LCD彩色滤光片行业调查报告

第３２卷㊀第４期２０１７年４月㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀C h i n e s e J o u r n a l o fL i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ㊀㊀㊀㊀㊀V o l ．３２㊀N o ．４㊀A pr ．２０１７㊀㊀收稿日期:２０１６Ｇ０８Ｇ２３;修订日期:２０１６Ｇ１０Ｇ１８．㊀㊀∗通信联系人,E Ｇm a i l :ya n r u nb a o ＠b o e ．c o m．c n 文章编号:１００７Ｇ２７８０(２０１７)０４Ｇ０２６９Ｇ０６T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善肖㊀洋,周㊀鹏,闫润宝∗,郑云友,齐勤瑞,魏崇喜,章㊀旭,张㊀然(北京京东方显示技术有限公司,北京１００１７６)摘要:T F T ＧL C D 面板在屏幕上有斑点或波浪状M u r a ,影响液晶显示器的品质,经过图形匹配,缺陷与曝光机机台形貌匹配.通过对异常区域特性分析,发现异常区域的B M C D ㊁B M 像素间距存在异常.对原因进行模型分析:玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,曝光距离变短,致使B M P R 受光区域变小,B M C D 会偏小,进而导致区域性透过光不均一产生M u r a ;玻璃弯曲后B M 像素间距相对于设计位置也会发生变化,从而导致漏光产生M u r a .经过实验验证,B M C D 和像素间距的偏差主要由机台凸起导致g l a s s 弯曲引起,可以通过降低吸附压力和研磨机台,来改善C D 差异和像素间距偏移,同时像素间距偏移漏光,也可以通过增加C D 来改善.最终通过B M C D 增加㊁研磨机台和降低吸附压力措施,S t a geM u r a 不良率由１０．０５％下降至０．１１％.关㊀键㊀词:薄膜晶体管液晶显示器;色斑;线宽;像素间距中图分类号:T N １４１．９㊀㊀文献标识码:A㊀㊀d o i :１０．３７８８/Y J Y X S ２０１７３２０４．０２６９R e s e a r c ha n d i m p r o v e m e n t o fT F T ＧL C DS t a g eM u r a X I A O Y a n g ,Z HO U P e n g ,Y A N R u n Ｇb a o ∗,Z H E N G Y u n Ｇy o u ,Q IQ i n Ｇr u i ,W E IC h o n gＧx i ,Z H A N G R a n ,Z H A N G X u (B e i j i n g B O E D i s p l a y T e c h n o l o g y C o ．,L t d ．,B e i j i n g １００１７６,C h i n a )A b s t r a c t :T h es p o t t e da n ds t r i p e d M u r ao n T F T ＧL C D P a n e ld e g r a d e d p r o d u c t q u a l i t y．T h ed e f e c t p a t t e r nm a t c h e d t h e e x p o s u r es t a g eb y a n a l y z i n g．I tw a s f o u n dt h a t t h eB M C Da n dP i x e lP i t c ha r e a b n o r m a l t h r o u g hr e s e a r c h i n g t h ea b n o r m a la r e ac h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．M o d e la n a l ys i sb a s e do n S t a g eM u r a i n d i c a t e d t h a t t h eb e n d i n g o f g l a s s o ns t a g e s h o r t e d t h eE x p o s u r e g a p ,w h i c hs h r a n k t h e E x p o s u r e a r e a ,a n dm i n i f i e dC Da n d f o r m e d t r a n s m i t t a n c e d i f f e r e n c e ．T h e b e n d i n g o f gl a s s a l s o s h i f t e d t h eP i x e l P i t c h ,w h i c h r e s u l t e d i n l i g h t l e a ka n d M u r a ．T h e e x p e r i m e n t s h o w e d t h a t t h ed i f f e r e n c eo f B M C Da n dP i x e l P i t c hw e r e c a u s e d b y S t a g e f l a t n e s s ,w h i c h c o u l d b e i m p r o v e d b y p o l i s h i n g s t a ge a n d d e c r e a s i n g v a c u u m a d s o r p t i o n p r e s s u r e ．T h el i g h tl e a k o fP i x e lP i t c hc o u l d b ea l s oi m p r o v e d b ye x t e n d i n g C D．F i n a l l y ,t h e C F B M s t a g e M u r a w a si m p r o v e d g r e a t l y b y C D i n c r e a s i n g ,s t a g e p o l i s h i n g ,a n d v a c u u ma d s o r p t i o n p r e s s u r e d e c r e a s i n g ,a n d t h e S t a geM u r a d e f e c t r a t i o d e c r e a s e d f r o m １０ ５％t o ０．１１％．K e y wo r d s :T F T ＧL C D ;M u r a ;C D ;p i x e l p i t c h . All Rights Reserved.１㊀引㊀㊀言㊀㊀薄膜晶体管液晶显示器(T F TＧL C D)能够产生色彩的变化,主要是来自彩色滤光片(C o l o r F i l t e r,即C F).液晶面板是通过驱动集成电路(I C)的电压改变,使液晶分子排列呈站立或扭转状,形成闸门来选择背光源光线穿透与否,并通过彩色滤光片的红(R)㊁绿(G)㊁蓝(B)三种彩色层提供色相,形成彩色画面.随着T F TＧL C D高世代量产线投产以及更大尺寸L C D面板的研制,与之配套的大尺寸㊁高分辨率彩色滤光片的品质显得越发重要,M u r a是评价彩色滤光片宏观视觉品质的关键参数,因此对生产工艺中产生的M u r a 也管控越来越严格.(M u r a一词源自日语,是液晶面板生产过程中出现的各种色斑类不良现象总称[１Ｇ２])目前国内主要研究了C e l l和A r r a y工艺的T o u c h M u r a㊁Z a r aM u r a和R u b b i n g M u r a,很少有人进行C F M u r a的研究与改善,尤其是黑矩阵(B l a c k m a t r i x,简称B M)S t a g e M u r a的形成机理研究与改善[３Ｇ５].本文通过对２１．５T N(T w i s t e d N e m a t i c)产品模组段未确认M u r a,进行与设备图形匹配,找出造成该缺陷的设备,同时进行M u r a区域B M特性数据测量,分析B M C D(C r i t i c a lD i m e n s i o n),像素间距(即B M P a t t e r n相对于设计位置的偏移量)是否存在异常,B M P a t t e r n与玻璃平面的夹角(T a p e 角)和膜层厚度是否异常,对M u r a形成机理进行模型分析,并试验验证,最后提出合理的改善方法,使S t a g eM u r a得到了很大的改善.２㊀现象和试验思路２．１㊀不良现象B M S t a g eM u r a在下游工艺模组段能够被检出,现象为白色发亮的圆斑和波浪线,如图１左侧所示,该不良位置㊁大小等均与B M曝光机特有机台结构相吻合,如图１右侧所示.可以断定这种缺陷形貌是由B M E X PS t a g e产生,在M a c r o(宏观检查机)观察B M工艺产品,在特定光源角度下可以被检出,缺陷形态与图１左侧一致.统计B M S t a g e M u r a从高发期至改善结束(a)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(b)(c)㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀(d)图１㊀B M S t a g e M u r a与曝光机基台结构．(a)圆斑M u r a,(b)圆斑曝光机基台结构,(c)波浪线M u r a,(d)波浪线曝光机基台结构F i g．１㊀B M S t a g eM u r a a n d e x p o s u r e s t a g e s t r u c t u r e．(a)S p o t t e d M u r a;(b)S p o t t e de x p o s u r es t a g es t r u c t u r e;(c)S t r i p e d M u r a;(d)S t r i p e de x p oＧs u r e s t a g e s t r u c t u r e模组段不良发生率,如图２所示.模组段不良最高时发生率达１０．０５％,对品质影响巨大,经过后续一系列测试改善,不良发生率最终降至０．１１％.图２㊀B M S t a g eM u r a模组段不良发生率F i g．２㊀B M S t a g eM u r am o d u l e d e f e c t r a t i o ２．２㊀试验思路由于B M S t a g eM u r a发生原因明确,因此对B M相关特性参数进行详细测量,通过数据分析不良机理及改善方向.随机抽取一块模组段不良屏,分别测量C D㊁像素间距㊁膜层厚度及T B M p a t t e r n与玻璃平面夹角,测量结果如图３所示.０７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.(a)(b)(c)(d)图３㊀B M S t a geM u r a 不良屏特性相关参数．(a )不良屏B M C D 数据;(b )不良屏B M P i x e lP i t c hd a t a ;(c )不良屏B M 膜厚数据;(d )不良屏B M T a pe 角数据F i g ．３㊀B M S t a geM u r a c h a r a c t e r i s t i c p a r a m e t e r ．(a )B M C Dd a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(b )B M P i x e l P i t c h d a t a o f a b n o r m a l p a n e l ;(c )B M T h i c k n e s sd a t a o fa b n o r m a l p a n e l ;(d )B M T a p e a n gl e o f a b n o r m a l p a n e l ㊀㊀从上述数据可以看出:M u r a 区C D 较O K 区偏小０．５μm ,像素间距发生偏移成对称性偏移,像素间距数值为１．５２(S p e c ＜１),B M T a p e 角和膜厚数据则无变化.由此推断出B MS t a g eM u r a 与上述两种发生变化特性参数有关.基于B M 工艺特点及曝光机结构特点,对S t a g eM u r a 发生机理构建下述模型:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生玻璃弯曲,E x p o s u r eG a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小;②玻璃弯曲后B MP a t t e r n 相对于设计位置也会发生变化,故像素间距会呈现对称性偏移.简单机理描绘图如图４所示.图４㊀S t a geM u r a 发生机理模型构建F i g ．４㊀S t a geM u r a g e n e r a t i o nm e c h a n i s m m o d e l 通过构建机理模型分析,初步认为B MS t a geM u r a 发生根本原因为玻璃弯曲导致B M P a t t e r n 发生偏移导致漏光,同时B M C D 偏小导致局部区域透光过大.从生产工艺及设备实际情况出发,以曝光工艺变更及设备变更为改善方向.３㊀实验和分析３．１㊀工艺相关３．１．１㊀B M C D 改善测试工艺方面,通过增加B M C D ,达到减弱B M 漏光的目的.由于B M C D 增加后,会导致产品透过率下降,因此为了弥补产品透过率,将R G B 像素膜厚相应减薄,以补偿由于B M C D 增加而降低的透过率,实现平衡.针对２１．５T N 产品,B M C D 由２８．２μm 增加到２９μm (产品透过率下降０．９５％),为了弥补透过率的下降,R G B 像素膜厚,相应由２ ２５μm 下降到２．２１μm (产品透过率提高０ ９５％),实现平衡(见表１),并且相关信赖性评价１７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.无异常(见表２).通过上述工艺优化调整,达到减弱B M 漏光(见图４),最终实现B M S t a g eM u r a 不良发生率(MM T R e s u l t _Q 级)由６．４３％降低为２ ２１％(下降３．６２％),改善效果明显.表１㊀２１．５T NB M C D 透过率模拟结果T a b ．１㊀t r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T NB M C DB MCD (μm )透过率/％T r ．/％R GB１５０n m １３５n m R a t i o/％２８．２５２．３０４８．７０５．４０５．２７Ｇ２８．５５２．１０４８５．３７５．２４０．５７２８．７５５２．００４７．８０５．３６５．２３０．７６２９５１．９０４７．５０Ｇ５．２２０．９５２９．２５５１．８０４７．２０５．３４５．２１１．１４２９．５５１．５０４６．９０５．３１５．１８１．７１２９．７５５１．２０４６．６０５．２８５．１５２．２８表２㊀２１．５T N R G B 膜厚透过率模拟结果T a b ．２㊀T r a n s m i s s i o n s i m u l a t i o n r e s u l t o f ２１．５T N R G BT h i c k n e s sR G BT h i c k (μm )色域/％T r ．/％１５０n m１３５n m R a t i o (ʏ)/％２．２５７３．７０７２．３＠５．４５．２７Ｇ２．２４７３．５０７２．１＠５．４１５．２８０．１９２．２３７３．３０７１．９＠５．４２５．２９０．３８２．２２７３．１０７１．７＠５．４３５．３００．５７２．２１７２．９０７１．５＠５．４５５．３２０．９５２．２７２．７０Ｇ５．３３１．１４２．１９７２．５０７１．１＠５．４７５．３４１．３３２．１８７２．２０７０．９＠５．４８５．３５１．５２表３㊀２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm 信赖性评价结果T a b ．３㊀R e l i a b i l i t y a s s e s s r e s u l t o f ２１．５T NB M C D２９．２μm ＋R G BT h i c k２．２１μm T e s t I t e mS p e c A v g．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．C h r o m a t i c i t yW x０．３１３０．３２１０．３０５W y０．３２９０．３３８０．３２０C o l o rG a m u tＧ７４．３７３．０色温６５００６０３０７０４５O KM a xB r i g h t (W ２５５)C e n t e r ２００２１７２６５O K M i nB r i gh t (０００)C e n t e r Ｇ０．２２３０．２９８O K２７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.续㊀表T e s t I t e mS pe c A v g ．２１．５O R TC W １４R e s u l t A v g．U n i f o r m i t y(W ２５５)９P o i n t s ８０８２８６O KG r a y S c a l e L ２５５１００．００１００．００１００．００L １２７２１．５８２４．１１２１．３６L ００．０００．１００．１１g a mm a ２．２１．９５２．１６O KC o n t r a s t r a t i o C e n t e r ６００９７４８８９O K C r o s s ＧT a l kH X (％)Ｇ０．４０％０．３７％V X (％)Ｇ０．２７％０．１９％O KR e s po n s eT i m e T r ．１．５４．２４３．９５T f ３．５１．０２１．３９T r ＋T f ５５．２６５．３４O KG r e e n i s h １D o tＧ０．００４０．００３１＋２D o t Ｇ０．００３０．００２２D o t Ｇ０．００５０．００５O K T R５．００％５．０６％４．９７％O K３．２㊀设备相关图５㊀曝光基台C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构F i g ．５㊀E x p o s u r eC h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e s t r u c t u r e ３．２．１㊀曝光机基台吸附压力改善测试设备方面,在曝光过程中需要通过真空吸附将玻璃吸附在基台表面,因此在吸附过程中,会导致与基台C h u c kF l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构接触区域的玻璃发生凸起,每个基台上有１４处C h u c k F l a t n e s s A d ju s t H o l e 结构(见图５),导致E x p o s u r eG a p 变小,光路衍射角较小,曝光后形成的C D 较小.同时,玻璃凸起曝光形成的B M C DP a t t e r n 发生偏移.B M C D 较小导致该区域透过光相对正常区域多,同时C DP a t t e r n 发生偏移,导致此处漏光.最终产生B M S t a ge M u r a .为了减弱基台吸附玻璃过程中,导致的特定区域处玻璃弯曲凸起,因此在保证玻璃可以被正常吸附的前提下,将基台吸附压力由－３０k P a 下降到－２０k P a.通过上述吸附压力优化调整,实现B M S t a g e M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由２．２１％降低为１．２４％(ˌ０．９７％),改善效果明显.图６㊀改善后B M C D 数据F i g ．６㊀I m pr o v e dB M C DD a t a ３．２．２㊀曝光机基台研磨测试设备方面,为了彻底改善曝光过程中由于基台真空吸附导致的玻璃弯曲凸起导致的B M 漏光(见图６),因此采取对基台C h u c k F l a t n e s sA d j u s tH o l e 结构(见图５)进行研磨作业,已达到降低玻璃弯曲凸起的目的,改善B MS t a geM u r a .３７２第４期㊀㊀㊀㊀㊀㊀肖㊀洋,等:T F T ＧL C DS t a geM u r a 的研究与改善. All Rights Reserved.C h u c kF l a t n e s sA d ju s tH o l e 结构凸起高度为０．２mm~０．３mm ,使用油石进行研磨,研磨去掉０．０２mm .研磨后测量特性数据,B M C D M u r a 区域比正常区域小０．３μm ,相比改善前的０．５μm 有所改善,同时测量像素问题数值为０．５３,相比改善前的１．５２改善很多(见图７).通过上述基台研磨调整,实现B M S t a ge M u r a 不良发生率(MMT R e s u l t _Q 级)由１．２４％降低为０ １１％(ˌ１ １３％),图７㊀改善后B M 像素间距数据F i g ．７㊀I m pr o v e dB M P i x e l P i t c hD a t a 不良彻底改善.４㊀结㊀㊀论本文通过对S t a geM u r a 相关特性数据(B M C D ㊁像素间距㊁膜厚㊁T a pe 角)测量分析,发现S t a g eM u r a 产生原因如下:①玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲,E x p o ．G a p 变小,致使B M P R 受光区域变小,由于C F 使用负性光刻胶,故显影后B M C D 会偏小,容易发生漏光;②同时玻璃弯曲后B M P a t t e r n 相对于设计位置也会发生偏移,故像素间距会呈现对称性偏移,也会导致漏光.通过实验验证,B M C D 偏小和像素间距的偏差可以通过增加B M C D ,曝光机基台吸附压力降低和研磨机台,来进行改善.最终通过上述有效措施,S t a ge M u r a 不良得到彻底改善,模组段不良生率达由１０．０５％下降至０．１１％.参考文献:[１]㊀毕昕,丁汉．T F T ＧL C D M u r a 缺陷机器视觉检测方法[J ]．机械工程学报,２０１０．４６(１２):１３Ｇ１９．B IX ,D I N G H．M a c h i n e v i s i o n i n s p e c t i o nm e t h o d o fM u r a d e f e c t f o rT F T ＧLCD [J ]．J o u r n a l o f M e c h a n i c a lE n gi Ｇn e e r ,２０１０,４６(１２):１３Ｇ１９．(i nC h i n e s e)[２]㊀黄锡珉．液晶显示技术发展轨迹[J ]．液晶与显示,２００３,１８(１):１Ｇ６．HU A N G X M．R o a d Ｇm a p o fL C Dt e c h n o l o g y [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l sa n d D i s p l a ys ,２００３,１８(１):１Ｇ６．(i nC h i n e s e)[３]㊀周雷,徐苗,吴为敬,等．大尺寸金属氧化物T F T 面板设计分析[J ]．发光学报,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．Z HO U L ,X U M ,WU WJ ,e t a l ．D e s i g na n a l y s i so f l a r g es i z em e t a l o x i d eT F T p a n e l [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o fL u m i n e s c e n c e ,２０１５,３６(５):５７７Ｇ５８２．(i nC h i n e s e )[４]㊀桑胜光,车晓盼,王嘉黎,等．高P P IA D S 产品白M u r a 不良产生原理及改善研究[J ]．液晶与显示,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．S HA N GSG ,C H EXP ,WA N GJL ,e t a l ．P r i n c i p l ea n d i m p r o v i n g r e s e a r c ho fw h i t e M u r ad e f e c t i nh i g hP P I A D S p r o d u c t [J ]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．(i nC h i n e s e )[５]㊀车春城．广视角F F S 技术C E L L 研究与设计[D ]．成都:电子科技大学,２００７．C H ECC ．T h e r e s e a r c h a n d d e s i g n o f t h e t e c h n i q u e o f F F SC E L Lw i t hw i d e a n g l e o f v i e w [D ]．C h e n gd u :U n i ve r s i Ｇt y o fE l e c t r o n i cS c i e n c e a n dT e c h n o l o g y ofC h i n a ,２００７．(i nC h i n e s e )作者简介:肖洋(１９８７－),男,天津人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l:x i a o y a n g＠b o e ．c o m．c n 周鹏(１９８７－),男,湖北人,本科,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :z h o u p e n g ＠b o e ．c o m．c n 闫润宝(１９８３－),男,吉林人,硕士,高级工程师,主要从事液晶显示面板的生产和工艺相关工作.E Ｇm a i l :ya n Ｇr u nb a o ＠b o e ．c o m．c n４７２㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３２卷㊀. All Rights Reserved.。

光刻胶发展至今已有百年历史，现已广泛用于集成电路、显示、PCB等领域，是光刻工艺的核心材料。

高壁垒和高价值量是光刻胶的典型特征。

光刻胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中。

而目前，我国光刻胶自给率较低，生产也主要集中在中低端产品，国产替代的空间广阔。

随着国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破，未来国产替代进程有望加速。

下面我们通过对光刻胶概述、发展壁垒、相关政策、产业链及相关公司等方面进行深度梳理，试图把握光刻胶未来发展。

01光刻胶行业概述1.光刻是光电信息产业链中核心环节光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。

以芯片制造为例，在晶圆清洗、热氧化后，需通过光刻和刻蚀工艺，将设计好的电路图案转移到晶圆表面上，实现电路布图，之后再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程，最终在晶圆上实现特定的集成电路结构。

2.光刻胶是光电工艺核心材料光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。

作为图像转移“中介”，光刻胶是通过曝光显影蚀刻工艺发挥转移作用，首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上，然后紫外光通过掩膜版进行曝光，在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应，选择性改变其在显影液中的溶解度，未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护作用，从而将掩模版上的图形转移到基底上。

3.光刻胶分类（1）按反应机理可分为正性和负性光刻胶根据化学反应机理不同，光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。

正性光刻胶受光照射后，感光部分发生分解反应，可溶于显影液，未感光部分显影后仍留在基底表面，形成的图形与掩膜版相同。

负性光刻胶正好相反，曝光后的部分形成交联网格结构，在显影液中不可溶，未感光部分溶解，形成的图形与掩膜版相反。

（2）按应用领域可分为PCB、LCD、半导体光刻胶根据应用领域不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶，技术门槛逐渐递增。

学习总结目前在商业上应用的玻璃基板，其主要厚度为0.5 mm到0.7 mm，且即将迈入更薄（如0.4 mm）厚度之制程。

一片TFT- LCD面板需使用两片玻璃基板，分别供作底层玻璃基板（TFT）及彩色滤光片(Col or Filter )底板。

所谓TFT-LCD几代生产线,实际是指液晶面板的经济切割尺寸,即TFT-LCD生产线的代数越高,基板经济切割尺寸越大。

业界公认的液晶面板经济切割数值为6片。

5代线和5代线以下主要是以生产笔记本和台式电脑用的显示器为主,液晶材料某些参数要求相对要低些;而6代线、7代线或更高代次则以生产液晶电视为主,液晶材料参数要求相对要高点。

玻璃基板的生产工艺比较复杂，目前该技术主要集中在美国康宁( Corning )公司、日本的旭硝子（AGC）、电气硝子（NEG）、板硝子（NHT）、德国肖特公司等手中，肖特的产销量非常小，并于2008年退出了玻璃基板行业。

超薄平板玻璃基材之特性主要取决于玻璃的组成，而玻璃的组成则影响玻璃的热膨胀、黏度(应变、退火、转化、软化和工作点)、耐化学性、光学穿透吸收及在各种频率与温度下的电气特性，产品质量除深受材料组成影响外，也取决于生产制程整个玻璃基板的制程中，主要技术包括进料、薄板成型及后段加工三部分，其中进料技术主要控制于配方的好坏，首先是在高温的熔炉中将玻璃原料熔融成低黏度且均匀的玻璃熔体，不但要考虑玻璃各项物理与化学特性，并需在不改变化学组成的条件下，选取原料最佳配方，以便有效降低玻璃熔融温度，使玻璃澄清，同时达到玻璃特定性能，符合实际应用之需求。

而薄板成型技术则攸关尺寸精度、表面性质和是否需进一步加工研磨，以达成特殊的物理、化学特性要求，后段加工则包含玻璃之切割、研磨、清洗等制程。

到目前为止，生产平面显示器用玻璃基板有三种主要之制程技术，分别为浮式法(Float Process)、槽口下拉法(SDDP)及溢流法(Fusion overflow)。

中国液晶材料行业研究-行业根本概述及特点 1、根本概述

平板显示作为物联网的显示终端,在信息技术的开展过程中发挥着重要作用, 相对于传统的阴极射线管显示〔CRT〕来说,平板显示〔FPD〕具有节能环保、低 功耗、低辐射、重量轻、厚度薄、体积小等优点,已成为显示技术开展的主流方向.

平板显示〔FPD〕包括液晶显示〔LCD〕、等离子显示〔PDP〕、有机发光二极 管显示〔OLED〕等.液晶显示〔LCD〕凭借其具有的工作电压低、功耗低、分辨率 高、抗干扰性好、

应用范围广、本钱低等一系列优点,已成为平板显示〔FPD〕产 业的主流产品.

平板显示〔FPD〕包括液晶显示〔LCD〕、等离子显示〔PDP〕、有机发光二极 管显示〔OLED〕等.液晶显示〔LCD〕凭借其具有的工作电压低、功耗低、分辨率 高、抗干扰性好、

应用范围广、本钱低等一系列优点,已成为平板显示〔FPD〕产 业的主流产品. 主流技术 〔1〕液晶显示〔LCD〕 液晶显示〔LCD〕产品制造涉及光学、半导体、电子工程、化工、高分子材料 等各领域,所需技术层面较广,上游为各种原材料生产厂商,主要原材料有液晶材 料、彩色滤光片、驱动IC、偏光片、背光模组、玻璃基片等；中游为各式LCD面 板厂商；下游为各类整机产品厂商,其中液晶材料是生产液晶显示〔 LCD〕产品的 关键材料.液晶显示〔LCD〕产业链如下列图所示: 示技术的开展,LCD面板对响应速度、比照度、视角、透过率等关键指标要求不断 提升,对液晶材料的电学特性、光学特性、热稳定性、化学稳定性等指标要求也随

之提升.因此,液晶材料性能及品质的优劣直接决定了LCD面板的整体显示性能.

TFT-LCD作为彩色液晶面板的开展主流,在各领域均有广泛应用.液晶面板属

被动发光显示技术,其背光源可分为 CCFL和LED两种类别.CCFL全称“冷阴极 荧光灯管〞,作为背光源具有制作本钱低,工艺简单,发光均匀,但寿命短,光电转 换效率低的特点.LED全称“发光二极管〞,具有使用寿命长、光电转换效率高、色 彩饱和度高、不含有毒物质等特点,但由于温度升高较快,需配备冷却系统和传感 器,因此本钱有所增加.根据IHS Markit的分析,液晶面板的后续开展方向主要在

2014年液晶材料行业分析报告2014年1月目录一、液晶显示产业概况 (4)1、液晶显示是平板显示的主流技术 (4)2、TFT-LCD是液晶显示的主流产品 (4)二、液晶显示产业链简介 (5)1、液晶显示产业链 (5)2、液晶材料位于产业链“微笑曲线”的前端，毛利率较高 (6)三、液晶材料行业概况 (6)1、第一阶段：TN-LCD用液晶材料 (7)2、第二阶段：STN-LCD用液晶材料 (7)3、第三阶段：TFT-LCD用液晶材料 (7)四、液晶材料行业利润水平的变动趋势及变动原因 (8)五、行业主管部门、监管体制和主要法律法规及政策 (9)1、行业监管体制与主管部门 (9)2、行业主要法律法规和政策 (9)六、进入液晶材料行业的主要障碍 (11)1、技术壁垒 (11)2、人才壁垒 (12)3、客户壁垒 (12)七、行业竞争格局 (12)1、全球市场：高度寡头垄断 (12)2、国内市场：TFT混合液晶刚刚起步 (13)八、液晶材料行业市场规模 (13)1、TN、STN型液晶材料市场需求保持稳定 (13)2、全球TFT型液晶材料市场需求旺盛 (14)3、大陆面板产能扩张带动国内TFT型液晶材料市场需求持续快速增长 (15)4、液晶材料凭借成本优势和服务优势有望率先实现进口替代 (15)九、主要风险 (16)1、知识产权壁垒风险 (16)2、产品被替代风险 (16)一、液晶显示产业概况1、液晶显示是平板显示的主流技术显示技术是信息产业的重要组成部分，其已在信息技术的发展过程中发挥了重要作用。

相对于传统的阴极射线管显示（CRT）来说，平板显示（FPD）具有节能环保、低辐射、重量轻、厚度薄、体积小等优点，已成为显示技术发展的主流方向。

FPD包括液晶显示（LCD）、等离子显示（PDP）、有机发光二极管显示（OLED）等。

LCD依靠其具有的工作电压低、功耗小、分辨率高、抗干扰性好、应用范围广等一系列优点，目前已成为FPD产业的主流产品。