半导体习题和解答
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1 半导体物理学
第二章习题
1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
(2)理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
(3)理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷等。
2. 以As掺入Ge中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和n型半导体。
As有5个价电子,其中的四个价电子与周围的四个Ge原子形成共价键,还剩余一个电子,同时As原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以,一个As原子取代一个Ge原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子.多余的电子束缚在正电中心,但这种束缚很弱,很小的能量就可使电子摆脱束缚,成为在晶格中导电的自由电子,而As原子形成一个不能移动的正电中心。这个过程叫做施主杂质的电离过程。能够施放电子而在导带中产生电子并形成正电中心,称为施主杂质或N型杂质,掺有施主杂质的半导体叫N型半导体。
3. 以Ga掺入Ge中为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和p型半导体。
Ga有3个价电子,它与周围的四个Ge原子形成共价键,还缺少一个电子,于是在Ge晶体的共价键中产生了一个空穴,而Ga原子接受一个电子后所在处形成一个负离子中心,所以,一个Ga原子取代一个Ge原子,其效果是形成一个负电中心和一个空穴,空穴束缚在Ga原子附近,但这种束缚很弱,很小的能量就可使空穴摆脱束缚,成为在晶格中自由运动的导电空穴,而Ga原子形成一个不能移动的负电中心。这个过程叫做受主杂质的电离过程,能够接受电子而在价带中产生空穴,并形成负电中心的杂质,称为受主杂质,掺有受主型杂质的半导体叫P型半导体。
4. 以Si在GaAs中的行为为例,说明IV族杂质在III-V族化合物中可能出现的双性行为。 2 Si取代GaAs中的Ga原子则起施主作用; Si取代GaAs中的As原子则起受主作用。导带中电子浓度随硅杂质浓度的增加而增加,当硅杂质浓度增加到一定程度时趋于饱和。硅先取代Ga原子起施主作用,随着硅浓度的增加,硅取代As原子起受主作用。
第四章习题及答案
1. 300K时,Ge的本征电阻率为47cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/( V.S)和1900cm2/( V.S)。 试求Ge 的载流子浓度。
解:在本征情况下,inpn,由)(/pnipnuuqnpqunqu111知
3131910292190039001060214711cmuuqnpni.)(.)(
2. 试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/( V.S)和500cm2/( V.S)。当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率。比本征Si的电导率增大了多少倍?
解:300K时,)/(),/(SVcmuSVcmupn225001350,查表3-2或图3-7可知,室温下Si的本征载流子浓度约为3101001cmni.。
本征情况下,
cmS+.uuqnpqunqu-pnipn/.)()(6191010035001350106021101
金钢石结构一个原胞内的等效原子个数为84216818个,查看附录B知Si的晶格常数为0.543102nm,则其原子密度为322371051054310208cm).(。
掺入百万分之一的As,杂质的浓度为3162210510000001105cmND,杂质全部电离后,iDnN,这种情况下,查图4-14(a)可知其多子的迁移率为800 cm2/( V.S)
cmS.quN-nD/.''468001060211051916
比本征情况下增大了66101210346..'倍
3. 电阻率为10.m的p型Si样品,试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度。
解:查表4-15(b)可知,室温下,10.m的p型Si样品的掺杂浓度NA约为3151051cm.,查表3-2或图3-7可知,室温下Si的本征载流子浓度约为3101001cmni.,iAnN
1 第一章 固体晶格结构
1.如图是金刚石结构晶胞,若a 是其晶格常数,则其原子密度是
。
2.所有晶体都有的一类缺陷是:原子的热振动,另外晶体中常的缺陷有点缺陷、线缺陷。
3.半导体的电阻率为10-3~109Ωcm。
4.什么是晶体?晶体主要分几类?
5.什么是掺杂?常用的掺杂方法有哪些?
答:为了改变导电性而向半导体材料中加入杂质的技术称为掺杂。常用的掺杂方法有扩散和离子注入。
6.什么是替位杂质?什么是填隙杂质?
7.什么是晶格?什么是原胞、晶胞?
第二章 量子力学初步
1.量子力学的三个基本原理是三个基本原理能量量子化原理、波粒二相性原理、不确定原理。
2.什么是概率密度函数?
3.描述原子中的电子的四个量子数是: 、 、 、 。
第三章 固体量子理论初步
1.能带的基本概念
能带(energy band)包括允带和禁带。
允带(allowed band):允许电子能量存在的能量范围。
禁带(forbidden band):不允许电子存在的能量范围。
允带又分为空带、满带、导带、价带。
空带(empty band):不被电子占据的允带。
满带(filled band):允带中的能量状态(能级)均被电子占据。
导带:有电子能够参与导电的能带,但半导体材料价电子形成的高能级能带通常称为导带。
价带:由价电子形成的能带,但半导体材料价电子形成的低能级能带通常称为价带。
2.什么是漂移电流?
漂移电流:漂移是指电子在电场的作用下的定向运动,电子的定向运动所产生的电流。
3.什么是电子的有效质量?
晶格中运动的电子,在外力和内力作用下有:
F总=F外+F内=ma, m是粒子静止的质量。
F外=m*na, m*n称为电子的有效质量。
4.位于能带底的电子,其有效质量为正,位于能带顶电子,其有效质量为负。
第5章 常用半导体元件 习题
5.1晶体二极管
一、填空题:
1.半导体材料的导电能力介于 和 之间,二极管是将
封装起来,并分别引出 和 两个极。
2.二极管按半导体材料可分为 和 ,按内部结构可分为_
和 ,按用途分类有 、 、 四种。
3.二极管有 、 、 、 四种状态,PN结具有 性,即 。
4.用万用表(R×1K档)测量二极管正向电阻时,指针偏转角度
,测量反向电阻时,指针偏转角度 。
5.使用二极管时,主要考虑的参数为 和 二极管的反向击穿是指 。
6.二极管按PN结的结构特点可分为是 型和 型。
7.硅二极管的正向压降约为 V,锗二极管的正向压降约为 V;硅二极管的死区电压约为 V,锗二极管的死区电压约为 V。
8.当加到二极管上反向电压增大到一定数值时,反向电流会突然增大,此现象称为 现象。
9.利用万用表测量二极管PN结的 电阻值,可以大致判别二极管的 、 和PN结的材料。
二、选择题:
1. 硅管和锗管正常工作时,两端的电压几乎恒定,分别分为( )。
A.0.2-0.3V 0.6-0.7V B. 0.2-0.7V
0.3-0.6V
C.0.6-0.7V 0.2-0.3V D. 0.1-0.2V