IE E
注意:
αFIF αRIR
C A
n B
p
n A’
E NPN管
虽然NPN晶体管常被设想为在两个N沟层之间夹着一个 P型区的对称型三层结构。但与MOS器件不同的是:集电 区与发射区这两个电极不能互换。
改进的EM模型
Cbc
B RB Cbe
C
RC
Cjs
I bc BR I be
BF
Ibe- Ibc
RE
L0-版图上几何沟道长度,L0-2 LD=L为有效沟道长度 ;
γ φ φ VTH-阈值电压:V T H V T 0 2 F V S B 2 F
MOS1模型器件工作特性
(2)饱和区 当VGS>VTH,VDS>VGS-VTH,MOS管工作在饱和区。 电流方程为:
λ ID SK 2 PL 0 W 2L DV G SV T H 21V DS
(3)两个衬底PN结 两个衬底结中的电流可用类似二极管的公式来模拟。
MOS1模型衬底PN结电流公式
G
+
+
CGB
rS
CGS VGS -
S +
CBS
-
VGD
I DS
-
-
-
VBS
V BD
+
+
CGD rD
D
CBD
当VBS<0时
IBS
qISS kT
VBS
当VBS>0时
IBSISSexpqkVB TS1
B
当VBD<0时 当VBD>0时
MOS器件二阶效应
(5)沟道长度调制效应 当VDS增大时,MOS管的漏端沟道被夹断并进入饱和,