电浆抛光原理
种电浆抛光生产工艺，本发明的特征在于：所述的电浆抛光生产工艺流程是：１）、上挂工序：先将工件装上挂具；２）、第一纯水工序：在上挂工序完成后将挂具上的工件用纯水进行浸泡清洗，纯水温度为常温，纯水的ＰＨ值为５～７，浸泡清洗的时间为５～１０Ｓ；３）、电浆抛光工序：将经过第一纯水工序的工件和挂具一并放进电浆液缸中进行电浆抛光，其中电浆液的浓度为３０ｇ／Ｌ～８０ｇ／Ｌ，电浆液的工作温度为７０℃～１００℃，工作时间为３０Ｓ～１８００Ｓ，电浆液中的工作电压为２００Ｖ～４００Ｖ，另外在每３０ｍ↑［２］添加抛光盐５ｋｇ～７ｋｇ；４）、第二纯水工序：将经过电浆抛光工序的工件用纯水进行第二次浸泡清洗，纯水温度为常温，纯水的ＰＨ值为５～７，浸泡清洗的时间为１０Ｓ～１８０Ｓ；５）、盐酸工序：将经过第二纯水工序的工件用盐酸进行浸泡清洗，盐酸温度为常温，盐酸的浓度为３％～２０％，浸泡的时间为３０Ｓ～１８０Ｓ；６）、第三纯水工序：将经过盐酸工序的工件用纯水进行第三次浸泡清洗，纯水温度为常温，纯水的ＰＨ值为５～７，浸泡清洗的时间为５Ｓ～１０Ｓ；７）、氨水工序：将经过第三纯水工序的工件用氨水进行浸泡清洗，工作温度为３５℃～４０℃，氨水的浓度为３％～５％，浸泡的时间为３０Ｓ～１２０Ｓ；８）、第四纯水工序：将经过氨水工序的工件用纯水进行第三次浸泡清洗，纯水温度为６０℃，纯水的ＰＨ值为５～７，浸泡清洗的时间为３０Ｓ～１８０Ｓ；９）、超声波纯水工序：将经过第四纯水工序的工件用超声波纯水进行第浸泡清洗，纯水的温度为５０～８０℃，纯水的ＰＨ值为５～７，浸泡清洗的时间为６０Ｓ；１０）、烘烤工序：将经过超声波纯水工序的工件放进烤箱进行烘烤，烤箱内的温度为６０－１２０℃，烘烤的时间为３６０Ｓ～４８０Ｓ；１１）、下挂工序：最后将烘烤完成后的工件从挂具取下，形成工件成品。
液态电浆抛光原理
此方法将待抛光工件浸入加热的电解质水溶液中，并对其施加正极性电压，该电解液无公害且廉价低浓度,所施加的电压为直流电压，工件可以是不锈钢、工具钢、低碳钢、铜、金和铝等导电材料。在适当的工作条件下，工件表面会出现稳定的蒸气气体层，该气体层会把被处理表面与电解质水溶液隔开，从而导致表面与电解液蒸气之间产生强烈的等离子体化学和电化学反应，使被处理表面产生阴极氧化，同时又使阴极氧化层受到化学侵蚀，在氧化速度与侵蚀速度相等时出现抛光效果，其表现为光洁度上升及反射率提高。当氧化层最薄且又足以抵御侵蚀作用时，其反射率出现最高值。微观不平处的氧化层最薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外，被抛光表面被施加足够高的电压后，它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些作用的综合效果，使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。
等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
关于电浆抛光与化学抛光及电化学抛光的区别？[复制链接]
等离子抛光也称电浆抛光。主要用于五金件产品的抛光以及真空镀膜的前处理，在表面处理行业属于新的工艺，本文将在等离子抛光的工作原理、应用优势以及在表面处理行业的应用来说明它与真空镀膜的协调性。
一、等离子抛光的工作原理
等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的一些特性测验：
（1）.抛光速率测试
由图1的测试数据显示,液态等离子抛光对SUS303、SUS304与SUS316等型号的不锈钢材质的抛光速率结果。测试结果发现液态等离子抛光的抛光速率与基材种类关联性小。但是，抛光速率伴随着外加电场的增加而增加，抛光速率＞1.0∪m/min,是传统抛光法的十倍。
我们亦可从图1的测试结果发现250-290伏特，抛光速率的顺序为：SUS316＞SUS304＞SUS303。（2）.粗糙度测试
由图2的测试结果发现303、304与316等型号的不锈钢基材经过液态等离子抛光后，其粗糙度分别从约1vm大幅降至＜0.1vm，尤其是316基材粗糙度可减少至0.08vm。此抛光技术已接近纳米级的抛光能力范围内。
图2的测试结果亦显示，液态等离子抛光对粗糙度减低的材质顺序为：SUS316＞
SUS304＞SUS303。
（3）.光泽度测试
由图3的测试结果发现303、304与316等型式的不锈钢基材经过液态等离子抛光后，其光泽度分别从约45%大幅曾增加至75%、85%、与95%。此乃表示基材从雾面结构转变为具镜面效果的光泽结构。由此可以确定液态等离子抛光抛光后的基材符合工业产品外观装饰与材料特性的要求。
（4）.硬度测试
由图4的测试结果发现303、304与316等型号的不锈钢基材经过液态等离子抛光后，其硬度分别从约250HV维克硬度变化至280HV维克硬度。
测试结果表明无论基材材质是SUS316、SUS304、或SUS303，其硬度都有正向提升。
注：1.膜厚量测：是由日制surfacecorder ET-4000, Kasaka Laboratory 测量。
2.粗糙度性质测试：是由日制MVK-H100A2，Akashi测量。
3.表面组成：高分辨率扫描电子显微镜(SEM)观测。
二、等离子抛光的优势。
抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中都是不可或缺的生产步骤。抛光是对工件表面精加工的过程，经过抛光工序，工件表面粗糙度降低，一般说来伴随着光泽度的提高，工件抛光后其机械、物理及化学性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光洁度提高，耐腐蚀性提高，缺口敏感性降低，摩擦系数下降，磨损减少。
等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的高品质，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远低于传统抛光成本（见图5）。
方法比较
特性化学抛光电解抛光等离子（电浆）抛光
抛光液毒性大大无
抛光液老化难再生难再生定期补充
废液污染厉害厉害无
废液处理难处理难处理极易处理
抛前处理复杂复杂简单
抛后处理有害物质产生有害物质产生简单冲洗，无有害物产生
整平效果差较好好
光亮效果好好很好
方法比较
特性化学抛光电解抛光等离子（电浆）抛光
对复杂零件可可极易
实现自动化可可极易
操作较难较难容易
抛光速度慢较快快
硬度影响不明显不明显提高
图5
由于等离子抛光有这些特性存在，所以目前应用的非常广，并且有取代电解抛光的趋势。等离子抛光和电解抛光的适用行业广范：手机电子、数码配件、集成电路制造、运动器材（高尔夫球具）、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、医疗器械、手表饰品、汽车配件、LED制程、精密模具、航空航天及五金制品等行业等离子抛光工艺可以说是目前市场上最为先进的抛光工艺。他同电解既有相似之处也有本质的区别。说他们相似是说他们的抛光后的表面效果差不多。说他的本质区别最主要是等离子抛光成本低和对环境无污染，而电解则相反。电解最主要是靠药水来对工件进行电化学腐蚀。所以药水都具有很强的腐蚀性。对人体有很大伤害。对环境污染相当严重。而等离子抛光的抛光盐无腐蚀性，对人体无伤害，对环境也无污染。抛光盐已作过SGS认证，抛光溶剂污水排放也通过ROHS检测无污染。
以一般的手机外壳为例，基本上所有的手机商都对不锈钢手机外壳的要求为表
面无划伤，无明显纹路，无白点也就是镜面效果。抛光工艺一般从冲压出完全成型产品开始，后续工序一般有镭射，真空镀膜，UV,喷油等。抛光均采用手工抛光，或者是手工抛光和等离子抛光结合。手工抛光及手工打磨，靠产品和麻、线、布轮的摩擦作用。第一次看见这种工艺的人都会很惊讶还有这样落后和原始的事情。或许有时候最原始的是最好的选择，这种工艺大行其道。但手工抛光工艺缺点明显。第一效率底下，一个抛光工在8小时内很难出到150个镜光成品，严重制约规模化生产。第二：工作环境污染很大.磨光过程种产生大量的黑色粉末，一天下来几乎全身都黑黑的。第三：工作种需要消耗大量的体力，工作异常辛苦。由于以上原因造成抛光工人的管理几乎成为每个厂家的头疼的事情，自由散漫，流动性太强。
等离子抛光由于是靠电离子的摩擦作用，由于离子几乎没质量。所以摩擦力有限，对表面的摩擦作用一般是去掉1-2个丝。很明显对冲压印迹和表面橘皮无法去掉。采用手工抛光和等离子抛光相结合的办法。即采用手工开初去掉表面压印和橘皮。留下很深的麻轮纹路采用很细的线轮纹路去除。这个时候留下的线轮纹路采用等离子抛光去除。最后效果为表面镜光无任何纹路，表面棱角处产生R角有利于和其他部件的配合，尤其是按键。对工件的里面一样抛光光亮。这块运用种等离子抛光主要作用在去除布轮纹，少一次清洗程序，成品率高。由于手工开初和收光的时间成本基本相同，所以结合等离子抛光有利于节约成本，主要效用在节约时间。
手机等数码产品内部件：一般产品为冲出的产品就是成品，但品牌商如:Nokia,Motorola，Samsung等均要求内部件做处理。效果为去披风，去毛刺。不锈钢做出的产品主要是卡槽，线路槽，容器件等。由于是内部件一般及布规则和复杂，手机抛光基本都无法处理，采用能离子抛光能很有效的去披风，去毛刺。让部件之间能很好的配合，极大的减小线路板的摩擦。这一块是趋势，越来越多的品牌都会要求做这样的处理。内部件中比较特别的产品为滑轨，如NOKIA 8800的滑轨设计有明显的凹槽，手工处理不能有效的控制尺寸，很多地方无法抛光。只有等离子抛光才可以解决抛光问题。
等离子抛光的工艺操作简单：上挂——电抛——水洗——水洗——中和——水洗——喷淋——超声波——烤干——下挂——包装(或进行后其它后工艺：如真空镀膜及镀膜，喷涂等)
三、等离子抛光在金属表面处理行业的应用。
1. 一般需要做真空镀膜或真空镀膜的产品，在开始前都会先做清洗工艺，部份客户取用等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜工艺（如图6）。特别是对于那些用布轮或者是麻轮做过抛光处理的产品就显得尤为重要。这是因为产品在经过轮子抛光后易留下轮纹，造成表面阴阳色或颜色不均匀现象发生，这样经过真空镀膜后就会呈现得更为明显，呈现出镀膜颜色不均匀，阴阳面等问题，但是采用等离子抛光工艺的要比清洗工艺良率要多30%以上，给前工序抛光工艺为抛除表面的轮纹减小很大压力，产能明显上升。这个主要是我们利用等离子抛光能够很好的提高产品的光泽度和降低产品表面粗糙度及提高表面硬度。
2. 抛光镭射后再做真空镀膜的产品也需要先做清洗工艺，然后再做真空镀膜工艺,这是因为产品在镭射时表面容易产生发黄和被一些废渣吸附，简单的清洗根本去除不干净。如果清洗不干净则会造成真空镀膜颜色不均和麻点等不良现象。于是部份客户取用等离子抛光工艺，这样使得产品被清洁的力度大大提高，使良率明显提升10～20%。
3. 抛光拉丝后再做真空镀膜的产品也需要先做等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜（如图8）。这是因为产品在拉丝过程中很容易使砂砾拉伤表面或者尼龙丝被高温烧焦吸附在工件拉丝位，简单的清洗也是根本没办法去除干净。如果清洗不干净也会给真空镀膜造成麻点，砂眼和颜色不均。
4. 需要真空镀膜的产品,前工序最好先做等离子抛光，因为等离子抛光可以充分去除工件冲裁面的批锋，利角和表面脏污。从而使得真空真空镀膜膜的附着力大大增强，特别是冲裁面的边角位不易脱膜,能将镀膜附着力良率提高15%以上。
5. 等离子抛光工艺还有退掉镀膜的功效，我们只要通过特定的抛光剂,在短的时间（30～180s）内就可以完全脱掉镀膜。这样大大节省脱膜时间。对于那些表面真空镀氮化碳或氮化铬的产品,脱膜相对较难,通过等离子抛光也能去完全将表面膜层去除干净,但是抛光时间需要延长一倍以上。虽说抛光时间相对增加，但任然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率（因为等离子抛光能很好提高表面的光泽度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光洁，导电性能好）。
综上所述，等离子抛光的确是真空镀膜或真空镀膜前处理不可缺少的工艺，并且他也将以对人体无伤害，对环境无污染，成本低的绝对优势压倒电解工艺，同时也为真空镀膜或真空镀膜解除更多的不良因素，为真空镀膜或真空镀膜出高品质
的产品而多做贡献。
电解和电将都是给溶液通电使工件尖端部分放电,达到去毛刺和抛光的效果.
影响电解抛光效果的主要因素： 一、电解抛光电解液，电解液选用的合理与否是直接影响电解抛光效果的最基本因素之一。 1扩散系数小，黏度大。 2易与溶解下来的金属离子形成扩散速度更 小的多核聚合配合物。本身是一种黏膜稠的酸。 二、电解抛光电流密度和电压，通常应控制在极限扩散电流控制区，中阳极极化曲线的平坦区。 1低于此区的电流密度时，表面会出现腐蚀。2高于此电流密度区时，因有氧气析出，表面易出现气孔、麻点或条纹。 3平坦区不是固定不变的，它会随温度、配位剂的浓度和添加剂的种类而变化。 三、温度，温度对阳极极化曲线的影响曲线。1电解液温度升高，极限扩散电流逐渐增大，当温度高于90度时，表面抛光的起始电流密度大，阳极铜片的溶解速度过快，因而铜片表面易生成点状或条状腐蚀。 2当电解液温度低于60度时，传质过程慢，抛光的起始电流密度太低，阳极铜片的溶解速度慢，溶解下来的离子不能很快地扩散开来，容易在阳极表面形成CU和HEDP的多核配合物，使用权铜片表面出现沉淀物膜槿麻点。 四、抛光时间。1被抛光零件的材质及其表面的预处理程度。2阳、阴极间的距离。 3电解液的抛光性能及温度。 4电抛光过程使用的阳极电流密度的大小及槽电压的高低。 5工艺上对抛光表面光亮度的要求等。 五、阳极、阴极极间距离。 1便于调整电流密度到工艺规范，并尽量使抛光件表面的电流密度分布得均匀一致些。 2尽量减少不必要的能耗，因电解液浓度高、电阻大、耗电量较大。 3阴极产生的气体搅拌是否已破坏了黏液层，降低了抛光效果。 六、抛光前工件表面状态及金相组织。 1被抛光工件表面的金相组织越均匀，越细密，（如纯金属）越有利于抛光过程的进行，而且抛光效果也越好。 2被抛光工件的材料为合金，特别是多组分合金时，抛光工艺的控制比较麻烦。 3当被抛光工件的金相组织不均匀，特别是含有非金属万分时，就会使电抛光体系呈现出不一致的电化学敏感性。 4工件在抛光前表面处理得越干净越细密，越有利于电抛光过程的进行，越容易获得预期的抛光效果。
使用说明书
苏州大越精密去毛刺机 目录 使用说明书 (1) 目录 (2) 安全使用 (3) 设备简介、工作原理、功能特点 (4) 设备用途、优点 (5) 机器使用解答.........................................................6-7 代码显示解答 (7) 安装与接线 (8) 操作流程 (9) 设备日常保养、保修卡 (10) 服务联系方式 (11)
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3．机器使用时候必须接地,通电前确认输入电源电压正确。 4．不要把机器安装在太阳照射、雨淋、过于潮湿、强酸、碱车间内. 5．自行维修需要和厂家联系确认,否则对修理人员可能成严重伤害. 设备简介 感谢您购买我们公司精密零件去毛刺抛光机！我们是自主研发的一种新型抛光设备，本机采用全球先进上好材料，简单操控独特的设计，彻底解决传统抛光的难题。解决了伤工件、死角、管内、通孔、盲孔等抛光研磨一系列的问题，提升了抛光效率及产品的品质。 工作原理 本抛光去毛刺机是利用超强的磁场力量，传动细小的研磨钢针，使抛光也产生高速旋浮流动，换向翻滚，以众多去毛刺不锈钢钢针轻轻滑过工件各个表面及工件内孔、内外牙及表面摩擦，达到清洗、去油垢杂质、去除毛边、研磨光亮的精密抛光效果。 功能特点 ●成本低，采用半永久性不锈钢针磨材，消耗极低。
1请你简要论述一下，电化学研究方法中，暂态测量技术有哪些？以及暂态研究技术的应用有哪些？ 暂态测量技术有哪些？ 暂态测量方法的种类 ①按极化或控制的幅度分( 幅度：电极极化的幅度，界面电位变化量) a. 大幅度暂态测量(研究电极过程) |Δφ|>10 mV ( 大幅度) b. 小幅度暂态测量(用于测定参数Rr、RL、C d) |Δφ|<10 mV(小幅度) ②按控制方式分： a. 控制电流法暂态测量 b. 控制电位法暂态测量 控电流法：单电流阶跃;断电流;方波电流;双脉冲电流 控电位法:阶跃法、方波电位法等;线性扫描(单程线性扫描,连续三角波扫描);脉冲电位(阶梯伏安,常规脉冲,差分脉冲,方波伏安) [从电极极化开始到各个子过程（电化学反应过程、双电层充电过程、传质过程和离子导电过程）做出响应并进入稳态过程所经历的不稳定的，变化的“过渡阶段”，称为暂态.] [电化学暂态测试技术也称为电化学微扰测试技术，即用指定的小幅度电流或电压讯号加到研究电极上，使电极体系发生微弱的扰动，同时测量电极参数的响应来研究电极反应参数] 暂态研究技术的应用？ 暂态技术提供了比稳态技术更多的信息，用来研究电极过程动力学，测定电极反应动力学参数和确定电极反应机理，而且还可将测量迁越反应速率常数的上限提高2～3个数量级，有可能研究大量快速的电化学反应。暂态技术对于研究中间态和吸附态存在的电极反应也特别有利。暂态技术中测得的一些参量，例如双电层电容、欧姆电阻、由迁越反应速率常数决定的迁越电阻等，在化学电源、电镀、腐蚀等领域也有指导意义。 2.请你谈谈电化学测量中要获得电化学信号需要哪些电极以及设备，它们分别的作用是什么？ 一、需要①参比电极：参比电极的性能直接影响着电极电势的测量或控制的稳定性。 ②盐桥：当被测电极体系的溶液与参比电极的溶液不同时，常用盐桥把研究电极和参比电极连接起来。盐桥的作用主要有两个，一个是减小接界电势，二是减少研究、参比溶液之间的相互污染。
XX責任有限公司 10T/H二級反滲透+EDI超純水系統 操 作 說 明 書
目錄 一、概述 (5) 二、工艺流程示意图 (6) 三、预处理系统 (7) （一）原水箱 (7) （二）原水泵 (7) （三）多介质过滤器 (8) （四）活性炭过滤器 (9) （五）阻垢剂加药系统 (11) （六）保安过滤器 (12) （七）PH调节加药系统 (12) 四、二级反渗透系统 (13) （一）I级反渗透高压泵 (13) （二）I级反渗透装置 (14) 1、RO膜外壳 (14) 2、RO膜元件 (14) 3、反渗透原理 (15) 4、反渗透技术指标的计算 (16) 5、I级反渗透系统的联锁保护 (17) 6、反渗透装置的启动和调试 (17) 7、反渗透装置的停运 (18)
8、反渗透膜通用信息 (19) 9、反渗透膜的维护保养 (19) 10、反渗透膜的清洗 (20) 11、反渗透膜元件的更换 (23) 12、陶氏膜元件用杀菌剂及保护液 (24) 13、膜元件的一般保存方法 (24) （三） I级反渗透水箱 (25) （四）II级反渗透高压泵 (26) （五）II级反渗透装置 (27) 1、RO膜外壳 (27) 2、RO膜元件 (27) 五、EDI处理系统 (28) （一）II级反渗透产水箱 (28) （二）EDI给水泵 (28) （三）紫外杀菌器 (29) （四）精密过滤器 (30) （五）EDI系统 (30) 1、EDI元件 (30) 2、EDI原理 (31) 2、EDI技术指标的计算 (32) 4、EDI系统的连锁保护 (33) 5、EDI装置的启动和调试 (33)
技术学院 毕业设计（论文） 题目抛光机设计 系 (部) 专业 班级 姓名 指导老师 系主任 年月日
目 录 综 述 ........................................................................................................................... 2 1. 抛光桶设计参数 ...................................................................................................... 5 2. 传动方案 .................................................................................................................. 6 3. V 带的设计 ................................................................................................................ 6 3.1确定设计功率...................................................................................................... 6 3.2选择带的型号...................................................................................................... 7 3.3确定带轮的基准直径21d d 和.............................................................................. 7 3.4验算带的速度...................................................................................................... 7 3.5确定中心距A 和V 带基准长度d L .................................................................... 7 3.6确定中心距和小轮包角...................................................................................... 8 3.7确定V 带根数Z ................................................................................................. 8 3.8确定初拉力0F ..................................................................................................... 8 3.9计算作用在轴上的压力...................................................................................... 8 3.10带轮结构设计.................................................................................................... 9 4. 滚筒的设计 ............................................................................................................ 10 4.1滚筒结构............................................................................................................ 10 4.2轴承的选择........................................................................................................ 10 4.3键的校核............................................................................................................ 10 5. 结论 ........................................................................................................................ 11 6. 参考文献 . (12)
水处理设备 操 作 说 明 书 ※※※※※※科技有限公司地址：※※※※※※
目录 *简介 *工艺 *RO进水条件 *各部件名称、作用及使用维护保养注意事项*安装指导 *操作说明 *逆渗透系统主机动作原理 *混床除盐系统原理 *附录 ROC4313双级反渗透控制器描述 *
简介 本说明书是意于帮助用户能够正确安装和使用本设备，以使设备达到最佳运行效果和最长的使用寿命，所以请用户在安装和使用本设备前务必花一定时间认真阅读本说明书。 本说明书适用于H/S的双级逆渗透系统。设备的设计能力在设备规格中表示出来。如：RO-6000GPD表示设计能力为每24小时可生产6000加仑（或22700升）的纯水；H/S表示设计能力为每小时可生产吨的纯水，S表示双级，以下类推。每一台设备的生产能力都是在原水温度为25℃的情况下设定的。若实际运行中原水温度高于或低于这个温度其生产能力会有一定程度的变化。当然，原水其它条件的变化都会对产品水水质和产量带来影响，这在后面有关章节及有关功能介绍中分别阐述。 逆渗透过程是利用半透性螺旋卷式膜分离去除水中的可溶性固体、有机物、胶体物质及细菌。原水以一定压力被送到并通过逆渗透膜，水透过膜上的微小孔径，经收集后得到纯水。水中的杂质在截流液中浓缩并被排出。RO可除去原水中96%以上的溶解性固体，99%以上的有机物及胶体，以及几乎100%的细菌。 RO设备是目前世界上水处理设备中制取纯水的最先进的设备之一，其运行费用低、经济、操作方便、运行可靠，是商家首选的制取纯水设备。 工艺流程 自来水---多介质过滤器---活性炭过滤器---阻垢加药系统---一级反渗透系统---中间水箱---二级反渗透系统---恒压供水系统---标准四柱混床---特级抛光混床二级柱---用水点 RO进水条件
电解抛光工艺 -标准化文件发布号：（9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII
YB-66环保型铝和铝合金电解抛光添加剂 YB-66环保型铝和铝合金电解抛光添加剂新工艺 一、特点 1、抛光液不含铬酸，符合当今环保要求，节省环保设备投资及废水处理费用。 2、抛光电流密度较传统工艺要小，因此不仅电耗低，抛光液使用寿命长，而且更适合大型铝和铝合金件的表面抛光。 3、适用范围广，适用于纯铝及除硅含量大于2%的各种型号的铝合金。 二、抛光液组成和操作条件 浓磷酸（比重 1.74） 70%（重量） YB-66添加剂 30%（重量） 温度 55–65℃最佳60℃ 阳极电流密度，DA 2–8 A/dm2 （无搅拌） 12–20 A/dm2 （搅拌） 电压 10–15 伏 抛光时间 3–5 分钟 阴极材料铅或不锈钢 阴极面积∶阳极面积 2–3∶1 三、开槽步骤 1、该抛光液在使用前的比重在1.50–1.52的范围内。根据所欲配制的抛光液容积、抛光液比重及抛光液中磷酸所占的重量比，计算出所要加入的磷酸量并加入之。 2、同样计算出所需YB-66添加剂的重量并加入之。 3、加热至操作温度。 四、操作指导 1、抛光时是否采用搅拌（阴极移动、空气搅拌）主要取决于抛光件的形状：若抛光件形状简单，横向宽度较窄，则不采用搅拌；反之，若抛光件形状不规则或横向宽度较大，尤其当抛光件某些部位阻碍气体逸出形成“气袋”而影响表面抛光的情况下则必须采用搅拌方式。在采用搅拌的状况下，必须相应提高阳极电流密度，否则抛光表面难以达到高光亮。 2、抛光时大部分杂质沉积于阴极表面，但仍有部分因抛光生成的固体污泥留在抛光液内，因此需定期过滤抛光液把杂质除去。 3、在抛光过程中，由于磷酸盐的产生，水的电解及挥发以及抛光液的夹带损失，故需不断补充磷酸和YB-66添加剂。 4、磷酸与YB-66添加剂的添加比例一般仍按70%∶30%添加，但在每次添加后应测定抛光液比重，根据测定结果再予以适当调整。 5、该抛光液在配制后未经使用前的原始比重在1.50–1.52的范围内，在抛光槽运转过程中，抛光液的比重应控制在1.50–1.65的范围内。抛光液比重过高说明抛光液含水量不足；反之，抛光液比重过低，表明抛光液水含量过高，磷酸含量偏低。经常用比重计测定抛光液比重是控制抛光液组分浓度及抛光质量的有效手段。
电解抛光工艺 1．定义： 电解抛光是以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面光亮度增大的效果。 2．原理： 电解抛光原理现在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平的过程。 3．电解抛光优点： ⑴内外色泽一致，光泽持久，机械抛光无法抛到的凹处也可整平。 ⑵生产效率高，成本低廉。 ⑶增加工件表面抗腐蚀性，可适用于所有不锈钢材质。 4．电化学抛光所需条件及设备 （1）电源： 电源可选用双相220V，三相380V。 （2）整流器 电解抛光对电源波形要求不是太严格，可选用可控硅整流器或高频整流器。 整流器空载电压：0—20v 负载电压（工作电压）：8—10v 工作电压低于6v，抛光速度慢，光亮度不足。 整流器电流：根据客户工件大小而定。 （3）电解槽及配套设施（阳极棒） 可选用聚氯乙烯硬板材焊接而成。在槽上装三根电极棒，中间为可移动的阳极棒，接电源阳极（或正极），两侧为阴极棒，连接电源阴极（负极）。 （4）加热设施及冷却设备 ①加热可选用石英加热管，钛加热管。 ②冷却可选用盘管，盘管可加热可冷却。 （5）夹具 最好选用钛做挂具，因为钛较耐腐蚀，寿命长，钛离子对槽液无影响。建议最好不要用铜挂具，因为铜离子进入会在不锈钢表面沉积一层结合力
不好的铜层，影响抛光质量。铜裸露部位可用聚氯乙烯胶烘烤成膜，在接触点刮去绝缘膜。 （6）阴阳极材料 阴极材料选用铅板，阳极材料选用紫铜连接。 阳极比阴极为1：2—3.5之间。 阴极距阳极最佳距离为10—30厘米。 就目前来说，电解抛光主要针对不锈钢工件的表面光亮处理。不锈钢工件又分为200系列，300系列，400系列材质，各系列材质有必须用针对性电解抛光液。比如不锈钢200系列材质的不锈钢，必须用200系列的配方，此种配方无法适应300系列或400系列的不锈钢材质。这一直是国内一大难题，因为有些厂家的材质是组合工件，既有200系列不锈钢材质，又有300或400系列不锈钢材质。在2007年12月，威海云清化工开发院王铃树高级工程师研制出一种不锈钢通用电解液。这种电解液适合所有不锈钢材质。他结合了原有电解液所有优点，比重为电解液最佳比重，为1.70，光亮度为镜面亮度。同时还研发出新的优点，此电解液提高了原有的亮度，降低了一半的电流密度。在生产操作中，可节省50%的电费。使用寿命提高了40%，这种电解液一直在国内处于领先技术。 电解抛光工艺：除油--水洗--除锈--水洗--电解抛光--水洗--中和--水洗--钝化--包装 5．电解抛光的类型 目前生产上采用的电解抛光液主要有： ①硫酸、磷酸、铬酐组成的抛光液； ②硫酸和柠檬酸组成的抛光液； ③硫酸、磷酸、氢氟酸及甘油或类似化合物组成的混合抛光液。 钢铁零件的电化学抛光 (1)材料种类的影响钢铁材料的种类很多，对不同的钢材应采用不同的抛光液。 (2)各种因素的影响磷酸是抛光液的主要成分。它所生成的磷酸盐粘附在阳极表面，在抛光过程中起重要作用。硫酸可以提高抛光速度，但含量不能过高，以免引起腐蚀。铬酐可以提高抛光效果，使表面光亮。 电流密度对抛光质量有很大影响，对于不同的溶液应采用不同的电流密度，电流密度过低，整平作用差，过高会引起过腐蚀。温度对抛光质量有一定的影响，但不是主要因素。 (3)操作注意事项
湘潭大学兴湘学院 毕业设计说明书 题目：硬脆质材料双面/研磨抛光机的设计____ 专业：机械设计制造及其自动化_________ 学号： 32__________________ 姓名：王林森______ 指导教师：周后明____________________ 完成日期： 5月20___________________
湘潭大学兴湘学院 毕业论文（设计）任务书 论文（设计）题目：硬脆材料双面研磨抛光机的设计 学号：32 姓名：王林森专业：机械设计制造及其自动化 指导教师：周后明系主任：刘柏希 一、主要内容及基本要求 研磨抛光是硬脆材料获得光滑和超光滑高表面质量的重要加工方法。本设计为硬脆材料双面研磨抛光机的设计，其主要技术指标与要求如下： 1、研磨盘的直径：250mm； 2、工件研具相对速度：5~500m/min，连续可调； 3、运动形式：上研磨盘固定，下研磨盘与太阳齿轮、内齿轮转动 4、整机形式：立式，要求构造简单、成本低 设计要求： 1、完成硬脆材料双面研磨抛光机的方案设计和选型论证 2、硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计，绘制部件装配图和主要零件图，图纸总量折合成A0，不少于2张 3、撰写设计说明书，关键零件应进行强度和刚度计算，说明书字数不少于1~5万 4、完成资料查阅和3000字的文献翻译 二、重点研究的问题 硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计及相关强度校核。
三、进度安排 序号各阶段完成的内容完成时间 1 查阅资料、调研第1，2周 2 制订设计方案第3，4周 3 分析与计算第5，6周 4 绘部件装配图第7，8、9周 5 绘零件图第10，11周 6 撰写设计说明书第12，13周 7 准备答辩材料第14周 8 毕业答辩第15周 四、应收集的资料及主要参考文献 1、机械设计手册 2、机械传动设计手册 3、于思远，林彬. 工程陶瓷材料的加工技术及其应用[M] . 北京：机械工业出版社,2008. 4、袁哲俊，王先逵. 精密和超精密加工技术-第2版[M]. 北京：机械工业出版社,2007. 5、袁巨龙. 功能陶瓷的超精密加工技术[M]. 哈尔滨：哈尔滨工业大学出版社，2000 6、王先逵. 精密加工技术实用手册[M]. 北京：机械工业出版社,2007 7、相关网络资信
电解抛光与化学抛光的区别与特点 电解抛光，是金属零件在特定条件下的阳极侵蚀。这一过程能改善金属表面的微观几何形状，降低金属表面的显微粗糙程度，从而达到使零件表面光亮的目的。 电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工，某些工具的表面精加工，或用于制取高度反光的表面以及用来制造金相试片等。 在不少场合下，电解抛光可以用来代替繁重的机械抛光，尤其是形状比较复杂，用机械方法难以加工的零件。但是，电解抛光不能去除或掩饰深划痕、深麻点等表面缺陷，也不能除去金属中的非金属夹杂物。多相合金中，当有一相不易阳极溶解时，将会影响电解抛光的质量。 化学抛光，是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀过程中，金属表面被溶液浸蚀和整平，从而获得了比较光亮的表面。 化学抛光可以用于仪器、铝质反光镜的表面精饰，以及其它零件或镀层的装饰性加工。 同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，生产效率高等，但是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。 目前生产上采用的电抛光液主要有： ①硫酸、磷酸、铬酐组成的抛光液; ②硫酸和柠檬酸组成的抛光液; ③硫酸、磷酸、氢氟酸及甘油或类似化合物组成的混合抛光液。 钢铁零件的电化学抛光 (1)材料种类的影响钢铁材料的种类很多，对不同的钢材应采用不同的抛光液。
(2)各种因素的影响磷酸是抛光液的主要成分。它所生成的磷酸盐粘附在阳极表面，在抛光过程中起重要作用。硫酸可以提高抛光速度，但含量不能过高，以免引起腐蚀。铬酐可以提高抛光效果，使表面光亮。 电流密度对抛光质量有很大影响，对于不同的溶液应采用不同的电流密度，电流密度过低，整平作用差，过高会引起过腐蚀。温度对抛光质量有一定的影响，但不是主要因素。 (3)操作注意事项 ①新配制的溶液应在大阴极面积(阴极面积大于阳极面积几倍)的情况下进行通电处理，使一部分六价铬还原为三价铬。如果在使用过程中三价铬增加过多时，则相反，即在大阳极小阴极的情况下进行通电处理。 ②经常测定溶液的密度，并及时加水或加热浓缩溶液。溶液中的磷酸、硫酸和铬酐和三价铬的含量应定期分析和调整。 ③使用过程中由于阳极溶解铁的含量逐渐升高，当铁的含量(按fe2 03计算)达到7%～8%时部分更换，或全部更换溶液。 ④配制先将磷酸与硫酸混合，铬酐溶解于水，然后把酸的混合液倒人铬酐水溶液中加热8 0"c。在不断搅拌下慢慢加入明胶(此时反应激烈)。反应结束后(大约1 h后)溶液变为均匀的草绿色。 其他金属的电解抛光 铜及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸电解液。铝及铝合金的电解抛光采用磷酸一硫酸一铬酸性的溶液。 铝及铝合金的电解抛光在生产上应用得比较广泛。抛光后的零件如果随即进行短时间的氧化处理，不仅能得到平整光亮的外观还能形成完整的氧化膜，提高耐蚀性，可以长期保持其表面光泽。 溶液的配制方法，可以参照钢铁零件电解抛光的有关内容。
可逆体系的循环伏安研究 1 实验目的 1)掌握循环伏安法研究电极过程的基本原理 2)学习使用CHI660电化学综合分析仪 3)测定K3Fe(CN)6体系在不同扫描速率时的循环伏安图 2 实验原理 1)循环伏安法概述： 循环伏安法（CyclicVoltammetry）的基本原理是：根据研究体系的性质，选择电位扫描范围和扫描速率，从选定的起始电位开始扫描后，研究电极的电位按指定的方向和速率随时间线性变化，完成所确定的电位扫描范围到达终止电位后，会自动以同样的扫描速率返回到起始电位。在电位进行扫描的同时，同步测量研究电极的电流响应，所获得的电流－电位曲线称为循环伏安曲线或循环伏安扫描图。通过对循环伏安扫描图进行定性和定量分析，可以确定电极上进行的电极过程的热力学可逆程度、得失电子数、是否伴随耦合化学反应及电极过程动力学参数，从而拟定或推断电极上所进行的电化学过程的机理。 循环伏安法是进行电化学和电分析化学研究的最基本和最常用的方法，1922年由Jaroslav Heyrovsky创立的以滴汞电极作为工作电极的极谱分析法（Polarography），可以认为是伏安研究方法的早期形式，其对电化学研究领域的杰出贡献，Heyrovsky在1959年获得诺贝尔化学奖。随着固体电极，修饰电极的广泛使用和电子技术的发展，循环伏安法的测试范围和测试技术、数据采集和处理等方面显著改善和提高,从而使电化学和电分析化学方法更普遍地应用于化学化工、生命科学、材料科学及环境和能源等领域。 2)循环伏安扫描图： 循环伏安法研究体系是由工作电极、参比电极、辅助电极构成的三电极系统，工作电极和参比电极组成电位测量，工作电极和辅助电极组成的回路测量电流。工作电极可选用固态或液态电极，如：铂、金、玻璃石墨电极或悬汞、汞膜电极。常用的参比电极有：饱和甘汞电极（SCE）、银－氯化银电极，因此，循环伏安曲线中的电位值都是相对于参比电极而言。辅助电极可选用固态的惰性电极，如：铂丝或铂片电极、玻碳电极等。电解池中的电解液包括：氧化还原体系（常用的浓度范围：mmol／L）、支持电解质（浓度范围：mol／L）。循环伏安测定方法是：将CHI660电化学综合分析仪与研究体系连接，选定电位扫描范围E1～E2和扫描速率υ，从起始电位E1开始扫描，电位按选定的扫描速率呈线性变化从E1到达E2，然后连续反方向再扫描从E2回到E1，如图C17.1所示，电位随时间的变化呈现的是等腰三角波信号。 在扫描电位范围内，若在某一电位值时出现电流峰，说明在此电位时发生了电极反应。若在正向扫描时电极反应的产物是足够稳定的，且能在电极表面发生电极反应，那么在返回扫描时将出现于正向电流峰相对应的逆向电流峰。典型的循环伏安曲线如图C17.2所示，i pc 和i pa分别表示阴极峰值电流和阳极峰值电流，对应的阴极峰值电位与阳极峰值电位分别为E pc和E pa。（p表示峰值，a表示阳极，c表示阴极。）
电解抛光中常见的疑难杂症 1.电抛光后，表面为什么会发现似未抛光的斑点或小块？ 原因分析：抛光前除油不彻底，表面尚附有油迹。 2.抛光过后表面局部为什么有灰黑色斑块存在？ 原因分析：可能氧化皮未彻底除干净。局部尚存在氧化皮。解决方法：加大清除氧化皮力度，可选用“不锈钢氧化皮清除液”，“不锈钢氧化皮清除膏”等产品。因除锈除氧化皮产品较多，具体适用产品可咨询威海云清化工开发院。 3.抛光后工件棱角处及尖端过腐蚀是什么原因引起的？ 原因分析：棱角、尖端的部位电流过大，或电解液温度过高，抛光时间过长，导致过度溶解。解决方法：调整电流密度或溶液温度，或缩短时间。检查电极位置，在棱角处设置屏蔽等。 4.为什么工件抛光后不光亮并呈灰暗色？ 分析原因：可能电化学抛光溶液已不起作用，或作用不明显。解决方法：检查电解抛光液是否使用时间过长，质量下降，或溶液成分比例失调。 5.工件抛光后表面有白色的条纹是怎么回事？ 原因分析：溶液相对密度太大，液体太稠，相对密度大于1.82。解决方法：增大溶液的搅拌程度，如果溶液相对密度太大，用水稀释至1.72。在90~100℃条件下并加热一小时。 6.为什么抛光后表面有阴阳面，及局部无光泽的现象？ 原因分析：工件放置的位置没有与阴极对正，或工件互相有屏蔽。解决方法：将工件进行适当的调整，使工件与阴极的位置适当，使电力分布合理。
7.抛光后工件表面平整光洁，但有些点或块不够光亮，或出现垂直状不亮条纹，一般是什么原因引起的？ 原因分析：可能是抛光后期工件表面上产生的气泡未能及时脱离并附在表面或表面有气流线路。解决方法：提高电流密度，使析气量加大以便气泡脱附，或提高溶液的搅拌速度，增加溶液的流动。 8.零件和挂具接触点无光泽并有褐色斑点，表面其余部分都光亮是什么原因？ 原因分析：可能是零件与挂具的接触不良，造成电流分布不均，或零件与挂具接触点少。解决方法：擦亮挂具接触点，使导电良好，或增大零件与挂具的接触点面积。 9.同一槽抛光的零件有的光亮，有的不亮，或者局部不亮。 原因分析：同槽抛光工件太多，致使电流分布不均匀，或者是工件之间互相重叠，屏蔽。解决方法：减少同槽抛光工件的数量，或者注意工件的摆放位置。 10．为什么抛光零件凹入部位和零件与挂具接触点接触附近有银白色斑点？ 原因分析：可能是零件的凹入部位被零件本身或挂具屏蔽了。解决方法：适当改变零件位置，使凹入部位能得到电力线或缩小电极之间距离或提高电流密度。 11.已严格按照工艺规范操作，为什么抛光后零件表面有或多或少的过腐蚀现象？ 原因分析：是否溶液温度过高或电流密度太大，如果溶液配制没有问题，又严格操作，则可能是抛光前的处理问题。解决方法：严格执行电化学抛光前处理的操作，在酸洗过程中避免过腐蚀。不要把清洗水留在零件表面，带进抛光槽。 12.“不锈钢通用电解液”为什么使用一段时间会出现泡沫？ 原因分析：工件表面未除油，一些油污浮在电解液表面，对操作带来了困难。解决方法：已经出现此情况的，建议将表面的油污捞出，未出现的建议在抛光前进行除油。 13.电化学抛光液内硫酸与磷酸之间有什么关系？
电解抛光工艺介绍公司标准化编码 [QQX96QT-XQQB89Q8-NQQJ6Q8-MQM9N]
电解抛光工艺 1．定义： 电解抛光是以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面光亮度增大的效果。 2．原理： 电解抛光原理现在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平的过程。3．电解抛光优点： ⑴内外色泽一致，光泽持久，无法抛到的凹处也可整平。 ⑵生产效率高，成本低廉。 ⑶增加工件表面抗腐蚀性，可适用于所有不锈钢材质。 4．电化学抛光所需条件及设备 （1）电源： 电源可选用双相220V，三相380V。 （2）整流器 电解抛光对电源波形要求不是太严格，可选用可控硅整流器或高频整流器。 整流器空载电压：0—20v 负载电压（工作电压）：8—10v 工作电压低于6v，抛光速度慢，光亮度不足。 整流器电流：根据客户工件大小而定。 （3）电解槽及配套设施（阳极棒） 可选用聚氯乙烯硬板材焊接而成。在槽上装三根电极棒，中间为可移动的阳极棒，接电源阳极（或正极），两侧为阴极棒，连接电源阴极（负极）。 （4）加热设施及冷却设备 ①加热可选用石英加热管，钛加热管。 ②冷却可选用盘管，盘管可加热可冷却。 （5）夹具 最好选用钛做挂具，因为钛较耐腐蚀，寿命长，钛离子对槽液无影响。建议最好不要用铜挂具，因为铜离子进入会在不锈钢表面沉积一层结合力不
铝材的化学抛光及电化学抛光 一般工程应用的变形铝合金材料或建筑铝型材，其加工成型后的半成品，一般是可以直接进入阳极氧化生产线进行阳极氧化的。 所获得的阳极氧化膜在许多工程应用上表现出了良好的防护性能，起表面基本上能够达到均匀一致的外观要求。机械抛光后的铝工件，若直接进行阳极氧化处理，只能获得平滑的阳极氧化膜，还不能得到高反射率的膜层。 化学抛光或电化学抛光作为高级精饰处理方法，能去除铝制品表面较轻微的模具痕和擦划伤条纹，去除机械抛光中可能形成的摩擦条纹、热变形层、氧化膜层等，使粗糙的表面趋于光滑而获得近似镜面光亮的表面，提高了铝制品的装饰效果（如反射性能、光亮度等），并可以赋予更高的商业附加值，极大地满足了消费市场对具有光亮表面的铝制品要求。 因此，对于需要表面平整、均匀又光亮等特殊外观要求的阳极氧化膜，则需要预先进行化学抛光或者电化学抛光。化学抛光和电化学抛光与机械抛光一样，是制备高精饰光亮铝制品表面处理过程中不可或缺的表面预处理技术，某些情形下可以作为最终的精饰手段。 化学抛光和电化学抛光可以使特殊铝材获得非常光亮的表面，但是从抛光原理上看，化学抛光（及电化学抛光）与机械抛光却有着本质的区别。
机械抛光是利用物理手段通过切削与研磨等作用使铝材表面发生塑性形变，使得表面的凸部向凹部填平，从而使铝材表面粗糙度减小、变得平滑，改善了铝材的表面粗糙度，从而使其表面平滑或光亮。但是机械抛光会引起金属表面结晶的破坏、变质而产生塑性变形层，以及因局部加热而产生组织变化层。 化学抛光是一种在特殊条件的化学腐蚀，它是通过控制铝材表面选择性的溶解，使铝材表面微观凸出部位较其他凹洼部位优先溶解，而达到表面平整和光亮的目的。 电化学抛光又称电解抛光，其原理与化学抛光相似，也是依靠选择性溶解铝材表面表面微小凸出部分而达到平整光滑。 铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中，以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极，根据电化学尖端放电原理，通电后铝材表面微小凸出部位优先溶解，与此同时溶解产物与表面的电解液形成高电阻的粘稠性液膜层，微小凸出部位膜层浇薄，其电阻较小，从而继续保持优先溶解。 同时表面凹洼部位的液膜层厚，电阻增大，凹洼部位的溶解速度相对缓慢，经过短时间电解处理后，凸出部位先被溶解整平至凹洼部位的位置，铝材表面粗糙度降低而达到平滑光亮。铝的电化学抛光在有的文献上称为电抛光或电解抛光。 在工业生产中，采用化学抛光或电化学抛光的主要目的，一是取代机械抛光而获得平滑的光亮铝材表面；二是在机械抛光后再进行化学抛光或电化学抛光，以获得非常高镜面反射率的铝材
纯水处理工艺预处理的主要目的纯水设备采用世界上最先进的反渗透膜元件、压力容器、高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理精脱盐设备。设备的配置产品水的水质完全符合GMP标准。适用于各类医药企业制剂、配药、输液及针剂用水设备。纯水处理工艺预处理主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、硬度、有机物和余氯等妨碍后续反渗透运行的杂质。处理设施包括原水箱、原水泵、反洗水泵、板式换热器、双介质过滤器、活性炭过滤器、絮凝剂加药系统。 双介质过滤器主要去除水中的悬浮物和胶体。通过在其进水管道投加PAC絮凝剂，采用微絮凝过滤方式，使水中大部分悬浮物和胶体变成微絮体在双介质滤层中截留而去除，双介质过滤器共采用1台。双介质过滤器的反洗可根据运行时间来决定反洗。活性炭过滤器主要去除水中的有机物和余氯，系统采用1台活性炭过滤器.板式换热器利用蒸汽加热，使反渗透进水温度保持在25℃以上，防止因水温过低造成反渗透膜产水量不足。 纯水处理设备工艺中超纯水的制备包括加阻垢剂装置、二级反渗透装置、EDI装置、脱氧膜组、去TOC紫外灯、抛光混床、超纯水箱。 由于反渗透膜脱盐装置为溶解固形物浓缩排放和淡水的利用，根据原水水质分析报告,为了防止浓水端，特别是RO压力容
器中最后一根膜元件的浓水侧出现诸如CaCO3、CaSO4浓度积大 于其平衡溶解度指数而结晶析出，从而损坏膜元件的应用特性，因此在进入膜元件之前设置了阻垢剂投加装置。该装置由计量箱、计量泵组成。RO反渗透主要去除水中溶解盐类、有机物、二氧 化硅胶体、大分子物质及预处理未去除的颗粒物等。采用两级RO工艺可有效去除水中离子，同时使出水满足后续EDI装置工 艺进水要求。
抛光机是什么 抛光机 抛光机是一种电动工具，抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电动机通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。 解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。 精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。 下面介绍几种常用的机械抛光机的性能和特点。抛机光专门针对钢、铝铜等金属制品的表面和管类进行效果处理，几十种原厂配件满足不同需要，轻而易举制造出各种精度不同的雪花
《超纯水机验收细则[合集5篇]》第一篇：超纯水机验收细则优普（uph-iv-20t）超纯水机验收细则 根据gbt6682-xx分析实验室用水规格及分析方法中相关规定，分析实验室用水可分为三个级别，相应技术规格如下表所示：以上述标准为参考，验收优普超纯水机可从以下几方面进行： 一、仔细核对配件（厂家、规格、型号），确保配件正确、完整。 配件：超纯水主机（含：优普注塑反渗透膜（内装美国陶氏dows 膜），优普注塑纯化柱（内装美国陶氏dows树脂），plc集成电路控制板，高分子超滤膜，降toc进口紫外灯），优普加强型注塑预处理（含：kdf、干活性炭、高分子pp纤维、除氯棒），德国赛多利斯0.45+0.2μm终端微滤器，30升无菌纯水箱。 问题。dows膜、dows树脂、kdf、干活性炭、高分子pp纤维、除氯棒、德国赛多利斯0.45+0.2μm终端微滤器、高分子超滤膜具体型号。 二、仪器连接好后，观察接口处是否有漏水现象；仪器在运行过程中是否有噪音或是异常。 三、看出水量是否达到要求。制水量20l/h；取水量1.5l/min。 四、相关技术参数： 1、ro膜（反渗透膜）出水水质。电导率≤源水电导率×2%。 2、up（超纯水）出水水质：电阻率18.25mΩ.cm（ 1、2）均可用电导仪测定。（电阻率与电导率互为倒数关系）
3、ph值。可用ph酸度计检测。 4、重金属离子＜0.1ppb、toc（有机物含量）＜5ppb、热源（内毒素）＜0.001eu/ml、分子截流量：5000dalton（由于缺少检测仪器，无法检测） 第二篇：超纯水机安全操作规程超纯水机安全操作规程 一、开机前检查及注意事项 1、电气控制部分： （1）检查控制柜内部回路、控制回路、仪表回路等电源开关是否在“0n”位置。 （2）检查控制柜板面上各选择开关是否打在所需位置，指示灯指示是否正常。 2、确认流程 （1）检查并确认泵入口阀门已全开，出口阀门在适当开度，排尽泵内积存空气。 （2）检查系统流程，凡工艺运行所经管路上相关阀门必须按要求开闭，确认流程畅通。 （3）本系统控制采用plc控制，以纯水箱为界前后运行互不影响，ro控制柜及edi控制柜各有一状态选择开关，各位置泵运行状态如下： “自动”位置一一泵受plc程序控制启动或停止； “手动”位置一一泵受手动“启动”、“停止”两位旋钮开关控制（4）edi系统的启动开始采用手动操作，当系统的所有流量和压