氨基 修饰
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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201710592809.1(22)申请日 2017.07.19(71)申请人 东南大学地址 210096 江苏省南京市玄武区四牌楼2号(72)发明人 王婷 丁锐 屈冠雯 王楚 (74)专利代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200代理人 唐循文(51)Int.Cl.C01B 33/18(2006.01)(54)发明名称二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法(57)摘要二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法,以甲苯作为分散剂,配制二氧化硅纳米颗粒浊液,其中甲苯及二氧化硅中均无水;向二氧化硅纳米颗粒浊液中加入3-氨丙基三甲氧基硅烷,充分搅拌使其混匀;加热回流,加热过程中持续通入氮气进行保护;回收样品,使用无水乙醇离心洗涤,并分散在无水乙醇中储存,得表面修饰氨基的二氧化硅纳米颗粒。
本发明可以在SiO 2 NPs成功修饰较多的氨基,并且经表面修饰后的SiO 2 NPs具有较好的分散性和稳定性。
同时,制备过程中严格保持的无水环境和惰性气氛杜绝了偶联剂法修饰SiO 2常见的水解产物沉聚问题,使得实验过程可操作性、可重复性更强。
权利要求书1页 说明书3页 附图1页CN 107381586 A 2017.11.24C N 107381586A1.二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法,其特征在于步骤为:a. 以甲苯作为分散剂,配制5mM ~8.5mM粒径为200nm的二氧化硅纳米颗粒浊液,其中甲苯及二氧化硅中均无水;b. 向二氧化硅纳米颗粒浊液中加入不低于0.5vol.%的氨基硅烷偶联剂,充分搅拌使其混匀;c. 控制温度85℃~105℃加热回流12h ~15h,加热过程中持续通入氮气进行保护;d. 回收样品,使用无水乙醇离心洗涤,并分散在无水乙醇中储存,得表面修饰氨基的二氧化硅纳米颗粒。
2.根据权利要求1所述二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法,其特征在于所述氨基硅烷偶联剂为3-氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS),在二氧化硅纳米颗粒浊液中的体积比为0.5%。
修饰引物十问十答1.常见的引物修饰的有哪些?常见的引物修饰包括有磷酸化(Phosphorylation)、生物素(Biotin)、地高新(Digoxigenin)、内部氨基修饰、5'氨基修饰、3'氨基修饰、巯基(Thiol)、间臂(Spacer)、硫代(Phosphorthioate)、脱氧脲嘧啶(DeoxyUridine,dU)和脱氧次黄嘌呤(deoxyInosine,dI)等。
2.为什么修饰引物的产量要比一般引物低,价格要高?由于修饰单体稳定性较差,偶联时间长,效率低,最后得到的产量自然低于一般的引物。
并且,修饰引物通常需要PAGE或HPLC纯化,纯化过程损失较大。
修饰引物使用的原料是一般引物原料的几百倍,所以产品的价格自然高。
3. 合成的荧光标记探针应如何保存?1)荧光探针必须避光保存。
2)干品可于-80℃保存一年以上,无条件时可于-20℃保存。
3)强烈建议用RNase-free的TE (pH 8.0) buffer溶解探针,这样得到的探针溶液更稳定,保存时间更长。
4)可将探针配制成100 pmol/μl的储备液,分装成几份于-20 ℃保存。
使用前,将配制好的储备液稀释成工作液 (10 pmol/μl或20 pmol/μl),剩余部分于-20 ℃保存,防止反复冻融。
4. 修饰标记对OD值的测量有影响吗?有些荧光基团在260 nm处也有吸收光,例如 FAM, HEX, TAMRA, TET。
其它在260 nm 处可能也有吸收值,但是数据没有公布,因此计算时不包括在里面。
5. 磷酸化是怎么回事?5'磷酸化作用是通过B-氰乙基化学反应添加到引物5'端的糖环上,而不是最后一个碱基上;3'磷酸盐被连接到固体支持介质上,所以在合成的第一个循环,碱基就与它偶联。
3'磷酸化修饰具有阻止聚合酶延伸的功能。
6. Phospothioate(S-oligos)硫代引物和普通的引物有什么区别?S-oligos是寡核苷酸中的单核苷酸之间的磷酸二酯键中的一个氧被硫代替后形成的。
aptes氨基化修饰原理
APTES(氨丙基三乙氧基硅烷)是一种常用的有机硅化合物,它
在化学修饰表面上起着重要作用。
APTES氨基化修饰的原理涉及到
其分子结构和化学反应。
首先,APTES分子结构含有一个氨基(NH2)和一个硅烷基
(Si(OC2H5)3)基团。
当APTES与表面发生化学反应时,通常是通
过硅氧化物基团(如玻璃、二氧化硅表面)上的羟基(-OH)发生反应。
在这种反应中,氨基(NH2)与羟基(-OH)发生亲核取代反应,生成氨基化表面。
这种反应通常是在碱性条件下进行的,以促进反
应的进行。
氨基化修饰的原理是通过APTES分子与表面发生化学键的形成,从而将氨基功能团引入表面。
这种氨基化修饰可以为后续的生物分
子的固定、表面改性等提供基础。
同时,氨基化修饰后的表面具有
亲水性,可以与带有羧基等化学团的生物分子发生静电作用或共价
键结合,从而实现对表面的功能化修饰。
除了上述基本原理外,还可以从化学反应动力学、表面改性效
果、实际应用等多个角度来全面回答这个问题。
希望我的回答能够满足你的要求。
Vol.40高等学校化学学报No.22019年2月㊀㊀㊀㊀㊀㊀CHEMICALJOURNALOFCHINESEUNIVERSITIES㊀㊀㊀㊀㊀㊀279 287㊀㊀doi:10.7503/cjcu20180673腺嘌呤的氨基修饰增强DNA导电性的理论研究程颖颖,刘海英,田宜耕,刘仲奇,李清新(济南大学物理科学与技术学院,济南250022)摘要㊀利用密度泛函理论并结合非平衡态格林函数方法,研究了腺嘌呤A的碳2位氨基修饰对DNA导电性的影响.结果表明,形成的双氨基嘌呤D可以与胸腺嘧啶T通过3个氢键进行配对,由于氨基修饰形成了新的氢键,使配对碱基D和T之间的结合比AT更紧密.修饰后体系的能隙和电离能大大降低,紫外吸收光谱在一定程度上会发生红移,并增加了一些电荷转移跃迁.计算的沿氢键方向的横向电荷输运和沿DNA链方向的纵向电荷输运性质,证明了氨基的取代修饰可以很好地提高DNA的电荷输运性质.揭示了DNA导电性增强是由于修饰调整了碱基对DT的最高占据轨道(HOMO)能级,使之较天然碱基对AT更靠近GC的HOMO,从而降低了空穴在DNA中迁移的势垒.关键词㊀DNA修饰;双氨基嘌呤;电荷输运;DNA导电性;空穴迁移中图分类号㊀O641㊀㊀㊀㊀文献标志码㊀A㊀㊀㊀㊀收稿日期:2018⁃10⁃08.网络出版日期:2019⁃01⁃22.基金项目:国家自然科学基金(批准号:21673101)资助.联系人简介:刘海英,女,博士,副教授,主要从事理论计算与模拟化学方面的研究.E⁃mail:ss_liuhy@ujn.edu.cnDNA作为生物遗传信息的重要载体,由于其具有独特的纳米尺度效应㊁分子线性结构㊁自我识别和自组装的优势,近年来已经成为一种构建纳米器件的潜在材料[1 3],应用于制作自旋过滤器件[4]㊁分子存储器件[5]及生物传感器[6,7]等.但是,天然DNA的传导性仍存在从超导体到导体㊁半导体,甚至到绝缘体的巨大争议[8 10],在一定程度上限制了天然DNA在器件方面的直接应用.另外,关于DNA中的电荷输运机理,通常认为存在2种相互竞争的机制:空穴的隧穿(tunneling)机理和跳跃(hopping)机理[11].隧穿机理就是在相邻鸟嘌呤(G)之间的直接超交换转移,这种机理空穴的迁移速率将随着距离增加呈指数衰减.当空穴在DNA中进行长距离输运时,跳跃机理将占据主导.空穴先跳跃到腺嘌呤(A)上,然后经过A碱基之间的一系列输运,最后再跳跃到下一个G碱基上.即DNA中的长程电荷输运主要是通过空穴在鸟嘌呤⁃胞嘧啶(GC)的最高占据轨道(HOMO)上跳跃来实现,而DNA链中腺嘌呤⁃胸腺嘧啶(AT)成分的存在会显著降低电荷迁移的效率[12,13].但是,AT碱基对又是DNA的基本结构单元,出现在DNA片段中是不可避免的.因此天然DNA直接应用在纳米器件方面还有一定的局限性.鉴于此,研究者开始尝试对天然DNA进行功能化修饰,以获得在电荷输运方面优于天然DNA的碱基分子片段.迄今,已经探索了多种DNA改进方案,以提高天然DNA的导电性.常见的DNA修饰方法有扩环修饰[14 16]和金属化修饰[17,18].由于扩环修饰对碱基的尺寸改变较大,因此当插入到天然DNA中可能会造成双螺旋链发生一定程度的变形.而金属化修饰,在大幅提高DNA导电性的同时,由于插入的金属离子半径较大,对DNA链的构型同样可能会有所干扰,并且可能会对DNA的生物兼容性产生一定影响.近年来,碱基的化学基团取代修饰引起了关注[12,19,20],该修饰的成本低廉,容易实现,对碱基的尺寸和生物性质影响不大,而且也能明显地改进DNA的传导性.Kawai等[19]用氨基( NH2)取代腺嘌呤碳2位的氢原子,合成了双氨基嘌呤(D),纳秒瞬态吸收实验测定表明,将DNA中的碱基A替换为D可以明显提高电荷迁移效率.Brancolini等[20]从动力学角度研究了D替换DNA中的A碱基对于电荷转移的影响.以上研究都是对修饰后DNA体系导电性的间接测量和理论预测.电流㊁电导等是反映材料导电性大小的直接指标,但到目前为止,还未见到由电流和电导直接研究腺嘌呤A的氨基修饰对DNA电荷输运性质影响的报道.本文在研究氨基修饰的碱基D㊁构成的碱基对DT的几何结构㊁电子性质及紫外吸收光谱的基础上,利用实验可以测量的电学指标,来直观地反映氨基修饰对DNA电荷输运性质的影响.并且通过对电子性质和电荷输运性质的分析,阐述了所做修饰增强DNA导电性的机理.1㊀计算方法1.1㊀构型与分子性质所有体系的结构优化和电子性质计算(除非特殊说明)均在B3LYP[21,22]/6⁃311++G(p,d)[23]水平下,采用Gaussian09程序[24]完成.在优化过程中没有进行对称性限制,并对得到的这些构型都进行了频率分析,以证明它们是势能面上的稳定点,得到了碱基对AT和DT的稳定构型(图1).结合能的定义为Eb=Ebase1+Ebase2-Ebasepair,采用Boys等[25,26]发展的Counterpoise(CP)方法进行基组叠加误差校正(BSSE),计算了配对碱基之间的结合能,此方法广泛用于结合能的计算[27 30].对每个碱基和碱基对的能量均进行了零点能校正.Fig.1㊀OptimizedstructuresandnumberingschemesofATandDTbasepairsThebondlengthsareinnm.Configurationinteractionsingle(CIS)[31]和含时密度泛涵理论(TD⁃DFT)都是计算激发态的常用方法.虽然TD⁃DFT方法能够准确地计算价层电子态的激发能和跃迁偶极矩,但其会低估电荷转移态的能量[32].而CIS方法已经被用于研究一系列含氢键体系的激发态性质,其中包括天然碱基对[33]以及天然碱基的修饰类似物[34].因此,只讨论CIS方法得到的结果(采用TD⁃DFT方法得到的吸收光谱图及相应分析见本文支持信息图S1).因为CIS方法得到的激发能态偏高,根据Broo等[35]和Holmén等[36]的建议,对能量采用了修正因子0 72.紫外光谱的计算利用Swizard程序[37]完成,并采用了Gaussian模型,半峰宽度设为500cm-1.1.2㊀电荷输运性质电荷输运性质通过基于密度泛函和非平衡态格林函数的ATK程序[38,39]完成.该方法已应用于研究一些弱相互作用体系,如氢键[18]和π堆叠体系[40 42].在计算横向电荷输运时,电荷输运的方向沿碱基对中氢键的方向.将D和A的碳8位和T的碳6位上的氢分别用巯基SH⁃基团取代,并进行了优化.然后将它们插入金电极(111)面的fcc空位,巯基末端的氢原子在与金电极相互作用时脱去[图2(A)].硫原子到金界面的距离设为0 19nm,此数值介于0 19 0 24nm合理范围内[43,44].由于所修饰的核心部分在氢键区域,比较远离分子与金属界面结合的区域.认为结合金电极界面不会引起体系的构型发生很大的变化,所以综合考虑计算时间和计算效率,在优化构型时没有考虑金电极的影响.金(111)表面采用4ˑ3的的周期性单胞描述.在计算纵向电荷输运时,电荷沿DNA双螺旋轴的方向输运.首先,将优化的单个碱基对分子的构型按照天然B型DNA的结构参数构建了3层堆叠的DNA片段,即碱基层间的堆积距离为0 34nm,相邻两层碱基对之间的螺旋角为36ʎ.研究结果表明,DNA的导电是通过碱基之间的π⁃π作用,而磷酸根骨架是绝缘的,仅起到维持DNA双螺旋结构的作用[45].因此为了减小计算量,去掉了连接各层碱基对的磷酸骨架.然后将构建好的3层碱基对结构插入到6ˑ6的金电极(111)面中[图2(B)].设置碱082高等学校化学学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀Vol.40㊀Fig.2㊀Schematicillustrationoftwo⁃probesystemsinchargetransportcalculation(A)Thetransversechargetransportmodel;(B)thelongitudinalchargetransportmodel.基对的平面平行于金电极的界面,两面间的距离为0 35nm[46].电极计算在输运方向(z方向)采用周期性边界条件,为了消除分子间的相互干扰,在x和y方向建立了足够大的真空层.所采用的交换关联泛函为GGA/PBE[47].实空间网格截断能为75Ry,核电子采用Troullier⁃Martins非局域赝势[48],价电子采用SIESTA局域数据基组展开.对电极金原子采用单ζ加极化基组SZP,其它原子采用双ζ加极化基组DZP[49].布里渊区取样采用Monkhorst⁃pack[50]方案进行,所采用的K点为1ˑ1ˑ100.自洽计算采用严格的收敛标准,收敛值设为10-5eV.在纵向输运计算中,为了更好地描述弱相互作用,采用了DFT⁃D3修正[51].2㊀结果与讨论2.1㊀几何性质优化得到碱基对AT和DT稳定构型的具体结构参数见本文支持信息表S1 表S3.结果表明,用氨基( NH2)取代腺嘌呤A的碳2位的氢原子(H3)后,新形成的碱基对DT的平面基本不变.这从一个典型二面角的变化可看出,在天然碱基对AT中,二面角C2(A) N1(A) N3(T) C4(T)为0ʎ,在DT碱基对中,该二面角C2(D) N1(D) N3(T) C4(T)变为5 6ʎ.碱基对的横向长度,即碱基对链接骨架的N9(A/D)到N1(T)的距离,由0 896nm增加至0 907nm,略有增加.可以看出,如果将修饰后的碱基插入到DNA链中可以维持DNA的基本构型,不会造成双螺旋链较大的扭曲.氨基修饰最重要的特征是形成了新的氢键,配对碱基DT之间的氢键数目由天然碱基对AT中的2个变成了3个.修饰后D碱基上H3与配对的胸腺嘧啶T上O2的距离由0 289nm减小至0 197nm,减少了0 092nm,D上的N2 H3键长变为0 101nm,而且键角øN2(D) H3(D) O2(T)为177 2ʎ.这表明在DT碱基对之间形成了新的氢键N2 H3 O2,与文献[52]报道吻合.相比于天然AT碱基对,新氢键的形成使DT体系更稳定,配对碱基之间的结合也更紧密,这将有利于碱基与碱基之间的横向电子输运.2.2㊀电子性质2.2.1㊀轨道和能级㊀几何构型的改变必然会带来电子性质的变化,考察氨基修饰对前线轨道和附近的轨道能级的影响.单个碱基A,D和相应的碱基对AT,DT前线轨道见本文支持信息表S4.可见,两者的最高占据轨道(HOMO)和最低未占据轨道(LUMO)的分布基本不变,HOMO主要离域在腺嘌呤A或D上的π键轨道,而LUMO则主要分布在配对碱基T上的π键轨道.图3为体系在前线轨道附近的能级图,为便于比较,给出了碱基G和碱基对GC的相应能级.可以看出,相对于原来的碱基A和AT,修饰后的D与DT轨道能级发生了不同程度的移动,造成体系的HOMO⁃LUMO能级差(能隙减小).能隙的减小表明体系的导电性将会得到增强,说明氨基修饰将有利于DNA中的电荷输运.从图3可见,氨基修饰形成的碱基D的能隙值相比天然碱基A减小了0 22eV,该能隙相比天然碱基G的能隙也减小了0 13eV.形成的碱基对DT的能隙相比AT小了0 98eV,也比天然GC减小了0 03eV.从图3还可以看出,能隙减小的主要原因是由于HOMO能级的升高.相对于碱基A,碱基D的HOMO能级由-6 33eV升高至-5 73eV,增大了0 60eV.而LUMO能级虽然相对于碱基A也有所182㊀No.2㊀程颖颖等:腺嘌呤的氨基修饰增强DNA导电性的理论研究Fig.3㊀EnergylevelsfromHOMO-5toLUMO+5oftheisolatedbases(A,DandG)andthecorrespondingbasepairs(AT,DTandGC)Fig.4㊀HOMOenergylevelsofGC,ATandDTbasepairsandtheschematicillustrationofholehopping提高,但仅增大0 38eV.碱基D的HOMO相比碱基G增大0 39eV,LUMO相比碱基G增大0 26eV,能隙减小0 13eV.由于DNA中的电荷迁移主要是由空穴在碱基对GC的HOMO能级上跳跃来实现,因此最关键的还是碱基对的能级变化.碱基对GC,AT和DTHOMO能级的相对高低和空穴跳跃情况如图4所示.天然碱基对GC的HOMO能级相比碱基对AT高0 69eV,这就造成空穴在DNA中由碱基对AT迁移到碱基对GC时,需要克服较大的跳跃势垒,因此碱基对AT序列的存在会大大降低DNA中电荷迁移的效率,从而产生对于碱基对GC的依赖性.而氨基修饰形成碱基对DT的HOMO仅比碱基对GC的略高0 10eV,很显然,相比碱基对AT,碱基对DT的HOMO能级更接近于碱基对GC的,大大降低了空穴由碱基对DT跳跃到碱基对GC上的势垒.这将有利于电荷在DNA中的迁移,从而也减小了DNA中电荷输运时对于碱基对GC成分的依赖性.这与文献报道的化学功能团修饰提高DNA电荷迁移率的机理吻合[12].2.2.2㊀电离势㊁变形能和结合能㊀表1列出了相应体系的垂直电离能(VIP)㊁绝热电离能(AIP)㊁变形能(Edef)和结合能(Eb).结果表明,修饰后碱基D的AIP和VIP相对于天然碱基A都变小了,甚至比天然碱基G的电离能还要小.这一规律与Okamoto等[53]的计算结果吻合.而碱基G是4个天然碱基中最易电离的碱基,即在空穴沿DNA链输运过程中,修饰后的碱基D更易成为空穴的一个中介点.电离能和能隙的减小说明修饰后形成的碱基D导电性应该优于天然碱基A和G,形成的配对碱基对DT的导电性也优于天然的碱基对AT和GC.计算得到碱基对DT的结合能要大于碱基对AT,这进一步说明,对于碱基对DT,新产生的第3个氢键增强了配对碱基之间的相互作用,但此结合能仍弱于碱基对GC的.这与实验[19,54]和理论报道[20]的稳定性的变化趋势相吻合.变形能的大小反映了体系在电离时其几何结构的松弛程度.双氨基嘌呤D的变形能略大于碱基A和G,但与碱基G的相接近.形成的碱基对DT的变形能略高于碱基对AT的,但小于碱基对GC的.这表明空穴在包含碱基D的DNA链上输运时,应该不会造成DNA链的较大变形.Table1㊀Comparisonoftheadiabaticionizationpotentials(AIP),verticalionizationpotentials(VIP),deformationenergies(Edef)andbindingenergies(Eb)BaseandbasepairVIP/eVAIP/eVEdef/eVEb/eVA8.308.110.19D7.597.300.29G7.947.680.26AT7.877.700.170.46(0.52[56])DT7.166.900.260.55GC7.286.92(6.90[55])0.361.002.2.3㊀三层堆叠碱基对的电子性质㊀为了更好地反映氨基修饰对DNA片段电子性质的影响,构建了3层堆叠碱基的模型.GAG表示按B型DNA堆叠的3层碱基对GCʒATʒGC,GDG的表示类似.由于M06⁃2X泛函较好地考虑了长程色散力[57,58],故认为在描述弱相互作用时,M06⁃2X比B3LYP的结果更加精准.表2列出了基于M06⁃2X/B3LYP方法(用B3LYP优化得到的单层构型,用M06⁃2X对构建282高等学校化学学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀Vol.40㊀的3层堆叠碱基对做单点算)得到的前线轨道能级㊁能隙和垂直电离能.可见,3层堆叠GDG的能隙明显比GAG的窄,由5 49eV减小至4 94eV.而能隙变窄的主要原因是由于把3层堆叠碱基对中间的AT用修饰后的DT替换后,HOMO能级有所提高.GAG体系的HOMO能级为-6 35eV,而GDG体系的HOMO能级则提高至-5 89eV.同时,GDG的LUMO能级相对GAG又降低了0 08eV,所以整个能隙减小了0 55eV.不仅能级的高度有所改变,前线轨道的分布也有所变化(见图5).对2个体系而言,LUMO轨道均主要分布在胸腺嘧啶T上的里德堡轨道,而HOMO轨道虽然都是π键轨道,但具体分布Fig.5㊀HOMOandLUMOplots(isovalue=0 04)andspindensitydistribution(isovalue=0 001)ofthree⁃layerstackedbasepairsGAGandGDG则发生了变化.GAG体系的HOMO主要分布在3层中的一层鸟嘌呤G上,只有少部分离域到另外两层的A和G上,在中间的腺嘌呤A上的分布较少.而替换修饰后的GDG体系中,HOMO则主要分布在中间的嘌呤D上.从表2列出的垂直电离势可见,GDG体系的VIP比GAG体系减小了0 49eV,这说明GDG体系更易失去电子,也说明更易俘获空穴.从图5的自旋分布图可以看出,空穴俘获的位点就是双氨基修饰的碱基D,这说明修饰碱基D更易成为空穴跃迁的 中继站 ,其原因还是由于腺嘌呤A的氨基修饰提高了体系的HOMO能级.Table2㊀ComparisonofHOMO⁃LUMOgaps,VIPofthree⁃layerstackedbasepairsGAGandGDG,calculatedbyM06⁃2X/B3LYP∗BasepairEHOMO/eVELUMO/eVEgap/eVVIP/eVGAG-6.35-0.865.496.89GDG-5.89-0.954.946.40㊀㊀∗M06⁃2X/B3LYPpresentsM06⁃2XsinglepointcalculationsusingB3LYPoptimizedgeometries.Theabovecalculationswerecarriedoutwith6⁃311++G(d,p)basisset.Fig.6㊀AbsorptionspectraofAT(a)andDT(b)intheultravioletregionbetween200and310nmdeterminedfromtheCISresultsBlackandredsolidtrianglesrepresentpositionsassignedtoπңπ∗charge⁃transfertransitionofATandDT,respectively.H-0:HOMO,L+0:LUMO,L+3:LUMO+3,othermarkersaresimilar,andpercentagesrepresentproportionsoftransitions.2.2.4㊀紫外吸收光谱㊀图6显示了碱基对AT和DT在200 310nm范围内的紫外吸收光谱.可以看出,在碱基对AT吸收光谱中,波长最大的吸收峰出现在281 8nm处,但对碱基对DT体系,最大波长吸收峰红移至291 6nm处.另外,碱基对DT光谱中出现了数目更多㊁吸收强度相对更大的πңπ∗电荷转移跃迁,图6示出了有代表性的3个跃迁(其它跃迁见本文支持信息表S5).碱基对AT有3个相对强度较大的πңπ∗电荷转移跃迁,都在240nm以下,其中强度最大的峰出现在224 7nm处,部分对应于π(A)ңπ∗(T)的电荷转移跃迁(所占比例为31%).而碱基对DT有7个πңπ∗电荷转移跃迁.其中4个波长都大于240nm,271 1nm处的吸收峰归属于一个π(D)ңπ∗(T)的电荷转移跃迁(比例为19%),强度远大于碱基对AT的.这些跨于2个配对碱基之间新增加的和增强的电荷转移跃迁,说明氨基修饰有利于增强配对碱基2个单体之间的横向电荷输运.2.3㊀电荷输运性质2.3.1㊀横向电荷输运㊀根据以上几何结构和电子性质的分析,氨基修饰可能会增强配对碱基之间的横382㊀No.2㊀程颖颖等:腺嘌呤的氨基修饰增强DNA导电性的理论研究向电荷输运能力.为此,计算了沿配对碱基氢键方向的横向电荷输运性质.图7显示了横向电荷输运的伏安特性曲线.在所加电压范围(0 0 5V)内,电流基本随着电压的增加而增加.更重要的是,碱基对DT体系的横向电流明显大于天然碱基对AT的,增加了2 2 4 0倍.这种横向电流的增大,说明了碳2位氨基的引入,使腺嘌呤A和胸腺嘧啶T之间的横向电荷输运有了一定程度的增强.Fig.7㊀TransversecurrentsofAT(a)andDT(b)junctionsasafunctionofbiasFig.8㊀EnergylevelsofATandDTjunctionsforthetransversetransportmodelintheenergyregionof-4 0―4 0eVunder0and0 5VbiasesTheaverageFermilevelissetaszero.为了更好地理解电流增强的原因,将体系自洽的哈密顿量投影到器件体系中间散射区域的核心分子上(MPSH),得到了图8.MPSH分析为ATK软件电荷输运性质的重要分析方法之一.结果表明,在2种不同偏压下,D和DT构成的器件体系的HOMO相比于A和AT体系均分别有所上升,而LUMO都有所下降,从而导致能隙的降低.在零偏压下,DT的能隙比AT减小了0 54eV(下降15 52%);在0 5V偏压下,DT的能隙比AT的减小了0 41eV(下降11 08%).正是由于能隙的大幅度下降,才导致DT所构建的器件的横向电流明显增强.Fig.9㊀LongitudinalI⁃Vcurvesof3⁃layerstackedGAG(a)andGDG(b)junctions2.3.2㊀纵向电荷输运㊀为了更好地反映修饰碱基对DNA沿双螺旋链方向电荷输运的调节作用,考察了3层堆叠的DNA片段GAG和GDG的纵向电荷输运性质,其伏安特性曲线如图9所示.可以看出,将两层碱基对GC之间的AT替换成DT后,该DNA片段的导电性明显增强,增加了7 61 53 92倍.如当偏压达到0 3V时,GAG片段的电流值为0 77nA,而GDG的电流值则高达41 71nA.为了分析电流增强的原因,计算了体系的MPSH能级和透射谱,如图10所示.Fig.10㊀Transmissionspectraof3⁃layerstackedGAG(A)andGDG(B)junctionsatzerobiasforthelongitudinalelectronictransportmodelThedotteddotsonthetopofeachpicturerepresentthemolecularprojectedself⁃consistentHamiltonian(MPSH)eigenvaluepositions.Thesoliddotsrepresenttheoccupiedmolecularorbitalenergiesandthehollowdotscorrespondtotheunoccupiedmolecularorbitalenergies.482高等学校化学学报㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀Vol.40㊀按照Landauer⁃Büttiker公式[32],通过体系的电流I是所施加电压V的函数:I(V)=G0ʏ¥-¥n(E)T(E,V)dE(1)式中:G0=2e2/h为单位量子电导;n(E)为分布函数;T(E,V)为电子从一个电极流向另外一个电极的透射函数,它是能量E和所加偏压V的函数.分布函数n(E)表示为n(E)=f(E-μL)-f(E-μR)(2)式中:f为Fermi⁃Dirac分布函数;μL和μR分别为左㊁右电极的化学势.透射函数对能量的分布即为透射谱.当然,2个体系的透射谱还存在很大不同.GDG片段的透射峰数目相对于GAG有所增加,分布的能量范围也更宽一些,这说明通过将中间的碱基对AT替换为修饰后的碱基对DT后,出现了更多的电荷迁移通道.更重要的是,GDG体系的MPSH能级相对于GAG,从左右两侧分别靠近费米能级,与之相匹配的透射峰也出现相同的靠近趋势,从而造成不导通的平台间隙有了较为明显的减小:对于原GAG片段,该数值为2 52eV;而修饰后的GDG片段,该数值减小为2 15eV.GAG体系最靠近费米能级的左侧未占据能级(HOMO能级)所引起的共振峰出现在-0 22eV处,高度仅为0 01;GDG体系的对应峰出现在更靠近费米能级的-0 07eV处,且峰值大大增加,高度达到0 28.表明将GAG片段中的AT替换成修饰后的DT后,形成的GDG体系的HOMO能级更靠近费米能级,而且对DNA片段中电荷迁移的贡献更大.这就验证了氨基修饰通过提高HOMO能级的高度从而提升DNA导电性的预测.3㊀结㊀㊀论利用密度泛函理论并结合非平衡态格林函数的方法,阐述了腺嘌呤的氨基修饰对DNA片段导电性的增强作用.修饰后体系很好地维持了DNA碱基的平面性和配对选择性,并通过形成新的氢键,使形成的碱基对DT比天然的碱基对AT更稳定;修饰增强了碱基D和碱基对DT的电子性质,从而使HOMO⁃LUMO能隙值减小和电离能降低;紫外光谱计算结果表明,氨基修饰能够增强配对碱基D和T之间的横向电荷输运能力;通过计算横向和纵向电荷输运性质,用实验可测的伏安特性曲线直观地证明了用修饰后的双氨基嘌呤D替换天然DNA片段中的腺嘌呤A,可以明显增强DNA的导电性.通过电子性质和电荷输运性质的分析,阐明了所做修饰提高导电性的内在机理:由于氨基修饰提升了DT碱基对的HOMO能级,使之比天然的腺嘌呤AT碱基对更靠近GC碱基对的HOMO能级,从而降低了空穴在DNA链上输运时需要克服的势垒.腺嘌呤的氨基取代修饰在实验上容易实现,且修饰后的DNA构成的分子器件的导电性有明显增强,故可以用较低的成本实现器件性能的较大改进.氨基修饰所形成的双氨基嘌呤D不仅可以扩充DNA构成单元的 字母表 ,也可能会为开发和应用DNA基分子器件提供更多的选择材料.支持信息见http://www.cjcu.jlu.edu.cn/CN/10.7503/cjcu20180673.参㊀考㊀文㊀献[1]㊀GuoC.L.,WangK.,Zerah⁃HarushE.,HamillJ.,WangB.,DubiY.,XuB.Q.,Nat.Chem.,2016,8(5),484 490[2]㊀XiangD.,WangX.L.,JiaC.C.,LeeT.,GuoX.F.,Chem.Rev.,2016,116(7),4318 4440[3]㊀WangL.,LiZ.,ShenX.Q.,MaN.,Chem.J.ChineseUniversities,2018,39(1),32 40(王莉,李智,沈晓琴,马楠.高等学校化学学报,2018,39(1),32 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241TheoreticalStudyonEnhancementEffectofAminoModificationofAdenineonConductivityofDNA†CHENGYingying,LIUHaiying∗,TIANYigeng,LIUZhongqi,LIQingxin(SchoolofPhysicsandTechnology,UniversityofJinan,Jinan250022,China)Abstract㊀Theeffectofaminomodificationofadenine(A)onDNAconductivitywasstudiedbydensityfunctionaltheorycombinedwithnon⁃equilibriumGreen sfunction.Theresultsshowthattheformeddiaminopurine(D)couldpairwiththymine(T)throughthreehydrogenbonds.Owingtothenewformedhydrogenbondbyaminomodification,thebindingbetweenthepairedbasesDandTwastighterthanthatinAT.Energygapsandionizationenergiesofthemodifiedsystemsweregreatlydecreased.AndtheUVabsorp⁃tionspectraareredshiftedwithmorecharge⁃transfertransitionsforDT.PropertiesofthetransversechargetransportalonghydrogenbondsandthelongitudinalchargetransportalongDNAstranddirectlydemonstratedthatreplacingAwithDcouldlargelyincreasetheconductivityofDNA.Moreimportantly,themechanismofenhancementeffectwasindicated.TheaminomodificationadjustedtheHOMO(highestoccupiedmolecularorbital)levelofDTbasepairclosertothatofGCcomparedwithAT,thusreducingtheenergybarrierofholemigrationinDNA.ThismayshedsomelightonthedesignofnovelDNA⁃basedmoleculardevices.Keywords㊀DNAmodification;Diaminopurine;Chargetransport;ConductivityofDNA;Holemigration(Ed.:Y,Z,S)†SupportedbytheNationalNaturalScienceFoundationofChina(No.21673101).782㊀No.2㊀程颖颖等:腺嘌呤的氨基修饰增强DNA导电性的理论研究。
三乙胺在氨基修饰中起到催化剂和溶剂的作用。
具体来说,三乙胺可以用作氨基修饰
反应中的碱性催化剂,促进酰氯、酸酐或酰化试剂与氨基化试剂(如胺类)之间的反应。
它能够提供氢离子,中和酸性试剂,并促使氨基化试剂与酰化试剂之间发生反应。
此外,三乙胺也常用作溶剂,在氨基修饰反应中扮演着溶解反应物和产物的角色。
它
的溶解性较好,可以将固体或液体试剂溶解在其中,形成反应体系。
在反应过程中,
三乙胺还可帮助调节反应温度和保持反应体系的稳定性。
总之,三乙胺在氨基修饰中的作用主要包括催化剂和溶剂的双重作用,通过催化反应
和提供溶剂环境,促进氨基化试剂与酰化试剂之间的反应进行。
氨基修饰的介孔二氧化硅1介孔二氧化硅介孔二氧化硅(MCM-41)是一种含有有序孔道结构的原子热变形型纳米多孔介质。
它由两种形式的二氧化硅(SiO2)构成,即晶型和非晶型,原位交互反应而形成的复合结构。
介孔二氧化硅的孔径大小与二氧化硅结构有关,其孔径规律性非常强,可控制大小在2-50nm之间。
介孔二氧化硅的结构具有很大的分子选择性,它的孔径大小与有机分子大小吻合较好,能限定有机分子进入,大大提高其吸附和催化性能。
2氨基修饰介孔二氧化硅氨基修饰介孔二氧化硅(MCM-41),它是在介孔二氧化硅修饰氨基的一种新型复合材料。
在一般状况下,氨基修饰以基态氨基和离子极性氨基两种形式,其修饰位于介孔二氧化硅外表面,包括天然孔内和天然孔外部分。
它具有较好的有机及无机结合性能,能有效促进微观分子吸附,可大大增强介孔二氧化硅表面的乙醛氧化催化活性。
3应用氨基修饰介孔二氧化硅在吸附、催化、分离及药物缓释等方面都具有很大的应用价值。
在吸附方面,氨基修饰介孔二氧化硅在液相中具有良好的吸附性能,聚苯胺类废水及以氯酸盐形式存在的重金属离子,都可以被有效的去除。
在催化方面,氨基修饰介孔二氧化硅可用于生物柴油的制备,并能稳定的加氢催化剂。
在分离方面,氨基修饰介孔二氧化硅可以用于生物分子的分离,比如蛋白质、酶等等,也可以将配体有机物分离出来。
同时,氨基修饰介孔二氧化硅在药物缓释研究中也有着重要的应用。
4结论总之,氨基修饰介孔二氧化硅具有多种特性,其应用更是广泛。
通过氨基修饰介孔二氧化硅,可以有效的提高介孔二氧化硅的吸附和催化性能,而在各种领域的应用,可以更精准的定位与管理,实现更高的科技和应用效果。
3'端氨基修饰的作用3'端氨基修饰是指在RNA分子的3'端加入氨基基团,这种修饰在RNA研究领域中起着重要的作用。
本文将从不同的角度探讨3'端氨基修饰的作用。
一、提高RNA稳定性3'端氨基修饰可以增加RNA分子的稳定性。
通过在RNA的3'端引入氨基基团,可以减少RNA的降解速率,延长RNA的半衰期。
这对于研究RNA的功能和调控机制非常重要,因为稳定的RNA分子可以更好地发挥其生物学功能。
二、改善RNA的转录后修饰3'端氨基修饰还可以改善RNA的转录后修饰。
在RNA转录过程中,3'端氨基修饰可以提供一个特定的结构,使得RNA能够更容易地被转录后修饰酶识别和修饰。
这些转录后修饰可以改变RNA的结构和功能,对细胞内的信号传导、蛋白质合成等过程起着重要的调控作用。
三、调控RNA的稳定性和翻译效率3'端氨基修饰还可以调控RNA的稳定性和翻译效率。
在一些情况下,3'端氨基修饰可以增加RNA的稳定性,从而延长RNA的寿命。
而在另一些情况下,3'端氨基修饰可以减少RNA的翻译效率,从而调节蛋白质的合成水平。
这种调控机制在细胞的发育、分化和应激等过程中起着重要的作用。
四、参与RNA的相互作用3'端氨基修饰还可以参与RNA的相互作用。
一些研究发现,通过在RNA的3'端引入氨基基团,可以增强RNA与其他分子的相互作用,如RNA与蛋白质、RNA与RNA之间的相互作用。
这种相互作用可以调节RNA的定位、转运和功能,对于细胞内的信号传导和基因表达调控具有重要意义。
五、应用于药物研发3'端氨基修饰还在药物研发领域有着广泛的应用。
通过在RNA的3'端引入氨基基团,可以改变RNA的化学性质和稳定性,从而设计出具有特定功能的RNA药物。
这些RNA药物可以用于治疗疾病,如癌症、遗传性疾病等,并且具有较高的选择性和效果。
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蛋白质翻译后修饰——末端修饰(氨基末端、羧基末端)(~~by luckyboy)(微生物班、精简打印、元旦巨献版)在核糖体上翻译的时候,当氨基酸添加到新生多肽之后,在体内氨基酸残基会发生各种各样的共价修饰。
I、氨基端的修饰初生蛋白的第一个氨基酸的命运:在细菌中:在细菌中生物合成蛋白质的第一步一般是甲酰甲硫氨酰-tRNAfmet和第二个氨酰tRNA通过肽键合成,因此初生蛋白质存在一个甲酰甲硫氨酰位点。
在真核生物中:虽然N末端甲硫氨酰位点从第一个甲硫氨酸获取在成熟蛋白质中很常见,N末端的α-甲基一般很快会被移除,接着在大多数情况下甲硫氨酸残基会被断裂下来。
这个作用是依靠甲硫氨酸氨基肽酶的作用,并且这个裂解过程由第二个残基控制。
(1)在酵母中(啤酒酵母):如果倒数第二个氨基酸残基有一个0.129nm或更小的回转半径的时候,甲硫氨酸会被完完全全的裂解掉(这些氨基酸有:Gly, Ala, Ser, Cys, Thr, Pro, Val)(3)在真菌或哺乳动物的线粒体中:起始甲硫氨酸的不被去除,但在植物的线粒体中还是会发生的。
在工程菌中:在大肠杆菌中过量表达的蛋白质通过质粒技术会导致一种甲硫氨酸残基保留的不正常现象。
一、乙酰化1.N端a-乙酰基修饰(a-acetyl)在蛋白质中是很普遍的在Ehrlich ascite 细胞中:大概有80%的可溶蛋白是N端a-乙酰基修饰的。
在高等真核生物中:有证据表明在这些细胞中氨基酸末端乙酰化是非常普遍的,几乎可以作为高等真核生物蛋白质的一个典型标志。
在低等真核生物中:N端a-乙酰基的比例比较低,但还是存在的2. N端a-乙酰基化修饰通常是翻译中同时发生的,一般发生在新生肽链大约40个残基长的时候3.N端残基乙酰化修饰的频率(概率)是不同的:一般Ala,Ser > Met,Gly, Asp > Asn,lle,Thr,Val > 其他氨基酸残基(1)在高等真核生物中的蛋白质比细菌或真菌中的蛋白质更可能发生乙酰基修饰(2)在大肠杆菌中表达的真核细胞蛋白部分发生乙酰化。
氨基修饰四氧化三铁纳米颗粒
《氨基修饰四氧化三铁纳米颗粒的制备及应用》
四氧化三铁纳米颗粒因其优异的磁性能和光学性质而在生物医学领域备受关注。
然而,其在生物医学应用中还存在一些挑战,比如在生物组织中的生物相容性和靶向性不足。
为了克服这些问题,研究人员提出了氨基修饰四氧化三铁纳米颗粒的方法。
氨基修饰四氧化三铁纳米颗粒制备的关键步骤包括:首先,通过化学沉淀法合成四氧化三铁纳米颗粒;然后,将其进行表面修饰,引入氨基官能团,从而增强其生物相容性和靶向性。
最后,对修饰后的纳米颗粒进行表征,包括形貌、尺寸、表面性质等。
研究表明,氨基修饰的四氧化三铁纳米颗粒在生物医学应用中显示出了良好的性能。
首先,其氨基官能团可以与生物分子发生特异性作用,从而实现对特定细胞或组织的靶向识别和治疗。
其次,氨基官能团的引入可以有效地增强纳米颗粒的生物相容性,减少其对生物组织的毒性和损伤。
此外,氨基修饰的四氧化三铁纳米颗粒还可以应用于生物成像、药物载体和疾病诊断等领域,展现出广阔的应用前景。
例如,其在肿瘤诊断中可以作为磁共振成像剂,实现对肿瘤的高效定位和诊断;在肿瘤治疗中可以作为靶向给药载体,实现对肿瘤的精准治疗。
总之,氨基修饰四氧化三铁纳米颗粒的制备和应用为其在生物医学领域的应用拓展提供了新思路和方法,对于促进纳米材料在生物医学领域的广泛应用具有重要意义。
氨基修饰金属氧化物1.引言1.1 概述概述:氨基修饰金属氧化物是一种具有广泛应用潜力的材料。
在过去几十年中,金属氧化物材料因其优异的物化性质和广泛的应用领域而受到了广泛关注。
然而,传统的金属氧化物材料在某些特定的应用场景下存在一些局限性,如缺乏特定的功能性基团、低表面活性和与其他物质的相容性等问题。
为了克服这些局限性,氨基修饰金属氧化物材料应运而生。
氨基修饰金属氧化物是通过在金属氧化物表面引入氨基基团的一种改性方法。
氨基基团具有较强的电子给体性质和特殊的空间构型,在材料表面的修饰中起到了至关重要的作用。
它提供了一种有效的方式来改变材料的化学和物理性质,使其具备更加丰富的功能性。
例如,氨基基团可以通过与其他物质之间的相互作用,使金属氧化物材料具有吸附、催化、光催化、荧光和生物相容性等特殊性质。
本文旨在系统探讨氨基修饰金属氧化物的定义、制备方法以及其在各个领域中的应用前景。
通过对已有的研究成果和实际应用案例的综述,我们将全面分析氨基修饰金属氧化物材料的特性、制备技术和潜在应用价值。
同时,我们还将总结目前对于氨基修饰金属氧化物的研究进展,并展望其在未来的发展趋势。
在接下来的章节中,我们将首先介绍氨基修饰金属氧化物的定义和原理,探讨氨基基团在改性材料表面的作用机制。
然后,我们将详细讨论氨基修饰金属氧化物的制备方法,包括传统的化学合成和先进的表面改性技术。
最后,我们将探讨氨基修饰金属氧化物在领域中的应用前景,包括催化、传感、光电器件和生物医学等方面。
通过对这些内容的综合分析,我们将为读者提供一个全面了解和认识氨基修饰金属氧化物的框架,为相关研究和应用提供参考和指导。
总之,氨基修饰金属氧化物作为一种新型材料,在功能性和应用领域上展现出巨大的潜力。
它的独特特性和多样化功能使其成为当前研究的热点之一。
通过深入探讨氨基修饰金属氧化物的定义、制备和应用,我们有望为其进一步的研究和开发提供有益的思路和方法。
1.2 文章结构文章结构是指文章的组织框架,它有助于读者了解整篇文章的逻辑结构和内容安排。
第一章习题:1、根据分子中起催化作用的主要组分的不同,酶可以分为_______和_______两大类别。
2、核酸类酶分子中起催化作用的主要组分是________,蛋白类酶分子中起催化作用的主要组分是___________。
3、进行分子内催化的核酸类酶可以分为_______,_______。
4、酶活力是_____的量度指标;酶的比活力是__________的量度指标;酶转换数是________的量度指标。
5、某酶的分类编号是EC2.2.1.10,其中EC是指_______。
此酶属于_______类型。
6、醇脱氢酶参与的反应表明无氧气参与()7、酶工程是_____________的技术过程。
8、酶的转换数是指()A、酶催化底物转化为产物的数量B、每个酶分子催化底物转化为产物的分子数C、每个酶分子每分钟催化底物转化为产物的分子数D、每摩尔酶催化底物转化为产物的分子数9、酶的改性是指____________________________.第二章1、名词解释转录、组成型酶、酶的反馈阻遏、分解代谢物阻遏、生长偶联型2、微生物产酶模式可以分为同步合成型________、中期合成型、________。
3、可以通过添加()使分解代谢物阻遏作用解除。
A、诱导物 B 激活剂C、cAMP D、ATP4、在酶发酵过程中添加表面活性剂可以A、诱导酶的生物合成B、阻遏酶的生物合成C、提高酶活力D、提高细胞通透性5、为什么滞后合成型的酶要在细胞生长一段时间甚至进入平衡期以后才开始合成?6、操纵子是由_________、_______和启动基因组成的。
7______________和______是影响酶生物合成模式的主要因素。
8、RNA前体的加工是指____________▪6、从如下实验方法和结果分析酶生物合成的调节作用。
实验方法:将大肠杆菌细胞接种于营养肉汤培养基中,于37°C振荡培养,当OD550为0.3时,经培养液分装到4个小三角瓶中,每瓶17ml培养液。
二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法
一、二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法
1、电沉积法
电沉积法是利用电化学方法将氨基修饰到二氧化硅纳米颗粒表
面上的一种常用方法,其基本原理是利用电极反应电位(EP)的变化来控制修饰过程。
常用的电极材料有锰酸铵(MMA)或碳纤维碳电极(CPE),常用的溶液环境有氨水、甲醇、乙醇或其他含有氨基的配体,可以通过调节溶液中的酸碱性和电位来控制修饰速率,从而改变氨基的修饰效果。
2、溅射技术
溅射技术也是一种常用的二氧化硅纳米颗粒表面修饰氨基的方法,即将氨基分子沿着高速小粒子的外表面溅射到二氧化硅纳米颗粒表面上。
从而实现了氨基分子与二氧化硅纳米颗粒表面的牢固结合,而不是传统的电化学修饰法,可以获得更好的修饰效果。
3、化学气相沉积(CVD)
化学气相沉积(CVD)是把氨基分子以气体的形式溅射到硅纳米
颗粒表面,从而在表面形成一层或多层氨基修饰层的方法。
CVD有良好的修饰效果,能够控制氨基分子的分布状态,并可以通过调节反应温度来改变氨基层的厚度。
4、聚合物复合技术
聚合物复合技术是一种把聚合物和二氧化硅纳米颗粒结合起来,从而在聚合物邻近表面实现氨基修饰的方法。
这种方法利用聚合物的
溶解特性来把氨基与聚合物偶联,从而在聚合物表面形成氨基修饰层,当聚合物与二氧化硅纳米颗粒结合时,氨基修饰层也可以从聚合物表面转移到二氧化硅纳米颗粒表面上,从而达到修饰二氧化硅纳米颗粒表面的目的。
钙钛矿氧化物氨基修饰
钙钛矿氧化物是一类重要的功能材料,具有广泛的应用前景,
包括光催化、光电子器件、传感器等领域。
氨基修饰是一种常见的
表面修饰方法,可以改善材料的表面性质,增强其在特定应用中的
性能。
首先,钙钛矿氧化物是一种具有钙钛矿结构的氧化物材料,通
常由钙、钛和氧元素组成。
它们具有优异的光电性能和化学稳定性,因此在太阳能电池、光催化和光电子器件中得到广泛应用。
氨基修饰是通过在材料表面引入氨基基团来改善材料性能的方法。
氨基基团的引入可以增加材料表面的亲水性、增强其与其他物
质的相互作用,从而改善材料的光催化活性、传感性能等。
此外,
氨基修饰还可以改善材料的稳定性和生物相容性,拓展其在生物医
学领域的应用。
钙钛矿氧化物经过氨基修饰后,其表面性质得到改善,可能表
现出更高的光催化活性、更好的光电性能、更强的生物相容性等特点。
这对于拓展钙钛矿氧化物在光催化、生物医学和其他领域的应
用具有重要意义。
总的来说,钙钛矿氧化物作为一种重要的功能材料,经过氨基修饰后可能表现出更优异的性能,这为其在光催化、光电子器件、生物医学等领域的应用拓展提供了新的可能性。
在未来的研究和开发中,可以进一步探索氨基修饰对钙钛矿氧化物性能的影响,以期实现更广泛的应用和更好的性能表现。
玻片的氨基基团修饰的原理玻片的氨基基团修饰是一种常用的实验技术,在生物医学研究和实验室分析中起到非常重要的作用。
本文将介绍玻片的氨基基团修饰的原理及其在科研实验中的应用。
氨基基团修饰是一种将氨基基团引入材料表面的方法,通过在材料表面与氨基化试剂反应,将氨基基团引入到材料上。
这种修饰方法可以为材料提供氨基官能团,从而使其具有特定的化学性质和功能。
玻片是一种常用的实验室工具,广泛应用于细胞培养、荧光染色、蛋白质分析等实验中。
然而,玻片本身不具备特定的化学性质,不能直接与其他物质发生反应。
为了使玻片具有特定的化学性质和功能,研究人员常常需要对其进行修饰。
玻片的氨基基团修饰可以通过两种主要的方法来实现:一种是直接在玻片表面引入氨基官能团,另一种是在修饰剂中引入氨基官能团,然后将修饰剂与玻片表面发生反应。
这两种方法都可以实现玻片的氨基基团修饰,具体选择哪种方法取决于实验的要求和具体情况。
在进行玻片的氨基基团修饰时,需要选择合适的氨基化试剂。
常用的氨基化试剂包括氨基硅烷、氨基磺酸等。
这些试剂具有较高的反应活性和选择性,可以与玻片表面的羟基或硅基等官能团发生反应,引入氨基基团。
在实际操作中,首先需要将玻片进行清洗和干燥,以去除表面的杂质和污染物。
然后将氨基化试剂溶解在适当的溶剂中,将其涂覆在玻片表面。
随后,将涂覆了氨基化试剂的玻片置于适当的条件下,使其与玻片表面的官能团发生反应。
反应时间和温度的选择应根据具体的实验要求来确定。
玻片的氨基基团修饰可以赋予其特定的化学性质和功能,进而实现各种应用。
例如,在细胞培养中,修饰了氨基基团的玻片可以通过静电作用吸附细胞,使细胞在玻片上均匀生长。
在荧光染色中,修饰了氨基基团的玻片可以与荧光标记的抗体等分子发生共价结合,从而实现荧光染色反应。
在蛋白质分析中,修饰了氨基基团的玻片可以与蛋白质发生特异性的化学反应,从而实现蛋白质的固定和分析。
玻片的氨基基团修饰是一种常用的实验技术,可以赋予玻片特定的化学性质和功能,广泛应用于生物医学研究和实验室分析中。
氨基修饰金属氧化物
氨基修饰金属氧化物是一种重要的材料,在许多领域具有广泛的应用。
它能够改善金属氧化物的性质,增强其稳定性和催化活性,从而提升其在催化剂、传感器、电池等方面的应用价值。
氨基修饰金属氧化物在催化剂中起着重要的作用。
通过引入氨基官能团,可以增加催化剂的表面活性位点,提高反应活性和选择性。
例如,将氨基修饰的二氧化钛应用于光催化降解有机污染物的反应中,可以明显提高反应速率和降解效率。
此外,氨基修饰金属氧化物还可以用于电催化水分解制氢、CO2还原等反应,具有重要的应用潜力。
氨基修饰金属氧化物在传感器领域也有广泛的应用。
通过引入氨基官能团,可以提高传感器对目标分子的选择性和灵敏度。
例如,利用氨基修饰的二氧化钛作为气敏传感器,可以高效检测有机气体的浓度,具有重要的环境监测和安全检测应用。
此外,氨基修饰金属氧化物还可以用于生物传感器、化学传感器等领域,有着广泛的应用前景。
氨基修饰金属氧化物还可以用于电池材料的改性。
通过引入氨基官能团,可以增强材料的电导率和电化学活性,提高电池的性能。
例如,将氨基修饰的锂离子电池正极材料应用于锂离子电池中,可以显著提高电池的容量和循环寿命。
氨基修饰金属氧化物是一种具有广泛应用前景的材料。
它在催化剂、传感器、电池等领域发挥着重要作用,能够提高材料的性能和应用价值。
未来的研究应该进一步探索氨基修饰金属氧化物的制备方法和应用机制,以实现其在能源、环境和生物医学等领域的实际应用。
氨基修饰氨基改性淀粉重金属废水处理剂的制备及应用化工进展 2011年30卷4期摘要:以木薯淀粉为原料,通过乳液聚合法制备淀粉与甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)接枝共聚物,再进行改性可得具有螯合效果的氨基改性淀粉(AMS)。
研究了氨基改性淀粉在单一离子的不同条件下对模拟废水重金属离子的去除效果和在实际电镀废水中的应用效果以及其循环再生性。
结果表明:在单一离子溶液中,温度对重金属的去除无明显影响,pH 值、氨基改性淀粉用量和去除时间对去除率影响较明显;经过改性淀粉的处理,实际废水中的重金属离子去除率接近100%,达到国家排放标准。
实验内容:氨基改性淀粉的制备:将淀粉搅拌成糊状并通入氮气,加入乳化剂后加入单体GMA 和引发剂,在一定的温度下反应至规定时间出料,以无水乙醇破乳,洗涤、抽滤,烘干,得到粗产品并粉碎,再抽提除去均聚物,可得纯淀粉接枝产物St-g-GMA。
取St-g-GMA 和一定量的乙二胺、催化剂在一定温度下冷凝回流反应,一段时间后得到透明胶状产物,用无水乙醇析出白色固体沉淀,洗涤干燥粉碎后得AMS 粉末。
处理Cu2+模拟废水:取Cu2+浓度为30mg/L 的模拟废水50mL,加入AMS,常温搅拌2h。
通过原子吸收分光光度计测出氨基改性淀粉处理后的模拟废水的浓度,计算重金属离子去除率。
处理实际电镀废水:取实际废水50mL,用10%的NaOH溶液调节pH=10~11,搅拌1.5 h进行预处理,然后用HCl调pH值为2,加入AMS,常温搅拌2h。
过滤后取样用原子吸收分光光度计测其重金属离子浓度。
计算重金属离子去除率。
AMS 循环利用:取Cu2+浓度为30mg/L的模拟废水50mL,使AMS吸附饱和,过滤后得到的滤渣真空干燥,研磨,得到饱和的改性淀粉螯合物。
然后用盐酸浸泡30min,抽滤干燥,重新获得氨基改性淀粉。
重复上述过程。
实验结果:室温下固定AMS用量0.02 g,溶液PH<7,当搅拌时间为30min 时,Cu2+离子完全与AMS 反应,去除率达到100%。
氨基改性淀粉处理剂在实际废水中的应用:所取实际废水pH 值为1.63,浊度为5.51,Cu2+浓度为84.021 mg/L,Cr6+浓度为61.973 mg/L,Ni2+为浓度24.120 mg/L,Zn2+为浓度72.023 mg/L。
预处理后加入AMS,用量达到0.10g时,4种重金属离子几乎全部被螯合,原废水金属离子去除率均接近100%,达到国家排放标准。
故在综合考虑实用性以及经济方面后,处理实际废水螯合剂的最适宜用量为0.10g。
经过4次循环使用后,改性淀粉对金属离子的去除率由99.7%以上下降到95.4%。
氨基功能化介孔吸附剂的一步合成及其重金属吸附性能第27卷第7期 2011年7月无机化学学报摘要:以聚甲基含氢硅氧烷(PMHS)、正硅酸乙酯(TEOS)和氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS)作为反应前驱体,在无需传统结构导向剂的溶胶-凝胶体系中制备了介孔结构发达的氨基功能化凝胶吸附剂。
金属吸附实验表明:氨基功能化介孔凝胶吸附剂对重金属Pb2+具有选择吸附特性,吸附量并随反应原料中APTMS 含量提高呈现出相应增加趋势。
实验内容:氨基化介孔吸附剂的制备:典型制备过程:将0.08gNaOH(催化剂)溶于含70mL无水乙醇的三角瓶中,随后滴加0.6mLPMHS、2.6mLAPTME和6.7 mLTEOS,室温搅拌24h充分混合有机硅前驱物并促使乙氧基取代线型聚合物PMHS中的活泼氢原子[10];随后加入2mL去离子水,继续搅拌3h后并于室温静置老化48 h后得到弹性胶状体;所得湿凝胶经过80℃处理24h可直接得到透明玻璃状固体;经研磨成粉状后,用去离子水洗涤3次,80℃干燥后待用。
制备过程中,调节APTMS与TEOS 的物质的量的比例可方便制得不同氨基含量的介孔凝胶吸附剂,对应APTMS/TEOS物质的量的比例为0,1/10,1/6,1/4 和1/2时所得产物分别记为AX-0,AX-1,AX-2,AX-3和AX-4。
吸附实验:首先,为比较凝胶吸附剂对不同金属离子的吸附性能,将0.1g凝胶材料AX-2与50 mL离子浓度为100.0 mg/L的硝酸铜、硝酸铅、硝酸镉、硝酸锌和硝酸镍溶液混合,室温下搅拌12 h,离心,上层清夜取出用原子吸收光谱仪检测剩余金属离子浓度,计算重金属离子的吸附量(mg/g)和去除率。
此外,为重点考察不同氨基含量介孔凝胶材料对Pb2+的吸附作用,我们对AX-1,AX-2,AX-3和AX-4进行了比对吸附试验。
称取0.1g固体粉末与50mL离子浓度为200.0mg/L的硝酸铅溶液混合并搅拌12h,离心分离,上层清夜取出进行原子吸收光谱分析。
实验结果:在同样初始浓度(100.0 mg·L-1)的情况下,氨基功能化凝胶材料AX-2 对水体中几种重金属离子的平衡吸附量大小顺序为:Pb2+>Cu2+>Cd2+>Zn2+>Ni2+。
此结果表明,氨基功能化介凝胶材料对金属Pb2+和Cu2+离子具有优先选择吸附特性。
(初始质量浓度为100 mg/L,吸附剂的投加质量浓度为1g/L)。
Metal ion Cu2+ Pb2+ Cd2+ Zn2+ Ni2+Adsorption amount/(mg·g-1) 31.9 42.5 27.6 21.2 15.4Removal percentage/% 67.8 78.5 53.3 41.9 30.2优化条件下,Pb2+离子去除率达80%以上,初步说明氨基功能化凝胶材料可作为重金属离子的选择吸附剂。
二硫代氨基甲酸改性淀粉对重金属吸附选择性的研究第32卷第8期 2006年8月水处理技术摘要:以玉米淀粉为原料,合成了一种新型重金属螯合剂-二硫代氨基甲酸改性淀粉(DTCS),并研究了在单一重金属溶液和混合溶液中DTCS 对金属的去除情况。
结果表明:DTCS 对重金属离子螯合能力由强到弱的顺序为:Cu2+>Pb2+>Cd2+>Zn2+>Ni 2+;在金属离子混合溶液中,DTCS 对重金属螯合速度的顺序为Cu2+>Cd2+>Pb2+>Zn2+>Ni2+,当DTCS过量投加时,对几种重金属都可以螯合完全并从水中去除。
实验内容:重金属离子标准溶液的配置:Cu2+、Pb2+、Cd2+、Zn2+、Ni2+ 均配制成1000mg/ L的标准溶液,实验中根据需要,进行不同倍数的稀释,并用稀硝酸和氢氧化钠调节溶液至所需pH值。
重金属离子螯合实验的操作方法:室温下,量取50mL浓度为1.0mmol/L的不同重金属标准溶液并置于锥形瓶中,用NaOH和HNO3稀溶液调节溶液pH值,再称取0.10g干燥的螯合剂放于锥形瓶中,在电磁振荡器上振荡1h(搅拌速度为400r/min),静置1h后,用原子吸收光谱法测定上清液中重金属浓度。
DTCS的合成:本实验总的合成路线包括四步,即分别合成交联淀粉(CS)、醚化淀粉(CHCS)、氨基淀粉(CAS)和DTC改性淀粉(DTCS)。
以玉米淀粉为原料,在碱性溶液中以环氧氯丙烷为交联剂,合成具有合适交联度的CS,所得CS在HClO4催化、环氧氯丙烷为醚化剂的情况下,采用间接醚化工艺,合成氯含量较高的醚化淀粉CHCS;然后在碱性条件下,多胺与CHCS 进行氯取代反应,得到氨基含量较高的CAS;在强碱性条件下, CS2与CAS中的氨基进行亲核加成反应,得到带有DTC基团的DTCS。
具体合成过程和方法见文献[5] 相波, 李义久, 倪亚明. 二硫代氨基甲酸基改性淀粉的合成及对重金属吸附性能[J]. 环境化学, 2004, 13(2): 195-199.实验结果:(1)pH的影响:在相同条件下,DTCS 对重金属离子的去除能力的顺序为:Cu2+ >Pb2+>Cd2+>Zn2+ > Ni2+,去除率分别达到99.91%,99.88%,87.36%,85.17%,66.36%。
(2)Zn2+、Ni2+、Cd2+在DTCS 投加量大于0.14g 时基本稳定,Zn2+、Ni2+去除率基本为100%。
(3)各重金属去除率都随着pH 值的升高而增大,其中Cu2+、Pb2+ 在pH 值小于3时已完全去除,当pH值大于6.45 时,各重金属离子的去除率都达到99%以上。
合成硫代氨基淀粉黄原酸盐及对Cu(2+)吸附实验研究第4卷第9期环境工程学报 2010年9 月摘要:以淀粉和原乙酸三甲酯进行缩醛反应生成淀粉-4、-6环酯( CSPH ),在氨水中进行交联、与丙烯酰胺接枝共聚、磺化合成出以氮为中心新型结构的硫代氨基淀粉黄原酸盐( DSX),吸附废水中Cu(2+)。
实验内容:合成硫代氨基淀粉黄原酸盐:以25 g可溶性淀粉为原料, 在100 mL N, N-二甲基甲酰胺(DMF)反应介质中加入0.15 g对甲基苯磺酸(TsOH)作为催化剂, 逐滴加入10mL原乙酸三甲酯, 使淀粉与原乙酸三甲酯进行缩醛反应生成淀粉-4、-6环酯(CSPH),此过程用薄层分析(TLC)跟踪检测产物(CSPH)的生成。
淀粉-4、-6环酯中加入氨水和环氧氯丙烷进行交联,形成以氮为中心的网络结构,然后加10mLH2O使淀粉-4、-6环酯进行开环反应[10], 在碱性和氮气的保护下以(NH4)2Ce(NO3)6为引发剂加入丙烯酰胺进行接枝共聚(CAS), 取20gCAS加入70mL质量比为25%NaOH水溶液, 搅拌下逐滴加入4 mLCS2进行磺化反应,过滤、洗涤、真空干燥,最终得到螯合淀粉衍生物(DSX)。
吸附实验:温度对吸附的影响:调节pH均为7,温度20、30和40℃时, 在不同浓度的铜离子溶液加入0.15gDSX,于恒温振荡器中以150r/min的速度振荡、至吸附平衡,迅速离心分离后取上清液,采用原子吸收分光光度法测定其残留铜离子的含量,计算相应的平衡吸附量。
DSX对铜离子吸附的动力学研究:温度20℃,其余条件同上,在不同时刻测定溶液中的离子浓度,计算相应的吸附量。
实验结果:能有效去除废水中Cu(2+),对起始浓度为20mg/LCu(2+) ,去除率为99.4% ,残余离子为0.12mg/L.基于氨基功能化介孔硅的Pb2+选择性吸附剂第38卷第8期 2009年8月化工技术与开发摘要:采用后接枝法将氨丙基三乙氧基硅烷接枝到二氧化硅网络中,合成了氨丙基功能化的MCM-41介孔硅。
FTIR 结果显示,氨基被共价键键合到了介孔硅基体上。
实验结果表明,所制备的功能化材料可以选择性吸附水溶液中的Pb2+,最大吸附量为193mg/g.实验内容:氨基功能化介孔硅的制备:介孔硅的合成参照文献[ 5]进行。
将1g除去模板剂的介孔硅在100℃干燥12h后,将其分散于30mL的无水甲苯中,然后加入3mL3-氨基丙基三乙氧基硅烷,在110℃回流24 h。