二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法

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二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法
一、二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法
1、电沉积法
电沉积法是利用电化学方法将氨基修饰到二氧化硅纳米颗粒表
面上的一种常用方法,其基本原理是利用电极反应电位(EP)的变化来控制修饰过程。

常用的电极材料有锰酸铵(MMA)或碳纤维碳电极(CPE),常用的溶液环境有氨水、甲醇、乙醇或其他含有氨基的配体,可以通过调节溶液中的酸碱性和电位来控制修饰速率,从而改变氨基的修饰效果。

2、溅射技术
溅射技术也是一种常用的二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法,即将氨基分子沿着高速小粒子的外表面溅射到二氧化硅纳米颗粒表面上。

从而实现了氨基分子与二氧化硅纳米颗粒表面的牢固结合,而不是传统的电化学修饰法,可以获得更好的修饰效果。

3、化学气相沉积(CVD)
化学气相沉积(CVD)是把氨基分子以气体的形式溅射到硅纳米
颗粒表面,从而在表面形成一层或多层氨基修饰层的方法。

CVD有良好的修饰效果,能够控制氨基分子的分布状态,并可以通过调节反应温度来改变氨基层的厚度。

4、聚合物复合技术
聚合物复合技术是一种把聚合物和二氧化硅纳米颗粒结合起来,从而在聚合物邻近表面实现氨基修饰的方法。

这种方法利用聚合物的
溶解特性来把氨基与聚合物偶联,从而在聚合物表面形成氨基修饰层,当聚合物与二氧化硅纳米颗粒结合时,氨基修饰层也可以从聚合物表面转移到二氧化硅纳米颗粒表面上,从而达到修饰二氧化硅纳米颗粒表面的目的。