液晶显示器模组黑态均匀性改善研究

第３２卷㊀第４期２０１７年４月㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀C h i n e s e J o u r n a l o fL i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ㊀㊀㊀㊀㊀V o l ．３２㊀N o ．４㊀A pr ．２０１７㊀㊀收稿日期:２０１６Ｇ０８Ｇ２３;修订日期:２０１６Ｇ１０Ｇ１８．㊀㊀∗通信联系人,E Ｇm a i l :ya n r u nb a o ＠b o e ．c o m．c n 文章编号:１００７Ｇ２７８０(２０１７)０４Ｇ０２６９Ｇ０６T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善肖㊀洋,周㊀鹏,闫润宝∗,郑云友,齐勤瑞,魏崇喜,章㊀旭,张㊀然(北京京东方显示技术有限公司,北京１００１７６)摘要:T F T ＧL C D 面板在屏幕上有斑点或波浪状M u r a ,影响液晶显示器的品质,经过图形匹配,缺陷与曝光机机台形貌匹配.通过对异常区域特性分析,发现异常区域的B M C D ㊁B M 像素间距存在异常.对原因进行模型分析:玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,曝光距离变短,致使B M P R 受光区域变小,B M C D 会偏小,进而导致区域性透过光不均一产生M u r a ;玻璃弯曲后B M 像素间距相对于设计位置也会发生变化,从而导致漏光产生M u r a .经过实验验证,B M C D 和像素间距的偏差主要由机台凸起导致g l a s s 弯曲引起,可以通过降低吸附压力和研磨机台,来改善C D 差异和像素间距偏移,同时像素间距偏移漏光,也可以通过增加C D 来改善.最终通过B M C D 增加㊁研磨机台和降低吸附压力措施,S t a geM u r a 不良率由１０．０５％下降至０．１１％.关㊀键㊀词:薄膜晶体管液晶显示器;色斑;线宽;像素间距中图分类号:T N １４１．９㊀㊀文献标识码:A㊀㊀d o i :１０．３７８８/Y J Y X S ２０１７３２０４．０２６９R e s e a r c ha n d i m p r o v e m e n t o fT F T ＧL C DS t a g eM u r a X I A O Y a n g ,Z HO U P e n g ,Y A N R u n Ｇb a o ∗,Z H E N G Y u n Ｇy o u ,Q IQ i n Ｇr u i ,W E IC h o n gＧx i ,Z H A N G R a n ,Z H A N G X u (B e i j i n g B O E D i s p l a y T e c h n o l o g y C o ．,L t d ．,B e i j i n g １００１７６,C h i n a )A b s t r a c t :T h es p o t t e da n ds t r i p e d M u r ao n T F T ＧL C D P a n e ld e g r a d e d p r o d u c t q u a l i t y．T h ed e f e c t p a t t e r nm a t c h e d t h e e x p o s u r es t a g eb y a n a l y z i n g．I tw a s f o u n dt h a t t h eB M C Da n dP i x e lP i t c ha r e a b n o r m a l t h r o u g hr e s e a r c h i n g t h ea b n o r m a la r e ac h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．M o d e la n a l ys i sb a s e do n S t a g eM u r a i n d i c a t e d t h a t t h eb e n d i n g o f g l a s s o ns t a g e s h o r t e d t h eE x p o s u r e g a p ,w h i c hs h r a n k t h e E x p o s u r e a r e a ,a n dm i n i f i e dC Da n d f o r m e d t r a n s m i t t a n c e d i f f e r e n c e ．T h e b e n d i n g o f gl a s s a l s o s h i f t e d t h eP i x e l P i t c h ,w h i c h r e s u l t e d i n l i g h t l e a ka n d M u r a ．T h e e x p e r i m e n t s h o w e d t h a t t h ed i f f e r e n c eo f B M C Da n dP i x e l P i t c hw e r e c a u s e d b y S t a g e f l a t n e s s ,w h i c h c o u l d b e i m p r o v e d b y p o l i s h i n g s t a ge a n d d e c r e a s i n g v a c u u m a d s o r p t i o n p r e s s u r e ．T h el i g h tl e a k o fP i x e lP i t c hc o u l d b ea l s oi m p r o v e d b ye x t e n d i n g C D．F i n a l l y ,t h e C F B M s t a g e M u r a w a si m p r o v e d g r e a t l y b y C D i n c r e a s i n g ,s t a g e p o l i s h i n g ,a n d v a c u u ma d s o r p t i o n p r e s s u r e d e c r e a s i n g ,a n d t h e S t a geM u r a d e f e c t r a t i o d e c r e a s e d f r o m １０ ５％t o ０．１１％．K e y wo r d s :T F T ＧL C D ;M u r a ;C D ;p i x e l p i t c h . All Rights Reserved.１㊀引㊀㊀言㊀㊀薄膜晶体管液晶显示器(T F TＧL C D)能够产生色彩的变化,主要是来自彩色滤光片(C o l o r F i l t e r,即C F).液晶面板是通过驱动集成电路(I C)的电压改变,使液晶分子排列呈站立或扭转状,形成闸门来选择背光源光线穿透与否,并通过彩色滤光片的红(R)㊁绿(G)㊁蓝(B)三种彩色层提供色相,形成彩色画面.随着T F TＧL C D高世代量产线投产以及更大尺寸L C D面板的研制,与之配套的大尺寸㊁高分辨率彩色滤光片的品质显得越发重要,M u r a是评价彩色滤光片宏观视觉品质的关键参数,因此对生产工艺中产生的M u r a 也管控越来越严格.(M u r a一词源自日语,是液晶面板生产过程中出现的各种色斑类不良现象总称[１Ｇ２])目前国内主要研究了C e l l和A r r a y工艺的T o u c h M u r a㊁Z a r aM u r a和R u b b i n g M u r a,很少有人进行C F M u r a的研究与改善,尤其是黑矩阵(B l a c k m a t r i x,简称B M)S t a g e M u r a的形成机理研究与改善[３Ｇ５].本文通过对２１．５T N(T w i s t e d N e m a t i c)产品模组段未确认M u r a,进行与设备图形匹配,找出造成该缺陷的设备,同时进行M u r a区域B M特性数据测量,分析B M C D(C r i t i c a lD i m e n s i o n),像素间距(即B M P a t t e r n相对于设计位置的偏移量)是否存在异常,B M P a t t e r n与玻璃平面的夹角(T a p e 角)和膜层厚度是否异常,对M u r a形成机理进行模型分析,并试验验证,最后提出合理的改善方法,使S t a g eM u r a得到了很大的改善.２㊀现象和试验思路２．１㊀不良现象B M S t a g eM u r a在下游工艺模组段能够被检出,现象为白色发亮的圆斑和波浪线,如图１左侧所示,该不良位置㊁大小等均与B M曝光机特有机台结构相吻合,如图１右侧所示.可以断定这种缺陷形貌是由B M E X PS t a g e产生,在M a c r o(宏观检查机)观察B M工艺产品,在特定光源角度下可以被检出,缺陷形态与图１左侧一致.统计B M S t a g e M u r a从高发期至改善结束(a)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(b)(c)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(d)图１㊀B M S t a g e M u r a与曝光机基台结构．(a)圆斑M u r a,(b)圆斑曝光机基台结构,(c)波浪线M u r a,(d)波浪线曝光机基台结构F i g．１㊀B M S t a g eM u r a a n d e x p o s u r e s t a g e s t r u c t u r e．(a)S p o t t e d M u r a;(b)S p o t t e de x p o s u r es t a g es t r u c t u r e;(c)S t r i p e d M u r a;(d)S t r i p e de x p oＧs u r e s t a g e s t r u c t u r e模组段不良发生率,如图２所示.模组段不良最高时发生率达１０．０５％,对品质影响巨大,经过后续一系列测试改善,不良发生率最终降至０．１１％.图２㊀B M S t a g eM u r a模组段不良发生率F i g．２㊀B M S t a g eM u r am o d u l e d e f e c t r a t i o ２．２㊀试验思路由于B M S t a g eM u r a发生原因明确,因此对B M相关特性参数进行详细测量,通过数据分析不良机理及改善方向.随机抽取一块模组段不良屏,分别测量C D㊁像素间距㊁膜层厚度及T B M p a t t e r n与玻璃平面夹角,测量结果如图３所示.０７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.(a)(b)(c)(d)图３㊀B M S t a geM u r a 不良屏特性相关参数．(a )不良屏B M C D 数据;(b )不良屏B M P i x e lP i t c hd a t a ;(c )不良屏B M 膜厚数据;(d )不良屏B M T a pe 角数据F i g ．３㊀B M S t a geM u r a c h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．(a )B M C Dd a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(b )B M P i x e l P i t c h d a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(c )B M T h i c k n e s sd a t a o fa b n o r m a l p a n e l ;(d )B M T a p e a n gl e o f a b n o r m a l p a n e l ㊀㊀从上述数据可以看出:M u r a 区C D 较O K 区偏小０．５μm ,像素间距发生偏移成对称性偏移,像素间距数值为１．５２(S p e c ＜１),B M T a p e 角和膜厚数据则无变化.由此推断出B MS t a g eM u r a 与上述两种发生变化特性参数有关.基于B M 工艺特点及曝光机结构特点,对S t a g eM u r a 发生机理构建下述模型:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生玻璃弯曲,E x p o s u r eG a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小;②玻璃弯曲后B MP a t t e r n 相对于设计位置也会发生变化,故像素间距会呈现对称性偏移.简单机理描绘图如图４所示.图４㊀S t a geM u r a 发生机理模型构建F i g ．４㊀S t a geM u r a g e n e r a t i o nm e c h a n i s m m o d e l 通过构建机理模型分析,初步认为B MS t a geM u r a 发生根本原因为玻璃弯曲导致B M P a t t e r n 发生偏移导致漏光,同时B M C D 偏小导致局部区域透光过大.从生产工艺及设备实际情况出发,以曝光工艺变更及设备变更为改善方向.３㊀实验和分析３．１㊀工艺相关３．１．１㊀B M C D 改善测试工艺方面,通过增加B M C D ,达到减弱B M 漏光的目的.由于B M C D 增加后,会导致产品透过率下降,因此为了弥补产品透过率,将R G B 像素膜厚相应减薄,以补偿由于B M C D 增加而降低的透过率,实现平衡.针对２１．５T N 产品,B M C D 由２８．２μm 增加到２９μm (产品透过率下降０．９５％),为了弥补透过率的下降,R G B 像素膜厚,相应由２ ２５μm 下降到２．２１μm (产品透过率提高０ ９５％),实现平衡(见表１),并且相关信赖性评价１７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.无异常(见表２).通过上述工艺优化调整,达到减弱B M 漏光(见图４),最终实现B M S t a g eM u r a 不良发生率(MM T R e s u l t _Q 级)由６．４３％降低为２ ２１％(下降３．６２％),改善效果明显.表１㊀２１．５T NB M C D 透过率模拟结果T a b ．１㊀t r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T NB M C DB MCD (μm )透过率/％T r ．/％R GB１５０n m １３５n m R a t i o/％２８．２５２．３０４８．７０５．４０５．２７Ｇ２８．５５２．１０４８５．３７５．２４０．５７２８．７５５２．００４７．８０５．３６５．２３０．７６２９５１．９０４７．５０Ｇ５．２２０．９５２９．２５５１．８０４７．２０５．３４５．２１１．１４２９．５５１．５０４６．９０５．３１５．１８１．７１２９．７５５１．２０４６．６０５．２８５．１５２．２８表２㊀２１．５T N R G B 膜厚透过率模拟结果T a b ．２㊀T r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T N R G BT h i c k n e s sR G BT h i c k (μm )色域/％T r ．/％１５０n m１３５n m R a t i o (ʏ)/％２．２５７３．７０７２．３＠５．４５．２７Ｇ２．２４７３．５０７２．１＠５．４１５．２８０．１９２．２３７３．３０７１．９＠５．４２５．２９０．３８２．２２７３．１０７１．７＠５．４３５．３００．５７２．２１７２．９０７１．５＠５．４５５．３２０．９５２．２７２．７０Ｇ５．３３１．１４２．１９７２．５０７１．１＠５．４７５．３４１．３３２．１８７２．２０７０．９＠５．４８５．３５１．５２表３㊀２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm 信赖性评价结果T a b ．３㊀R e l i a b i l i t y a s s e s s r e s u l t o f ２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm T e s t I t e mS p e c A v g．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．C h r o m a t i c i t yW x０．３１３０．３２１０．３０５W y０．３２９０．３３８０．３２０C o l o rG a m u tＧ７４．３７３．０色温６５００６０３０７０４５O KM a xB r i g h t (W ２５５)C e n t e r ２００２１７２６５O K M i nB r i gh t (０００)C e n t e r Ｇ０．２２３０．２９８O K２７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.续㊀表T e s t I t e mS pe c A v g ．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．U n i f o r m i t y(W ２５５)９P o i n t s ８０８２８６O KG r a y S c a l e L ２５５１００．００１００．００１００．００L １２７２１．５８２４．１１２１．３６L ００．０００．１００．１１g a mm a ２．２１．９５２．１６O KC o n t r a s t r a t i o C e n t e r ６００９７４８８９O K C r o s s ＧT a l kH X (％)Ｇ０．４０％０．３７％V X (％)Ｇ０．２７％０．１９％O KR e s po n s eT i m e T r ．１．５４．２４３．９５T f ３．５１．０２１．３９T r ＋T f ５５．２６５．３４O KG r e e n i s h １D o tＧ０．００４０．００３１＋２D o t Ｇ０．００３０．００２２D o t Ｇ０．００５０．００５O K T R５．００％５．０６％４．９７％O K３．２㊀设备相关图５㊀曝光基台C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构F i g ．５㊀E x p o s u r eC h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e s t r u c t u r e ３．２．１㊀曝光机基台吸附压力改善测试设备方面,在曝光过程中需要通过真空吸附将玻璃吸附在基台表面,因此在吸附过程中,会导致与基台C h u c kF l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构接触区域的玻璃发生凸起,每个基台上有１４处C h u c k F l a t n e s s A d ju s t H o l e 结构(见图５),导致E x p o s u r eG a p 变小,光路衍射角较小,曝光后形成的C D 较小.同时,玻璃凸起曝光形成的B M C DP a t t e r n 发生偏移.B M C D 较小导致该区域透过光相对正常区域多,同时C DP a t t e r n 发生偏移,导致此处漏光.最终产生B M S t a ge M u r a .为了减弱基台吸附玻璃过程中,导致的特定区域处玻璃弯曲凸起,因此在保证玻璃可以被正常吸附的前提下,将基台吸附压力由－３０k P a 下降到－２０k P a.通过上述吸附压力优化调整,实现B M S t a g e M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由２．２１％降低为１．２４％(ˌ０．９７％),改善效果明显.图６㊀改善后B M C D 数据F i g ．６㊀I m pr o v e dB M C DD a t a ３．２．２㊀曝光机基台研磨测试设备方面,为了彻底改善曝光过程中由于基台真空吸附导致的玻璃弯曲凸起导致的B M 漏光(见图６),因此采取对基台C h u c k F l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构(见图５)进行研磨作业,已达到降低玻璃弯曲凸起的目的,改善B MS t a geM u r a .３７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构凸起高度为０．２mm~０．３mm ,使用油石进行研磨,研磨去掉０．０２mm .研磨后测量特性数据,B M C D M u r a 区域比正常区域小０．３μm ,相比改善前的０．５μm 有所改善,同时测量像素问题数值为０．５３,相比改善前的１．５２改善很多(见图７).通过上述基台研磨调整,实现B M S t a ge M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由１．２４％降低为０ １１％(ˌ１ １３％),图７㊀改善后B M 像素间距数据F i g ．７㊀I m pr o v e dB M P i x e l P i t c hD a t a 不良彻底改善.４㊀结㊀㊀论本文通过对S t a geM u r a 相关特性数据(B M C D ㊁像素间距㊁膜厚㊁T a pe 角)测量分析,发现S t a g eM u r a 产生原因如下:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,E x p o ．G a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小,容易发生漏光;②同时玻璃弯曲后B M P a t t e r n 相对于设计位置也会发生偏移,故像素间距会呈现对称性偏移,也会导致漏光.通过实验验证,B M C D 偏小和像素间距的偏差可以通过增加B M C D ,曝光机基台吸附压力降低和研磨机台,来进行改善.最终通过上述有效措施,S t a ge M u r a 不良得到彻底改善,模组段不良生率达由１０．０５％下降至０．１１％.参考文献:[１]㊀毕昕,丁汉．T F T ＧL C D M u r a 缺陷机器视觉检测方法[J ]．机械工程学报,２０１０．４６(１２):１３Ｇ１９．B IX ,D I N G H．M a c h i n e v i s i o n i n s p e c t i o nm e t h o d o fM u r a d e f e c t f o rT F T ＧLCD [J ]．J o u r n a l o f M e c h a n i c a lE n gi Ｇn e e r ,２０１０,４６(１２):１３Ｇ１９．(i nC h i n e s e)[２]㊀黄锡珉．液晶显示技术发展轨迹[J ]．液晶与显示,２００３,１８(１):１Ｇ６．HU A N G X M．R o a d Ｇm a p o fL C Dt e c h n o l o g y [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l sa n d D i s p l a ys ,２００３,１８(１):１Ｇ６．(i nC h i n e s e)[３]㊀周雷,徐苗,吴为敬,等．大尺寸金属氧化物T F T 面板设计分析[J ]．发光学报,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．Z HO U L ,X U M ,WU WJ ,e t a l ．D e s i g na n a l y s i so f l a r g es i z em e t a l o x i d eT F T p a n e l [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o fL u m i n e s c e n c e ,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．(i nC h i n e s e )[４]㊀桑胜光,车晓盼,王嘉黎,等．高P P IA D S 产品白M u r a 不良产生原理及改善研究[J ]．液晶与显示,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．S HA N GSG ,C H EXP ,WA N GJL ,e t a l ．P r i n c i p l ea n d i m p r o v i n g r e s e a r c ho fw h i t e M u r ad e f e c t i nh i g hP P I A D S p r o d u c t [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．(i nC h i n e s e )[５]㊀车春城．广视角F F S 技术C E L L 研究与设计[D ]．成都:电子科技大学,２００７．C H ECC ．T h e r e s e a r c h a n d d e s i g n o f t h e t e c h n i q u e o f F F SC E L Lw i t hw i d e a n g l e o f v i e w [D ]．C h e n gd u :U n i ve r s i Ｇt y o fE l e c t r o n i cS c i e n c e a n dT e c h n o l o g y ofC h i n a ,２００７．(i nC h i n e s e )作者简介:肖洋(１９８７－),男,天津人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l:x i a o y a n g＠b o e ．c o m．c n 周鹏(１９８７－),男,湖北人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :z h o u p e n g ＠b o e ．c o m．c n 闫润宝(１９８３－),男,吉林人,硕士,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :ya n Ｇr u nb a o ＠b o e ．c o m．c n４７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.。

侧入式背光模组亮度均匀性的提高设计摘要：为了解决侧入式背光源因LED线性光源的亮度不均匀而引起背光模组亮度均匀度偏低的现象，对于存在并联线路的侧入式背光模组灯条，提出一种各串LED总布线路长度相同的布线设计。

对这种布线设计进行了电性分析，证明了该布线设计在提高LED线性光源亮度均匀性具有可行性。

对这种灯条布线设计的光学效果进行实验验证，并用于21.5寸侧入式背光模组。

实验结果表明：该布线设计可以使不同串LED的电流趋于一致，各并联支路的LED串的发光亮度接近，能够较好地提高侧入式背光模组面内的均匀性。

关键词：侧入式背光模组亮度均匀性线路板布线引言：随着时代与技术的发展，人们对液晶显示模组的追求和要求越来越高。

随着近几年超薄概念的诞生，侧入式显示模组因其扁平、美观、时尚的特性大受欢迎。

由于液晶显示屏本身不发光，背光模组的作用是为液晶显示屏提供亮度合适且分布均匀的光源，所以为液晶显示模组提供所有光源的背光模组发挥着十分重要的作用。

对于侧入式液晶显示模组，背光模组的亮度均匀性决定了其面内的亮度均匀性，而背光模组的亮度均匀性很大程度上又受其“线性”光源LED灯条的影响。

1 侧入式背光模组目前背光模组根据入光方式的不同，可以分为直下式和侧入式两种。

其中侧入式背光模组是光源射出的光由导光板的侧边入射到导光板内进行混光转化为面光源，经过导光板的传导然后从导光板的正面射出，导光板上还有扩散片和棱镜片等对光起到扩散和收聚作用。

侧入式背光模组的亮度均匀性主要是受入射光源的亮度均匀性和导光板的网点影响，其中光源的亮度均匀性影响最大，导光板网点作用次之。

侧入式背光模组的光源一般为线光源，随着LED技术的兴起与发展，具有节能、轻薄、寿命长、发光稳定等优势的LED逐渐代替了传统的冷阴极荧光灯（CCFL）成为侧入式背光模组的主要光源，现行侧入式背光模组多是通过使用贴有多颗LED点光源的灯条作为其线性光源。

2 传统灯条线路板布线根据LED的光电特性，可知LED的亮度随其驱动电流的大小而不同，在额定电压下，其亮度几乎和其驱动电流直接成正比关系。

led显示屏的色彩均匀度校正方法下载提示：该文档是本店铺精心编制而成的，希望大家下载后，能够帮助大家解决实际问题。

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OLED制程中暗点不良的产生与改善研究OLED（Organic Light-Emitting Diode）是一种使用有机材料发射光的显示技术。

然而，与其他显示技术相比，OLED制程中存在着一种不良现象，暗点。

暗点是指在OLED显示屏上出现的一些无法显示亮度的小区域，这不仅会影响显示效果，还可能降低显示屏的寿命。

因此，研究暗点的产生和改善方法是非常重要的。

在OLED制程中，暗点主要是由以下几个因素引起的：1.不均匀的有机物分布：OLED显示屏使用有机物分子作为发光层，不均匀分布的有机物会引起暗点的产生。

有机物分布不均匀的原因可能是材料本身的不均匀性，或是制程过程中的一些因素影响了有机物在显示屏上的分布。

因此，改善有机物的均匀分布是解决暗点问题的一种方法。

2.不良的电极结构：电极在OLED中起到电子注入和电荷传输的作用，不良的电极结构可能导致电子注入不均匀，从而引起暗点。

改善电极结构设计，提高电子注入均匀性，可以减少暗点的产生。

3.缺陷和杂质：制程过程中的缺陷和杂质也可能导致暗点的产生。

杂质的存在可能会影响有机物的发光性能，从而产生暗点。

因此，在制程中控制杂质的含量和分布，可以改善暗点问题。

针对以上问题，研究者提出了一些改善暗点的方法：1.优化有机材料的制备过程：通过改变有机材料的制备条件、溶液浓度等参数，可以改善有机材料的均匀分布性，从而减少暗点的产生。

2.优化电极结构：改变电极材料和结构，提高电子注入均匀性，减少暗点的产生。

例如，使用导电聚合物作为电极材料，可以提高电子注入的均匀性。

3.提高制程的控制和净化：优化制程参数，提高制程的稳定性和控制性，减少缺陷和杂质的产生，从而减少暗点的发生。

4.光学修正技术：通过在OLED显示屏上加入光学修正元件，如微透镜阵列或光补偿层，可以补偿暗点的存在，提高显示效果。

总之，在OLED制程中研究暗点不良的产生和改善方法，可以提高OLED显示屏的质量和寿命。

未来，随着对OLED技术的深入研究，相信对暗点问题也将有更深入的理解和解决方案的提出。