近代物理实验报告实验题目： 1 真空获得与真空测量2 热蒸发法制备金属薄膜材料3 磁控溅射法制备金属薄膜材料班级：学号：学生姓名：实验教师：2010-2011学年第1学期实验1真空获得与真空测量实验时间： 地点： 指导学生：【摘要】本实验采用JCP-350C 型热蒸发/磁控溅射真空镀膜机，初步了解真空获得与测量的方法，熟悉使用镀膜机的机械泵和油扩散泵，能用测

实验一 真空蒸发和磁控溅射制备薄膜姓名：许航 学号：141190093 姓名：王颖婷 学号：141190083 系别：材料科学与工程系 专业：材料物理组号：A9 实验时间：3月16号本实验主要介绍真空蒸发、磁控溅射两种常用而有效的制备薄膜的工艺，以便通过实际操作对典型的薄膜工艺的原理和基本操作过程有初步的了解。一、 实验目的1、 通过实验掌握磁控溅射、真空蒸

篇一：材料分析方法实验报告篇二：材料分析方法课程设计报告材料分析测试方法课程设计（论文）题目：磁控溅射c/w多层膜成分及微观分析学院材料科学与工程专业材料化学班级材化082学生王维娜学号 3080101296指导教师陈迪春起止时间 2010.12.27-2011.1.1年材料分析测试方法课程设计任务书课程设计内容要求：掌握高分辨透射电子显微镜样品制备方法，学

梁变形实验报告（1）简支梁实验一、实验目的1、简支梁见图一，力f在跨度中点为最严重受力状态，计算梁内最危险点达到屈服应力时的屈服载荷fs；2、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时，计算和实测梁的最大挠度和支点剖面转角，计算相对理论值的误差；3、在梁上任选两点，选力f的适当大小，验证位移互等定理；4、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时，实测梁的挠度曲线（至少

物理学本科专业近代物理实验报告实验题目： 1 真空获得与真空测量2 热蒸发法制备金属薄膜材料3 磁控溅射法制备金属薄膜材料班级：***学号：***学生姓名：***实验教师：***2014-2015学年第1学期实验1真空获得与真空测量地点：福煤实验楼D 栋405【摘要】本文介绍了真空技术的有关知识，阐述了低真空和高真空的获得与测量方法。 【关键词】机械泵；扩散

实验一磁控溅射法制备薄膜材料一、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。二、实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。三、

各向异性磁电阻测量实验摘要：本文阐述了各向异性磁电阻的实验原理及测量方法，分别测量了电流方向与磁场方向平行和垂直两种情况下电阻虽磁场的变化,最后对本实验进行了讨论。关键词：各向异性磁电阻、AMR曲线、磁电阻测量引言一般所谓磁电阻是指在一定磁场下材料电阻率改变的现象。1988年，在分子束外延制备的Ｆｅ／Ｃｒ多层膜中发现ＭＲ可达50％。并且在薄膜平面上，磁电阻是

,显示器件设计制作实验报告)一、实验目的通过只做表面传到电子发射源的实验过程，了解平板显示器件核心部件的工作原理及制作方法，熟悉磁控溅射镀膜、光刻、丝网印刷、真空系统中电子发射测试等在显示器件中的应用。二、实验任务…通过学习实践平板显示器件的制作过程，结合所学知识，深刻认识场致电子发生的机理和应用，了解平板显示技术。1、学习、了解表面传导电子发射源的原理以及

竭诚为您提供优质文档/双击可除磁控溅射实验报告篇一：薄膜实验报告,磁控溅射与高真空成膜电子科技大学实验报告姓名：郭章学号：20XX054020XX2指导教师：许向东日期：20XX年6月12日一，实验室名称：光电楼薄膜制备实验室二，实验项目名称：有机多功能高真空成膜设备的使用及其注意事项三，实验原理有机oLeD器件的制备流程分为：ITo玻璃清洗→光刻→再清洗→

实验一、表面纳米化实验一、实验设备：普通数控车床，USP-125表面加工装置，待加工钢锭。二、实验原理：应用球形超硬材料工具头对金属工件表面进行表面强化和光整加工，原理图如下所示：超声波发生器产生的超声信号经过换能器变幅杆的转换和放大使球形工具头产生超声波机械振动，工具头以一定静压力对工件挤压的同时，对工件表面进行超声波冲击强化。在工具头静压力和冲击力的作用

显示器件设计制作实验报告一、实验目的通过实验，了解SED的制作原理和大致工艺流程，掌握加工工艺中的一部分简单操作，加深对显示器制作工艺的认识。二、实验原理SED基本原理是由电子撞击荧光材料发光。SED将涂有荧光材料的玻璃板与铺有大量微型电子发射器的玻璃底板平行摆放，而其中的微型电子发射器就是像素。SED显示技术不需要电子束扫描，它和PDP、LCD一样，都是“

高真空磁控溅射镀膜系统介绍1.设备简介●名称：高真空磁控溅射镀膜系统●型号：JGP560●极限真空：6.60E-05 Pa●最高可控可调温度：500℃（1个样品位）●3个靶位，8个样品位2.真空简介●真空是一种不存在任何物质的空间状态，是一种物理现象。在“真空”中，声音因为没有介质而无法传递，但电磁波的传递却不受真空的影响。事实上，在真空技术里，真空系针对大

实验一磁控溅射法制备薄膜材料一、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。二、实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。三、

直流磁控溅射镀膜与膜表征

东南大学材料科学与工程实验报告学生姓名徐佳乐班级学号12011421 实验日期2014/9/2 批改教师课程名称电子信息材料大型实验批改日期实验名称射频磁控溅射制备薄膜材料报告成绩一、实验目的1、掌握射频磁控溅射原理；2、了解射频磁控溅射操作技术；二、实验原理当直流溅射沉积绝缘性材料时，绝缘层表面不断积累电荷，产生的电场与外加电压抵消，直流辉光放电不能持续进

实验一、表面纳米化实验一、实验设备：普通数控车床，USP-125表面加工装置，待加工钢锭。二、实验原理：应用球形超硬材料工具头对金属工件表面进行表面强化和光整加工，原理图如下所示：超声波发生器产生的超声信号经过换能器变幅杆的转换和放大使球形工具头产生超声波机械振动，工具头以一定静压力对工件挤压的同时，对工件表面进行超声波冲击强化。在工具头静压力和冲击力的作用

出电ift密度实验一磁控溅射法制备薄膜材料一、实验目的1 、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3 、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。二、实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气

等离子体放电原理与焊接——不锈钢表面镀膜烙铁钎焊实验姓名********* 学号*********一、实验目的学习本课程的教学目的在于培养学生：1、了解多弧放电技术的应用及优缺点；2、熟悉真空离子镀膜专用设备、设备构造原理及使用方法。3、感悟学科的交叉，学以致用。二、实验装置及实验材料2.1 实验装置（1）DHJ-800型多功能等离子体处理平台机（2）超声清

篇一：磁控溅射镀膜实验报告近代物理实验磁控溅射镀膜宋爽核12 2011011723 指导老师：王合英 2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系，并在载玻片上镀上了铜膜。关键词：磁控溅射镀膜，辉光放电，溅射速率，溅射气压、溅

薄膜制备实验指导书实验一磁控溅射法制备金属薄膜一、实验目的1、了解磁控溅射实验原理2、学会操作磁控溅射仪3、了解影响薄膜质量的因素二、基本原理1、薄膜制备过程溅射沉积是一种物理气相沉积法，利用带有电荷的离子在电场中加速具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的靶材。溅射过程是轰击粒子与靶原子之间能量传递的结果。在轰击离子能量合适的情况下，在与靶材表面的原子碰撞