````4、光刻胶光刻胶主要由树脂（Resｉn)、感光剂(Ｓｅnsｉｔizｅｒ）、溶剂（Solveｎｔ)及添加剂（Aｄdｉtiｖｅ)等不同得材料按一定比例配制而成。其中树脂就是粘合剂（Biｎder），感光剂就是一种光活性（Ｐｈotｏactivity）极强得化合物，它在光刻胶内得含量与树脂相当,两者同时溶解在溶剂中,以液态形式保存,以便于使用.4、1 光刻胶得

浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能

目录目录 (1)一、什么是光刻胶 (3)二、光刻胶的分类 (3)三、光刻胶的基本组成和技术参数 (3)四、光刻胶的发展及应用 (6)五、国内光刻胶的现状和应用 (8)六、相关技术资料 (9)1.液态光成像阻焊油墨（供借鉴） (9)2.UV可剥性涂料（供借鉴） (9)3.重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂正性光致抗蚀剂的制备与性质（供借鉴） (10)4.一种新型I-线化

Vo.l14,No.16精细与专用化学品第14卷第16期F i n e and Specialty Che m ica ls2006年8月21日市场资讯光刻胶的发展及应用郑金红*(北京化学试剂研究所,北京100022)摘 要:主要介绍了国内外光刻胶的发展历程及应用情况,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶今后的研发重点及未来的发

光刻胶

光刻胶的入门知识2009-2-7 13:05:00来源: 不详作者:佚名访问：0次字号：【小】作为图案复制用的光刻胶，主要的指标有光反应速度、光分辨率、光反应波长、针孔度、粘度等。自97年后，普通的lcd制作用光刻胶基本上都已经把光反应速度提高了一倍以上，使定向层制作前的生产能力大大提升。现在市面上的lcd制作用光刻胶光反应时间几乎都可以在10秒以下。光分辨

半导体 第十一讲 光刻胶的研究进展

作为图案复制用的光刻胶，主要的指标有光反应速度、光分辨率、光反应波长、针孔度、粘度等。自97年后，普通的LCD制作用光刻胶基本上都已经把光反应速度提高了一倍以上，使定向层制作前的生产能力大大提升。现在市面上的LCD制作用光刻胶光反应时间几乎都可以在10秒以下。光分辨率在近几年也有了很大进展，现市面上的LCD制作用光刻胶都可以做到PITCH在18微米水平。光反

光刻胶知识简介光刻胶知识简介:一.光刻胶的定义(photoresist)又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。二.

光刻胶

第二章-3(光刻胶)

光刻胶产品的介绍光刻胶产品主要适用于集成电路产业和平板显示器产业的光刻工艺，以得到精细线路。文章介绍了高世代平板显示器用光刻胶产品的性能，用途。标签：光刻胶；性能；用途前言所谓光刻胶（photoresist），是一类利用光化学反应进行精细图形转移的化学品。应用于集成电路、平板显示器、光伏电池、LED等产业。文章主要讨论用于高世代平板显示器（FPD）产业的正性

第8章光刻胶光刻胶也称为光致抗蚀剂（Photoresist，P. R.）。8.1 光刻胶的类型一、光刻胶的类型凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶，简称负胶。凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以降解反应为主的光刻胶称为正性光刻胶，简称正胶。1、灵敏度灵敏度的定义单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应

````4. 光刻胶光刻胶主要由树脂（Resin）、感光剂（Sensitizer）、溶剂（Solvent）及添加剂（Additive）等不同的材料按一定比例配制而成。其中树脂是粘合剂（Binder），感光剂是一种光活性（Photoactivity）极强的化合物，它在光刻胶内的含量与树脂相当，两者同时溶解在溶剂中，以液态形式保存，以便于使用。4.1 光刻胶的分

光刻胶

第7章光刻胶

第7章光刻胶

制造技术微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较来五星，轩建平，史铁林，杨叔子（华中科技大学微系统中心，武汉４３００７４）摘要：在ＭＥＭＳ微加工和实验过程过程中，出于制造成本、光刻胶性能的考虑，需要选用合适的光刻胶。本文介绍了常用的正性胶和负性胶以及其曝光、显影的过程，正性胶和负性胶曝光过程漫射的图形缺陷。比较了正性胶和负性胶的各种性能以及各种光刻方式下选用的正负性

光刻胶性能光刻胶性能1 引言光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被复制在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是最好的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。本文通过对正性胶和负性胶的性能比较，

光刻胶分类应用综述报告name(class ID)摘要：光刻胶是曝光技术中重要的组成部分。文章对光刻胶的概念做了简单的介绍，以及其相关的反应机理，归纳总结了光刻胶的分类及对应的应用，并对其性能指标和研究方向作了简单的概括分析。关键词：光刻胶，反应机理，分类应用，性能指标，研究方向The Report of the Review of PhotoresistN