。基本组成:离子源、电子透镜、扫描电极、二次粒子探测器、多轴多向移动的样品

2024-02-07
聚焦离子束报告

• 图2.FIB系统结构示意图2013.1.4 合肥工业大学 仪器科学与光电工程学院图3.离子溅射示意图2013.1.4 合肥工业大学 仪器科学与光电工程学院FIB加工技术的应用•

2024-02-07
聚焦离子束FIB双束系统的原理和应用

2电子与 Ga+ 离子比较离子是带正电的原子核,其质量和动量分配权大于电子 (360 倍于电子),这使得FIB 具有材料切割,成像和微观沉积的功能同样束流能量下其他参数有很

2024-02-07
聚焦离子束报告PPT课件

态离子源).1978:Seliger et al发明了基于液态离子源的FIB系统,从而使FIB技术走向实用化.液态离子源发展历史 1600:Gilbert 提出液体在高张力下可形成

2024-02-07
聚焦离子束技术

讲习班总结7月11日(周二)1.聚焦离子束技术(FIB)定义:将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级,通过偏转系统和加速系统控制离子束扫描运动,实现微纳米图形的检测分析和微纳米结构的无掩模加工。离子源:液态金属镓应用:掩模板修复、电路修正、失效分析、透射电子显微镜样品制备、三维结构直写等方面。基本组成:离子源、电子透镜、扫描电极、二次粒子探测器、多轴多向移动的样品

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