等离子体-一部分
- 格式:doc
- 大小:402.00 KB
- 文档页数:19
等离子切割机的原理1.激光产生部分等离子切割机的工作原理是基于激光电离空气所形成的等离子体束。
切割机内部包含一个激光器,它可以产生高能量激光束。
激光束经过凸透镜聚焦,可以产生一个焦点。
在激光束的焦点位置,能量密度非常高,足以将空气中的分子电离形成等离子体。
2.等离子体形成部分当激光束聚焦到空气中时,激光的能量可以将空气中的分子电离,生成等离子体束。
由于激光束的高能量,等离子体束中的电子具有很高的能量,可以激发空气分子中的其他电子,形成更多的电子和离子。
这种电子和离子的相互作用会形成一个稳定的等离子体束。
3.切割过程等离子体束可以直接对金属材料进行切割。
当等离子体束照射到金属表面时,其高温和高能量可以使金属材料表面的原子发生振动,并剥离金属表面原子,形成腐蚀层。
同时,由于等离子体束的高能量,它可以在金属表面形成高压区域。
腐蚀层内的金属原子会被高压区域迫使蒸发,形成金属蒸气。
4.切割效果金属蒸气会形成等离子体束,进一步增加金属材料表面的温度和压力。
这种高温和高压可以使金属材料迅速熔化和汽化,形成切割缝隙。
等离子体束的高能量可以穿透金属材料,形成一个连续的切割线。
金属材料在等离子体束的作用下,被迅速切割成所需的形状和尺寸。
5.控制系统等离子切割机的控制系统非常重要,它可以控制激光束的位置、功率和速度,使切割过程更加精确和高效。
控制系统通常使用计算机控制,通过输入切割图案和参数,实现自动化操作。
操作人员可以通过监控显示器来监控和调整切割过程,以确保切割质量和效率。
总结:等离子切割机的原理是基于激光电离空气所形成的等离子体束进行切割。
通过激光器产生高能量激光束,激光束经过凸透镜聚焦并形成等离子体束。
等离子体束可以直接对金属材料进行切割,通过高温和高压的作用使金属材料迅速熔化和汽化,形成切割缝隙并完成切割。
通过计算机控制系统可以实现自动化操作,确保切割的精度和效率。
等离子切割机在金属加工领域具有广泛的应用。
一、什么是等离子体?等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质,它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。
等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。
二、什么是带电粒子的自由行程?如何计算?举例计算。
平均自由程指的是带电粒子不和其他粒子碰撞的一段距离,一般来说都是取平均自由程。
它表征的物理含义是:空间里的带电粒子热运动的宏观碰撞的几率。
三、带电粒子的产生和消失方式?带电粒子产生方式有两种:一是气体分子本身发生电离(包括撞击电离、光电离、热电离等多种形式),二是气体中的固体或液体金属发生表面电离(包括正离子撞击阴极表面、光电效应、热电子发射,强场发射等);带电粒子在电场的驱动下作定向运动,在到达电极时,消失于电极上而形成外电路中的电流。
四、放电的基本类型有哪些?各有什么特点?放电分为辉光放电,电弧放电,火花放电,电晕放电和介质阻挡放电。
辉光放电最显著的特征是正离子空间电荷区的电荷密度比电子空间电荷区大得多,使得整个极间电压几乎全部集中在阴极附近的狭窄区域内,其特点是气压不大,功率小,电流密度小,放电区占据整个空间;电弧放电特点是电流增大时,极间电压下降,弧柱电位梯度也低,每厘米长电弧电压降通常不过几百伏,有时在1伏以下;火花放电特点是火花放电的两个电极间在放电前具较高的电压,当两电极接近时,其间介质被击穿后,随即发生火花放电。
伴随击穿过程,两电极间的电阻急剧变小,两极之间的电压也随之急剧变低;电晕放电特点是它只在极不均匀电场中出现,且随电压升高光层扩大;介质阻挡放电是在电晕放电时,继续升高电压,从电晕电极伸展出的明亮通道现象.。
等离子辐射
等离子辐射是指等离子体通过释放能量而发出的电磁辐射。
等离子体是由电离了的气体或物质组成的,其特点是带有正电荷和负电荷的离子和自由电子的混合体。
当等离子体中的离子和电子重新结合时,会释放出能量,其中一部分以电磁波的形式传播出去,形成等离子辐射。
等离子辐射可以分为热辐射和非热辐射两种类型。
热辐射是由于等离子体中的离子和电子之间的碰撞和重新结合而产生的辐射。
这种辐射与等离子体的温度有关,温度越高,辐射的频率和强度就越高。
热辐射具有连续的频谱,其中包含了所有波长的电磁辐射。
非热辐射是由于等离子体中的离子和电子受到外界电场或激光等的作用,发生非热平衡而产生的辐射。
非热辐射的频率和强度与激励源的性质和参数有关。
非热辐射通常具有离散的频谱,其频率和强度集中在某些特定的波长或频率上。
等离子辐射在许多领域都有重要的应用。
例如,在激光技术中,等离子辐射可以用于激光光谱分析、激光切割和激光照明等方面。
在核聚变反应中,等离子辐射是产生能源的关键过程。
此外,等离子辐射还可以用于医学诊断和治疗、大气物理学研究等领域。
大气压等离子体方法我折腾了好久大气压等离子体方法,总算找到点门道。
说实话,刚开始接触大气压等离子体的时候,我完全是一头雾水。
我就知道这是个很高大上的东西,但是具体怎么操作,完全不明白。
我一开始也是瞎摸索,各种找资料,网上的、图书馆的书里的,只要是和等离子体有关的,我都拿来研究。
我最早尝试按照一些很简单的实验装置搭建去做。
那时候我以为只要把那些仪器按照图上的连接起来就好了,就像搭积木一样嘛。
我找来了电源,还有处理气体的装置,就开始组装。
可是呢,一开电源就出问题了,完全没有产生我想要的大气压等离子体。
我当时真是沮丧极了,也不知道问题出在哪。
后来我就一直研究那个电路图,经过很久才发现原来是我在连接电极的时候犯了个超级低级的错误。
就像你本来要把水管接好让水流过去,结果你有一根水管根本就没接上,那水肯定流不过去啊。
这电极没接对,等离子体当然产生不了啊。
后来我就谨慎多了。
在做下一次尝试的时候,我把每一个连接的部分都检查好多遍。
我还看了好多其他人做的实验记录,发现气体流量和通入的气体种类都很关键。
我先用氩气试,这就好比先找个熟悉的路走走看。
调整气体流量的时候,就像是在小心翼翼地拧水龙头,一点一点地试,到底多大的流量最合适。
不过这时候新的问题又出现了,就算有等离子体产生了,它的稳定性却不好。
我当时就很苦恼,这又要怎么解决呢?我突然想到我在研究资料的时候看到过,可以加个磁场来稳定等离子体。
于是我又开始捣鼓加磁场的装置。
这个可费劲了,因为磁场的强度大小和方向都要调整到合适的程度,而且磁场发生器和之前的装置要配合得很好。
我就像个在黑暗里摸索的人,只能一点点地调整,每调一次就看看等离子体的稳定性有没有变好。
经过这么长时间的折腾,我有几点心得。
首先,每一个小的部分都不能马虎,像连接、气体流量这些基础的部分必须做到准确和稳定。
其次,多参考别人的经验和实验确实很有帮助,有时候可以让你少走很多弯路。
再有,遇到问题不要慌,就一点点排查。
等离子体德拜半径等离子体德拜半径是等离子体物理学中一个非常重要的参数和指标。
它是指等离子体中正、负离子之间的平均间距离。
等离子体是一种离子化的气体,其构成部分包括正、负离子和自由电子,是宇宙中最常见的物质状态。
等离子体在许多方面都有着重要的应用,如聚变能、等离子体医学和等离子体加工等领域。
而等离子体德拜半径的概念和计算方法对于等离子体物理研究和应用实践都有着重要的意义。
等离子体德拜半径的概念最早由德国物理学家彼得·德拜(Peter Debye)提出,是等离子体物理学中一个非常基础和重要的概念。
德拜半径通常用符号aD表示,其定义为:aD = (ε0kBT / ne2)1/2其中,ε0为真空介电常数,kB为玻尔兹曼常数,T 为等离子体的温度,ne为电子数密度,e为电子电荷。
可以发现,德拜半径是由等离子体的物理参数所决定的,包括了温度、电子密度和电子电荷等因素。
因此,等离子体的德拜半径是一个用于表征等离子体物理性质的非常重要的参数。
在等离子体物理学中,德拜半径有着非常重要的应用价值。
首先,德拜半径可以用于表征等离子体的离子度和自由电子度。
由于德拜半径与电子密度成反比关系,因此,德拜半径较小的等离子体具有更高的离子度和较低的自由电子度,而德拜半径较大的等离子体则相反。
其次,德拜半径还可以用于表征等离子体的热力学性质。
由于德拜半径与温度成反比关系,因此,较高温度下的等离子体德拜半径较小,具有更高的能量密度和较强的相互作用能力,而较低温度下的等离子体德拜半径较大,其能量密度和相互作用能力则相应减弱。
在等离子体应用研究中,德拜半径也有着非常重要的意义。
例如,在等离子体聚变实验中,德拜半径可以用来估算等离子体核反应的相互作用概率。
在等离子体加工中,德拜半径则可以用来控制等离子体反应的位置和规模,以实现精确制备材料表面。
总之,等离子体德拜半径是等离子体物理学中一个非常重要的参数和指标。
其定义和计算方法非常简单明了,但其背后所涉及的物理学原理和应用实践却非常丰富和广泛。
电感耦合等离子体原子发射光谱仪的构成及各部分主要作
用
电感耦合等离子体原子发射光谱仪是一种用于检测和分析原子
发射光谱的高精度仪器。
该仪器由多个部分组成,包括放电室、光谱仪、探测器、稳定电源、气源和控制系统等。
放电室是该仪器的核心部分,主要由电极、感应线圈和气体供应系统组成。
当放电室通入气体并施加电场时,气体中的原子被激发并发射出特定的光谱线。
这些光谱线会通过光路系统被收集和分离,并送入光谱仪进行分析。
光谱仪包括光栅和检测器两部分。
光栅用于分离光谱线,使其在不同的波长处聚焦到不同的位置上。
而检测器则用于测量光强度,并将其转换为电信号发送给数据处理系统。
稳定电源用于给放电室提供直流电源,以维持稳定的放电环境。
气源则提供各种气体,以满足不同的分析需求。
控制系统则用于控制整个仪器的操作,包括调整光路、光栅角度和检测器位置等。
电感耦合等离子体原子发射光谱仪可以广泛应用于分析不同类
型的样品,包括金属、岩石、食品、环境污染物等。
其高灵敏度、高分辨率和低检出限等特点使其成为现代分析技术中的重要工具。
- 1 -。
第三章,托卡马克工程一个托卡马克等离子体实验装置大致包括这样几部分(图3-1)。
装置的核心部分是发生聚变反应的区域,可以称为装置的主体。
它主要由真空室和产生磁场的磁体组成。
在当前主潮流的装置上还装备了排除杂质的偏滤器。
围绕装置主体的部分,恰如计算机外设,包括诊断系统、辅助加热和电流驱动系统,以及抽气和充气系统,或者拿反应堆的语言说是加料和排灰系统。
以上两部分均安装在一个大厅中,和外界用屏蔽墙防护高能粒子和射线所带来的人身伤害和对仪器设备的干扰。
而控制系统、数据采集和处理系统、磁体电源和其它一些电源、长波波源安置在大厅以外。
图3-1,托卡马克装置各部分分解图3.1 环向磁体托卡马克的磁体系统主要由环向场和极向场两部分组成。
环向场磁体的电流在极向,产生环向磁场约束等离子体。
而极向场磁体的电流在环向,构成欧姆加热变压器以产生和加热等离子体,并保持等离子体的平衡。
两组磁体在空间是正交关系。
在有些装置上还安装了一些产生局部磁场的磁体,可以称为多极场,1,环向磁体环向磁体产生约束等离子体的环向磁场,是托卡马克装置中最重要部件之一。
在所有的托卡马克装置上,环向磁体都是由分立的线圈组成。
这些线圈的中心位于一圆形环轴上,线圈与环轴垂直。
按照安培定律,线圈内的磁场B 和线圈电流I 以及总匝数N 的关系为∫⋅=l d B NI v v 01μ (3-1)其中的积分为线圈内绕环任意回路积分。
考虑积分路径为线圈内半径为R 的圆,而环向磁场假设是均匀的,就得到磁场的强度为RNI B πμ20= (3-2) 从(3-2)可知,真空中的环向磁场和大半径成反比,环内侧强而外侧弱。
一般以环轴处(等离子体的中心处)的磁场为环向场)(0R B 的标定值。
从安培定律角度看,)(0R B 或其它半径处的磁场强度仅和通过积分回路内总电流有关,和线圈形状大小无关。
如果大半径和设计的磁场强度决定,从(3-2)可以知道总电流NI 大小。
但是,由于线圈所储磁能为221LI ,在保证等离子体范围内有充分强的磁场的前提下,应尽量减小线圈的尺寸。
等离子体显示原理
等离子体显示原理是一种利用等离子体发光原理来实现图像显示的技术。
它主要由三个主要部分组成:发光层、背光源和透明电极。
首先,背光源产生的紫外线通过透明电极通入发光层。
发光层中包含有许多微小的气泡,这些气泡内有氮气和小部分的稀有气体,如氩气。
当紫外线经过电极作用后,气泡中的氮气分子与稀有气体发生碰撞,激发气体原子。
被激发的原子会回到基态时释放出能量。
接下来,释放出的能量激发了发光层中的荧光物质,使其发出可见光。
荧光物质被激发后发光的颜色取决于其自身的特性。
这些荧光物质被分为红色、绿色和蓝色,它们的组合可以产生各种颜色。
最后,荧光物质发出的光穿过液晶层并出现在显示器屏幕上。
液晶层中的液晶分子在电场的作用下对光的透过度进行调节,从而控制光的强度和颜色,形成图像。
通过不断调控荧光物质的发光和液晶层的光透过度,可以实现对图像的显示。
等离子体显示器由于其色彩鲜艳、对比度高和快速响应等优点,被广泛应用于电视、电脑显示器和其他大屏幕显示设备中。
等离子体工程的理论和应用等离子体是指电离气体中部分或者全部电子被剥离形成的高度激发和高度活化的气态物质。
等离子体具有高温高压、高能量和高过程化的特性,因此被广泛应用于能源、照明、材料处理、生物医学、环境保护等多个领域,是当代科技的热点和难点之一。
等离子体工程是指通过对等离子体的物理、化学、数学等多学科的综合研究,制备、控制和应用等离子体的技术和方法。
本文将从等离子体产生和控制、等离子体照明和加热、等离子体在材料处理和生物医学等领域的应用等几个方面进行介绍。
一、等离子体产生和控制等离子体的产生方式主要有射频电离、微波电离、电子束加热等几种。
射频电离是指利用电场驱动等离子体振荡,使其离子化、激发形成等离子体的方法。
微波电离是使用微波能量对气体进行电离的方法。
电子束加热是通过向气体中注入电子束,使其进行电离、激化的方法。
等离子体的控制则是指通过磁场、电场等手段控制等离子体的传热、传质、流动等物理化学特性的方法。
等离子体的控制技术对于等离子体工程的研究和应用至关重要。
二、等离子体照明和加热等离子体照明和加热是指利用等离子体发光和辐射的能量对物体进行照明和加热的方法。
等离子体照明具有颜色丰富、光强高、无影等特点,可以用于光源、室内装饰等多个领域。
等离子体加热则是指利用等离子体内部的高能粒子对物体进行加热的方法。
等离子体加热具有快速、均匀、高效等特点,可以用于工业加热、食品加工等多个领域。
三、等离子体在材料处理中的应用等离子体在材料处理中的应用包括等离子体修饰、表面硬化、薄膜制备等多个领域。
等离子体修饰是指利用等离子体对材料表面进行改性的方法。
等离子体修饰可以改变材料表面的性质,使其具有更好的抗腐蚀、耐磨损、耐腐蚀等性质。
表面硬化是指利用等离子体对表面进行深度硬化的方法。
表面硬化可以提高底材表面硬度、耐磨性和抗疲劳性。
等离子体薄膜制备是指利用等离子体沉积制备薄膜的方法。
等离子体薄膜制备可以制备出具有特殊性能的薄膜,如耐腐蚀、抗氧化、高导电等。
等离子体刻蚀机使用说明书【使用说明书】等离子体刻蚀机(最新版)第一部分:简介1.1产品概述本产品是一种使用等离子体技术进行刻蚀的专用设备,广泛应用于半导体、光电子、微纳加工等领域。
本产品结构紧凑、操作简单、稳定可靠,适用于各种规格的衬底材料。
1.2主要特点(1)采用高频等离子体生成系统,能够产生高浓度的等离子体,提高刻蚀效率;(2)设备中配备了多种腐蚀和刻蚀气体,满足不同材料的刻蚀需求;(3)具备自动控制系统,实现精确的刻蚀参数设定和控制;(4)设备外壳采用防腐蚀材料制作,确保设备长期稳定的工作;(5)设备具备自动清洗功能,方便用户进行日常维护。
第二部分:安装与调试2.1安装(1)将设备放置在通风良好的地方;(2)将设备连接至电源,并确保电源接地可靠;(3)连接进气管道,确保刻蚀气体供应正常;(4)确保设备周围环境无振动和灰尘。
2.2调试(1)打开设备电源,确保设备正常启动;(2)检查刻蚀气体供应是否正常并按需设定气体流量;(3)按照刻蚀材料的要求设定刻蚀参数,如功率、时间等;(4)开始刻蚀,观察刻蚀结果并根据需求调整参数;(5)在设备切换或维护前,先关闭电源,并等待设备冷却后再进行操作。
第三部分:操作说明3.1设备界面设备界面包括显示屏、按键、控制面板等。
显示屏显示当前设备状态和刻蚀参数设定,按键用于选择和调整参数,控制面板用于启动和停止设备等。
3.2参数设定(1)使用方向键选择需要设定的参数;(2)使用增减键调整参数值;(3)按下确认键保存设定值。
3.3刻蚀操作(1)将待刻蚀样品放置在夹持台上,并调整位置;(2)打开气源,确保刻蚀气体正常供应;(3)设定刻蚀参数,确保设定值符合实际需求;(4)开始刻蚀,观察刻蚀过程中的参数波动;(5)刻蚀完成后关闭设备,等待设备冷却后取出样品。
第四部分:维护与保养4.1日常维护(1)定期清洁设备外壳,以防止腐蚀和灰尘积累;(2)检查气源管道和阀门是否正常,定期更换损坏或老化的部件;(3)检查设备接地是否可靠,防止静电积累;(4)定期检查刻蚀参数和设备状态,确保设备正常工作。
等离子体反应机理
等离子体就是电离气体,它可以部分或全部电离。
等离子体是指有足够多的分子或原子已经电离的气体,其中负电粒子主要是自由电子。
许多中性粒子组成的气体都可以形成等离子体,最常用的是O2 和CF4 的混合气体,其中真正起到蚀刻作用的是O 原子,而加入的CF,气体是为了引入F 原子。
常用的刚性板材料主要有环氧树脂玻璃布层压板及聚酰亚胺树脂玻璃布层压板及相应的半固化片【高分子材料】。
常用的挠性介质薄膜有聚酯类、聚酰亚胺类和聚氟类,聚酰亚胺类是最常用的生产刚挠印制板的材料【高分子材料】。
粘结薄膜有丙烯酸类、环氧类和聚酯类【高分子材料】。
因此,刚挠板的孔壁钻污主要包括环氧树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸胶环氧类和聚酯类等【高分子材料】。
1. O2和CF4的混合气体的等离子体化学反应示意式为:
真空、RF 电源
a).O2+CF4——————————>等离子体[O+OF+CF3+CO+COF+F+e-+ …]
b).高分子材料(污染物)[C、H、O、N] + 等离子体[O+OF+CF3+CO+F + …]——————>CO2+HF+H2O+NO2+(经等离子反应后的副产物) ……
2. CF4含量的影响
由反应机理可以看出,活化态的O 原子通过进攻C=C 键、C=O 键进行反应,而F原子则进攻C-H 键,从而提高凹蚀速率加速反应进程。
我们对气体的纯度要求很严格,纯度为99.999%的CF4和O2能够很好的满足蚀刻条件的要求,当纯度过低时,其中含有的水份,不但会影响蚀刻速率,而且会影响真空度和降低真空泵的使用寿命。
等离子原理介绍
等离子是一种高度激发态的物质状态,它的存在形式类似于气体,但与普通气体有着明显的区别。
等离子体中的原子或分子,由于受到能量的激发,失去了部分或全部的电子,从而产生带正电荷的离子和带负电荷的自由电子。
由于等离子体中带电粒子的存在,它具有许多独特的性质和行为。
等离子原理可以通过激发气体或物质来实现。
通常,激发等离子体的方法有热激发、强电场激发、辐射照射等。
当外部能量被施加到气体或物质上时,原子或分子中的电子会被激发到高能级轨道,使它们脱离原子或分子结构,形成自由电子。
这些自由电子与原子或分子的正离子碰撞,导致电荷的分离,从而形成等离子体。
等离子原理在实际应用中具有广泛的用途。
等离子体可用于产生光、热、电和化学反应。
等离子体还可用于制造等离子体显示器、离子推进器、等离子体切割机和等离子体聚变反应器等高科技设备。
此外,等离子体在天体物理学,如太阳冕和北极光的形成中也发挥着重要的作用。
总之,等离子原理是通过激发气体或物质中的原子或分子,使其失去电子从而形成离子和自由电子的高度激发态物质状态。
它具有独特的性质和行为,广泛应用于科学研究和工程技术领域。
1、等离子点火技术等离子体是部分或完全电离的离子化的气态状物质,它是由大量的带电粒子(离子、电子)和中性粒子(原子、分子)组成的。
在整个等离子体内,电子所带的负电荷数和离子所带的正电荷数相等,所以称它为等离子体。
等离子体是处于高温或特定激励下的一种物质状态。
当用等离子体与煤粉作用时,在燃烧流中会形成T > 4000K和温差大的局部高温区,当煤粉颗粒落入该区后受到高温的热冲击,迅速释放出挥发分,并使煤粉颗粒因急剧热膨胀而破碎,从而迅速引发周界煤粉气流着火燃烧。
在等离子燃烧器内煤粉的点火燃烧过程中,等离子体只是引燃热源,起活化作用而已。
真正将燃烧器内部大量煤粉加热到挥发分析出,达到着火点的热量来源于煤粉本身。
以中国烟台龙源电力技术有限公司为代表的直接点燃型等离子点火技术(简称“直燃型等离子点火”)。
其主要技术原理是:直接将锅炉主燃烧器改为兼有等离子点火功能的燃烧器,即直接把锅炉原来的主燃烧器设计为等离子燃烧器,在该燃烧器上安装等离子发生器,当锅炉启停和低负荷稳燃时,投入等离子发生器(又称等离子枪),起到点火燃烧器的作用。
当锅炉高负荷正常运行时,等离子发生器停运,该等离子燃烧器作为锅炉主燃烧器使用。
采用多级点火分级燃烧。
中心筒一级燃烧室:引入浓缩后的含粉气流,等离子电弧与煤粉在此发生强烈的电化学反应,煤粉裂解,产生大量挥发分并被点燃;内套筒二级燃烧室:挥发分及煤粉继续燃烧,并将后续引入的煤粉点燃,实现分级燃烧;外套筒:利用高速含粉气流冷却二级燃烧室,同时将部分煤粉推入炉膛燃烧。
燃烧器设有壁温监视测点,便于随时对壁温进行调整,既有利于点火又可防止燃烧器被烧坏。
该型燃烧器的点火特点是部分煤粉首先在燃烧器一级燃烧筒内燃烧,第一级筒内煤粉火焰温度较高,一级燃烧筒壁利用外侧温度较低的淡煤粉气流冷却,以防止结渣和烧损。
同时,利用双筒结构将部分煤粉推至燃烧器出口,在炉膛内燃烧。
内、外筒形成同心双层并联通道,有利于着火燃烧,降低飞灰含碳量,并减少燃烧器的阻力,简化燃烧器的结构。
等离子体化工导论讲义 前言 等离子体化工是利用气体放电的方式产生等离子体作为化学性生产手段的一门科学。因其在原理与应用方面都与传统的化学方法有着完全不同的规律而引起广泛的兴趣,自20世纪70年代以来该学科迅速发展,已经成为人们十分关注的新兴科学领域之一。 特别是,近年来低温等离子体技术以迅猛的势头在化工合成、材料制备、环境保护、集成电路制造等许多领域得到研究和应用,使其成为具有全球影响的重要科学与工程。例如:先进的等离子体刻蚀设备已成为21世纪目标为0.1μm线宽的集成电路芯片唯一的选择,利用等离子体增强化学气相沉积方法制备无缺陷、附着力大的高品位薄膜将会使微电子学系统设计发生一场技术革命,低温等离子体对废水和废气的处理正在向实际应用阶段过渡,农作物、微生物利用等离子体正在不断培育出新的品种,利用等离子体技术对大分子链实现嫁接和裁剪、利用等离子体实现煤的洁净和生产多种化工原料的煤化工新技术正在发展。可以说,在不久的将来,低温等离子体技术将在国民经济各个领域产生不可估量的作用。 但是,与应用研究的发展相比,被称为年轻科学的等离子体化学的基础理论研究缓慢而且较薄弱,其理论和方法都未达到成熟的地步。例如,其中的化学反应是经过何种历程进行,活性基团如何产生等等。因此,本课程力求介绍这些方面的一些基础理论、研究方法、最新研究成果以及应用工艺。 课程内容安排: 1、等离子体的基本概念 2、统计物理初步 3、等离子体中的能量传递和等离子体的性质 4、气体放电原理及其产生方法 5、冷等离子体中的化学过程及研究方法 6、热等离子体中的化学过程及研究方法 7、当前等离子体的研究热点 8、等离子体的几种工业应用
学习方法: 1、加强大学物理和物理化学的知识 2、仔细作好课堂笔记,完成规定作业 3、大量阅读参考书和科技文献
第一章 等离子体的概念 1.等离子体的定义 a.通过气体放电的形式,将电场的能量传递给气体体系,使之发生电离过程,当电离程度达到一定的时候,这种物质的状态就是等离子体状态。 b.简单说来,等离子体是由气体分子、原子、原子团、电子、离子和光子组成的体系,是物质的第四态。
2.等离子体的一些基本性质 a.高焓、高内能状态的物质,可以非常容易地为化学反应的体系提供活化能。 b.等离子体是一种导电流体,因此这种流体容易与电场和磁场发生相互作用,从而将电场能量转化为自己的内能,为化学反应的体系提供活化能。
3.等离子体的用途 a.能源领域:受控核聚变 b.空间物理及天体物理 c.材料领域:材料的改性:例如增加四氟乙烯表面的浸润性。 材料的合成:高分子材料:通过等离子体增强它的接枝与聚合。 合成超细粉末:例如合成纳米粉体:SiC,AlN,TiO2…… d.在天然气化工方面:天然气制乙炔、合成气
4、等离子体的描述 1)等离子体的密度: ne ni ng 单位m-3 cm-3 2) 电离度的概念 α=ne/(ng+ne) 0单位体积中的电子云密度与原来气体密度的比值。无量纲 3) 等离子体的温度 Te,Tg,Ti……Tp 一般情况下,温度由K,℃来描述,但在等离子体物理中,用eV(电子伏特)描述: 1eV=1.602*10-19焦耳=11600K 体系温度Tp=(Tene+Tgng+Tini)/(ne+ng+ni)
4) 等离子体的分类 a.高温等离子体 T>106 K b.低温等离子体:Tp≤104K 热等离子体:中性气体温度等于电子温度; 冷等离子体:Te≥Ti,Tg
4.等离子体的压强:P=nKT, Pe,Pg,……Pi Pp= Pe+ Pg+ Pi
作业
1、在辉光放电等离子体中,气体的压强为20 Pa,电离度α=10-4,电子温度Te=1eV,重粒子温度350K。试确定放电管中的等离子体宏观温度,这种等离子体是热等离子体还是冷等离子体。 2、在弧光放电等离子体中,电子密度为1014cm-3,中性气体密度为1017cm-3,电子温度与重粒子温度同为0.5eV,试计算这种等离子体的压强。(作理想气体近似 3、一般情况下,等离子体中存在几种基本粒子?试简述这些基本粒子的主要特征。
第二章 微观粒子热运动速率和能量统计分布律
一 麦克斯韦速率分布(见图 2) 只要粒子通过充分的碰撞,发展形成平衡态,该体系粒子性质服从麦氏分布 f(v)=222
3
2exp24vkTmvkTm
式中m(kg)为被统计粒子的质量,k=1.38X10-23J/K为玻尔兹曼常数,T(K)为粒子的温度。分布函数的意义:分布在单位速率区间内粒子的数目与总数目之比。 设系统的粒子总数为N0,利用分布函数可以非常方便地得到速率在vvvd~内的粒子数目
dvvfNdN0,
注:dvvf=1……归一化条件 分布函数的归一化:0dvvf =1
分布函数的意义: 1、若长时间地跟踪某一粒子,其处于dvv~区间内的几率由分布函数表示。 2、若在某一瞬间把整个系统的粒子速度固定,那么处于dvv~区间内粒子的数目占整个系统粒子数目的比值即它所占的分率。 利用分布函数,也可以对微观粒子所体现的宏观量进行统计计算。
单个微粒的内能:KT23 理想气体单位体积的内能:KTn23
dvxfmvE
02
2
1
=dvvekTmmvkTmv22230222421 =kTmkTkTmm2328342212523 k :波尔兹曼常数; T:被统计粒子的温度 (v)
图2 分布函数的图象
f(v) 注: dxex0n2xf(n) n f (n) n f (n) 0 21 1 2
1
2 341 3 22
1
4 583 5 3
1
二、麦氏能量分布函数 如果将统计参量设定为粒子的动能,则分布函数的形式为
2
12
3
2214kTekTf
式中ε表示粒子的动能,K 、T意义同前。如果被统计的粒子处在保守力场中,上式中粒子的能量应用动能和势能来代替,即ε= εk +εp .
2
12
3
2214kkTpekTf
作业:1、利用能量分布函数计算一摩尔单原子理想气体分子的内能。 2、速率分布函数的意义是什么?试说明下列各量的意义: Nf(v)dv 21()vvNfvdv 21()vvvfvdv
三、麦氏速度分布函数 以上讨论的是粒子按速率分布的规律,对粒子的速度的方向未作任何确定。下面进一步介绍粒子按速度分布的规律。
kTvvvmkTmvvvfzyxzyx2)(
exp2,,222
2
3
=
••kTmvkTmkTmvkTmkTmvkTmzyx2exp22exp22exp2
22122122
1
= f(vx) f(vy) f(vz)
利用速度分布函数,可以对与粒子速度关联的物理量进行统计求得其宏观量。 例: 计算粒子对容器壁的压强。 分析:离子对容器的压强,实质上是微观粒子在单位时间内传递给容器壁单位面积的动量。设容器内粒子密度为n,在器壁上取一面元dA为底面积,以vxdt为高作一柱体垂直于dA, 在柱形体积中,在dt 内速度在vx-vx+dvx 的粒子传递给器壁的动量为
xxmvdtdAv2)nf(vdpx
△xxxxdvmvdtdAvvnfp02
02221022exp2122xxxxxxdvvkTmvkTmndtdAmdtdAdvvvnf
0222122exp21222kTmvdkTmvvmkTkTmdtdAnmxxx
0202212exp2exp21222xxxxdvkTmvkTmvvmkTkTmdtdAnm
02212exp22122xxdvkTmvkTmmkTdtdAnm
dtdAnKT 四、微观粒子按自由程分布规律 粒子在任意两次连续碰撞之间通过的路程称为粒子的自由程,用表示。由于粒子随机运动,这些自由程有长有短,具有偶然性。这些自由程的平均值称为