高能原电子能量与金属的有效真二次电子发射系数的关系
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第一次作业1、光电检测技术有何特点?光电检测系统的基本组成是怎样的?答:光电检测技术是将光学技术与现代技术相结合,以实现对各种量的测量,它具有如下特点:(1)高精度,光电测量是各种测量技术中精度最高的一种。
(2)高速度,光电检测以光为媒介,而光是各种物质中传播速度最快的,因此用光学方法获取和传递信息的速度是最快的。
(3)远距离、大量程,光是最便于远距离传递信息的介质,尤其适用于遥控和遥测。
(4)非接触式测量,不影响到被测物体的原始状态进行测量。
光电检测系统通过接收被测物体的光辐射,经光电检测器件将接收到的光辐射转换为电信号,再通过放大、滤波等电信号调理电路提取有用信息,经数模转换后输入计算机处理,最后显示,输出所需要的检测物理量等参数。
2、什么是能带、允带、禁带、满带、价带和导带?绝缘体、半导体、导体的能带情况有何不同?答:晶体中电子所能具有的能量范围,在物理学中往往形象化地用一条条水平横线表示电子的各个能力值,能量愈大,线的位置愈高,一定能量范围内的许多能级(彼此相隔很近)形成一条带,称为能带。
其中允许被电子占据的能带称为允带。
允带之间的范围是不允许电子占据的,称为禁带。
在晶体中电子的能量状态遵守能量最低原理和泡利不相容原理,晶体最外层电子壳层分裂所形成的能带称为价带。
价带可能被电子填满也可能不被填满,其中被填满的能带称为满带。
半导体的价带收到光电注入或热激发后,价带中的部分电子会越过禁带进入能量较高的空带,空带中存在电子后即成为导电的能带--导带。
对绝缘体和半导体,它的电子大多数都处于价带,不能自由移动,但是热,光等外界因素的作用下,可以少量价带中的电子越过禁带,跃迁到导带上去成为载流子。
绝缘体和半导体的区别主要是禁的宽度不同。
半导体的禁带很窄,绝缘体的禁带宽一些,电子的跃迁困难的多,因此,绝缘体的载流子的浓度很小。
导电性能很弱。
实际绝缘体里,导带里电子不是没有,并且总有一些电子会从价带跃迁到导带,但数量极少,所以,在一般情况下,可以忽略在外场作用下他们移动所形成的电流。
复习题一、名词解释=0而使衍射线有规律消失的现象称为系统消光。
1、系统消光: 把由于FHKL2、X射线衍射方向: 是两种相干波的光程差是波长整数倍的方向。
3、Moseley定律:对于一定线性系的某条谱线而言其波长与原子序数平方近似成反比关系。
4、相对强度:同一衍射图中各个衍射线的绝对强度的比值。
5、积分强度:扣除背影强度后衍射峰下的累积强度。
6、明场像暗场像:用物镜光栏挡去衍射束,让透射束成像,有衍射的为暗像,无衍射的为明像,这样形成的为明场像;用物镜光栏挡去透射束和及其余衍射束,让一束强衍射束成像,则无衍射的为暗像,有衍射的为明像,这样形成的为暗场像。
7、透射电镜点分辨率、线分辨率:点分辨率表示电镜所能分辨的两个点之间的最小距离;线分辨率表示电镜所能分辨的两条线之间的最小距离。
8、厚度衬度:由于试样各部分的密度(或原子序数)和厚度不同形成的透射强度的差异;9、衍射衬度:由于晶体薄膜内各部分满足衍射条件的程度不同形成的衍射强度的差异;10相位衬度:入射电子收到试样原子散射,得到透射波和散射波,两者振幅接近,强度差很小,两者之间引入相位差,使得透射波和合成波振幅产生较大差异,从而产生衬度。
11像差:从物面上一点散射出的电子束,不一定全部聚焦在一点,或者物面上的各点并不按比例成像于同一平面,结果图像模糊不清,或者原物的几何形状不完全相似,这种现象称为像差球差:由于电磁透镜磁场的近轴区和远轴区对电子束的汇聚能力不同造成的像散:由于透镜磁场不是理想的旋转对称磁场而引起的像差色差:由于成像电子的波长(或能量)不同而引起的一种像差12、透镜景深:在不影响透镜成像分辨本领的前提下,物平面可沿透镜轴移动的距离13、透镜焦深:在不影响透镜成像分辨本领的前提下,像平面可沿透镜轴移动的距离14、电子衍射:电子衍射是指当一定能量的电子束落到晶体上时,被晶体中原子散射,各散射电子波之间产生互相干涉现象。
它满足劳厄方程或布拉格方程,并满足电子衍射的基本公式Lλ=Rd L是相机长度,λ为入射电子束波长,R是透射斑点与衍射斑点间的距离。
1. 组织形貌分析仪器发展的三个阶段:光学显微镜、电子显微镜、扫描探针显微镜光学显微镜:2. 光学显微镜数值孔径公式各字母所代表的含义:NA= nsinα数值孔径(NA )是物镜前透镜与被检物体之间介质的折射率(n )和半孔径角(α)的正弦之乘积3.∆r 。
定义为透镜能分辨的最小距离,及提高分辨率的方法:使用低波长光源,增大介质n 4. 光学透镜的像差包括:球面像差、色像差、像域弯曲5. 焦深:焦点深度的简称,即在使用显微镜时,当焦点对准某一物体时,不仅位于该点平面上的各点都可以看清楚,而且在此平面的上下一定厚度内,也能看得清楚,这个清楚部分的厚度就是焦深。
6. 工作距离:也叫物距,即指物镜前透镜的表面到被检物体之间的距离。
镜检时,被检物体应处在物镜的一倍至二倍焦距之间。
电子光学基础:7. 电子显微分析的特点:(1)可以在极高放大倍率下直接观察试样的形貌、结构,选择分析区域。
分辨率高:0.2~0.3nm; 放大倍数高:20~30 万倍 (2) 是一种微区分析方法,具有高度分辨率,成像分辨率达到0.2~0.3mm,可直接分辨原子,能进行nm 尺度的晶体结构及化学组成分析。
(3) 各种电子显微镜分析仪器日益向多功能、综合性方向发展,可以进行形貌、物相、晶体结构和化学组成等的综合分析8.电子波波长与电子运动速度的关系: 9. 电磁透镜的聚焦原理: 它能造成一种轴对称不均匀分布的磁场。
穿过线圈的电子在磁场的作用下将作圆锥螺旋近轴运动。
而一束平行于主轴的入射电子通过电磁透镜时将被聚焦在主轴的某一点。
10. 电磁透镜的像差分成两类:第一是因为透镜磁场几何上的缺陷造成的,叫做几何像差,包括球面像差、像散和像畸变。
第二是由于电子波长或者能量非单一性而引起的,与多色光相似,叫做色差。
11. 电磁透镜的场深或景深:在保持象清晰的前提下,试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离,或者说试样超越物平面所允许的厚度。
12. 察屏或照相底版沿镜轴所允许的移动距离。
原子物理一、原子结构1.汤姆逊的枣糕模型1903年物理学家汤姆生. Thomson,1856-1940)提出了一个原子结构模型,人们把它叫做"葡萄干蛋糕"模型.汤姆生模型认为,正电荷均匀分布在整个原子球体中(球直径的数量级是10的-10次方米),带负电的电子散布在原子中,这些电子分布在对称的位置上.当这些电子静止在平衡位置上时,电子就会振动而使原子发光.2.卢瑟福的核式结构模型模型(1)背景——α粒子散射实验1909年,卢瑟福和他的同事以α粒子轰击重金属箔,即α粒子的散射实验,发现绝大多数α粒子穿过金箔后仍沿原来的方向前进,但有少数发生偏转,并且有极少数偏转角超过了90°,有的甚至被弹回,偏转几乎达到180°。
(2)内容——核式结构模型模型在原子的中心有一个很小的核,叫原子核,原子的全部正电荷和几乎全部质量都集中在原子核里,带负电的电子在核外的空间里绕核旋转,根据α粒子散射的实验数据可估计出原子核的大小应在10-14nm以下。
3.波尔模型(1)背景——核式结构模型模型和经典理论及实验事实矛盾电子与核运动会产生与轨道旋转频率相同的电磁辐射,运动不停,辐射不止,原子能量单调减少,轨道半径缩短,旋转频率加快。
由此可得两点结论:①电子最终将落入核内,这表明原子是一个不稳定的系统;②电子落入核内辐射频率连续变化的电磁波。
原子是一个不稳定的系统显然与事实不符,实验所得原子光谱又为波长不连续分布的离散光谱。
如此尖锐的矛盾,揭示着原子的运动不服从经典理论所表述的规律。
(2)内容——波尔理论三假设①原子只能处于一条列不连续的能量状态中,在这些状态中原子是稳定的,电子虽做加速运动,但并不向外辐射能量,这些状态叫定态。
②原子从一种定态(设能量为E 2)跃迁到另一种定态(设能量为E 1)时,它辐射或吸收一定频率的光子,光子的能量由这种定态的能量差决定,即γh =E 2-E 1③氢原子中电子轨道量子优化条件:氢原子中,电子运动轨道的圆半径r 和运动初速率v 需满足下述关系:π2hn rmv =,n=1、2……其中m 为电子质量,h 为普朗克常量,这一条件表明,电子绕核的轨道半径是不连续的,或者说轨道是量子化的,每一可取的轨道对应一个能级。
纳米材料思考题1【1】简述纳米材料具有的几种纳米效应。
【2】半导体纳米晶表现出随尺寸减小吸收和发射光谱蓝移的现象,解释这是由于哪种纳米效应引起的。
【3】简述扫描隧道电子显微镜(STM)是基于哪种纳米效应及工作原理。
【1】(1)小尺寸效应:当颗粒的尺寸与光波波长、德布罗意波长以及超导态的相干长度或透射深度等物理特征尺寸相当或更小时,晶体周期性的边界条件将被破坏,非晶态纳米粒子的颗粒表面层附近的原子密度减少,导致声、光、电、磁、热、力学等特性呈现新的物理性质的变化称为小尺寸效应。
(2)表面效应:指纳米晶体粒表面原子数与总原子数之比随粒径变小而急剧增大后所引起的性质上的变化。
(3)量子尺寸效应:是指当粒子尺寸下降到某一数值时,费米能级附近的电子能级由准连续变为离散能级或者能隙变宽的现象。
当能级的变化程度大于热能、光能、电磁能的变化时,导致了纳米微粒磁、光、声、热、电及超导特性与常规材料有显著的不同。
(4)宏观量子隧道效应:当微观粒子的总能量小于势垒高度时,该粒子仍能穿越这一势垒。
近年来,人们发现一些宏观量,例如微颗粒的磁化强度,量子相干器件中的磁通量等亦有隧道效应,称为宏观的量子隧道效应。
【2】半导体纳米晶表现出随尺寸减小吸收和发射光谱蓝移的现象,是由量子尺寸效应引起的。
对于半导体纳米晶材料来说,当该纳米晶的颗粒的尺寸逐渐减小到该对应材料激子的波尔半径时,便会出现的量子尺寸效应。
根据能带理论,当某种合成的材料的尺寸已经低于某个临界值时,电子在该材料中的运动便一定会受到某种三维的限制,即电子的能量在三个不同的维度方向上的量子化。
这种三维的限制,导致该材料中的电子运输无论是在距离上还是维度上都受到了极大的限制,而该材料中的电子的平均自由程便无疑所以由于在该纳米晶材料中的载流子(即电子或者空穴)在纳米晶材料中的运动受到了很多限制,从而导致了其载流子动能的增加,进而相应的能带的结构,也从体相的连续的能带式结构,改变成为了类似于分子的准分裂的能级结构。
第一部份 X 射线衍射分析(XRD )1. K 系特征谱线特点:由L 、M 、N 等壳层的电子跃迁到K 壳层的空位时发出的X 射线,别离称为K α、K β、K γ谱线,一路组成K 线系特征谱线。
K α特征谱线最强,比相邻谱线强90倍,是最常常利用的谱线。
2. 特征X 射线的产生:在原子内固定壳层上的电子具有特定能量,当外加能量足够大时,可将内层电子激发出去,形成一个内层空位,外壳层的电子跃迁到内层,多余的能量以X 射线形式放出。
3. X 射线的本质为电磁波。
4. 滤光片的目的和材料:用来过滤或降低X 射线光谱中的持续X 射线和K β线的金属薄片,K β大部份被吸收,K α损失较小,滤波片材料的原子叙述一般比X 射线管靶材的原子序数低1。
5. CuK α的含义:以Cu 作为靶材,高速电子轰击在铜靶上,使铜K 层产生了空位,L 层电子跃迁到K 层,产生K 系特征辐射。
6. X 射线的衍射方向是按照布拉格方程理论推导出的。
7. 布拉格方程的推导:含义:线照射晶体时,只有相邻面网之间散射的X 射线光程差为波长的整数倍时,才能产生干与增强,形成衍射线,反之不能形成衍射线。
λθn d hkl =sin 2讨论:(1) 当λ必然,d 相同的晶面,必然在θ相同的情况下才能取得反射。
(2) 当λ必然,d 减小,θ就要增大,这说明间距小的晶面,其掠过角必需是较大的,不然它们的反射线无法增强,在考察多晶体衍射时,这点由为重要。
(3) 在任何可观测的衍射角下,产生衍射的条件为:d 2≤λ,但波长太短致使衍射角过小,使衍射现象难以观测,常常利用X 射线的波长范围是0.25~0.05nm 。
(4) 波长一按时,只有2/λ≥d 的晶面才能发生衍射—衍射的极限条件。
8. X 射线的强度(严格概念)单位时间内通过衍射方向垂直单位面积上X 射线光量子数量。
表示方式:衍射峰高度或衍射峰积分面积。
理论计算)(2θφPF I =(P-多重性因数,F-结构因子,)(θφ-因数)。
现代测试分析技术SEM、TEM、表⾯分析技术、热分析技术重庆⼤学材料现代测试分析技术总结(材料学院研究⽣⽤)电⼦衍射部分1、电⼦衍射与X射线衍射相⽐:相同点:电镜中的电⼦衍射,其衍射⼏何与X射线完全相同,都遵循布拉格⽅程所规定的衍射条件和⼏何关系. 衍射⽅向可以由厄⽡尔德球(反射球)作图求出.因此,许多问题可⽤与X射线衍射相类似的⽅法处理.电⼦衍射优点:电⼦衍射能在同⼀试样上将形貌观察与结构分析结合起来。
电⼦波长短,单晶的电⼦衍射花样婉如晶体的倒易点阵的⼀个⼆维截⾯在底⽚上放⼤投影,从底⽚上的电⼦衍射花样可以直观地辨认出⼀些晶体的结构和有关取向关系,使晶体结构的研究⽐X射线简单。
物质对电⼦散射主要是核散射,因此散射强,约为X射线⼀万倍,曝光时间短。
电⼦衍射缺点:电⼦衍射强度有时⼏乎与透射束相当,以致两者产⽣交互作⽤,使电⼦衍射花样,特别是强度分析变得复杂,不能象X射线那样从测量衍射强度来⼴泛的测定结构。
此外,散射强度⾼导致电⼦透射能⼒有限,要求试样薄,这就使试样制备⼯作较X射线复杂;在精度⽅⾯也远⽐X射线低。
2、电⼦衍射花样的分类:1)斑点花样:平⾏⼊射束与单晶作⽤产⽣斑点状花样;主要⽤于确定第⼆相、孪晶、有序化、调幅结构、取向关系、成象衍射条件;2)菊池线花样:平⾏⼊射束经单晶⾮弹性散射失去很少能量,随之⼜遭到弹性散射⽽产⽣线状花样;主要⽤于衬度分析、结构分析、相变分析以及晶体的精确取向、布拉格位置偏移⽮量、电⼦波长的测定等;3)会聚束花样:会聚束与单晶作⽤产⽣盘、线状花样;可以⽤来确定晶体试样的厚度、强度分布、取向、点群、空间群以及晶体缺陷等。
扫描电⼦显微镜1、透射电镜的成像——电⼦束穿过样品后获得样品衬度的信号(电⼦束强度),利⽤电磁透镜(三级)放⼤成像。
扫描电镜成像原理——利⽤细聚焦电⼦束在样品表⾯扫描时激发出来的各种物理信号来调制成像的。
2、扫描电镜的特点分辨本领较⾼。
⼆次电⼦像分辨本领可达1.0nm(场发射), 3.0nm (钨灯丝);放⼤倍数变化范围⼤(从⼏⼗倍到⼏⼗万倍),且连续可调;图像景深⼤,富有⽴体感。
.光电子器件第一章1、光电探测器输出信号电压或电流与单位入射光功率之比,即单位入射光功率作用下探测器输出信号电压或电流称为响应率 .光谱响应率( Rλ):光电器件在单色 (在波长λ附近一个很小的波长范围里 ) 辐射功率作用下产生的信号电压或信号电流。
du s di s R R u R i R( )dP dP R m——其中 Rm 为光谱响应率的最大值——光谱电压响应率和光谱电流响应率合并称为光谱响应率Rλ(单位: A/W )R R(λ )R m 1.0R i1.24光谱响应率及量子效率仅由器件的响应特性所决定,而与光源无关。
2. 器件的光谱响应与光源辐射功率谱密度紧密相关,它们之间的匹配系统α—称为器件与光源的光谱匹配系数,它反映了器件响应的波长范围同光源光谱的吻合程度。
在光源固定的情况下,面积 A1 是不变的 ,如果与曲线重合得愈多,面积 A2 愈大 , α愈大,也就是光谱匹配愈好;反之 ,如果两曲线没有重合之处,α =0,即二者完全失配 ,则该光电器件对光源辐射没有探测能力。
光谱匹配是选择光电子器件,如像管、光电倍增管、红外成像器件的材料的重要依据。
R( )P( )11A2R()P ( )A1A1A23.光电探测器输出的电流或电压在其平均值上下无规则的、随机的起伏,称为噪声。
噪声是物理过程所固有的,人为不可能消除。
它的计算是在足够长时间内求其平方平均或均方根。
.光电探测器的 噪声来源主要 有热噪声、散粒噪声、温度噪声、放大器噪声、频率噪声、复合噪声等。
Pu nPminu s u nR u当输出信号电压等于输出噪声电压均方根值时的探测器的入射辐射功率叫做最小可探测辐射功率,也叫做噪声等效功率 NEP 。
Pmin 越小,器件的探测能力越强。
对 Pmin 取倒数可作为衡量探测器探测能力的参数,称为探测率 。
研究指出 :探测率与器件的面积和工作带宽成反比。
4.光吸收厚度 :设入射光的强度为I0,入射到样品厚度为 x 处的光强度为 I ,则:I Iexα为线吸收系数,单位为( 1/cm )α大时,光吸收主要发生在材料的表层;α小时,光入射得深。
扫描电镜经典总结(总14页) -CAL-FENGHAI.-(YICAI)-Company One1-CAL-本页仅作为文档封面,使用请直接删除• 扫描电镜(SEM)• 透射电镜(TEM)• 原子力显微镜(AFM)• X射线衍射(XRD)• 元素分析(EA)显微分析技术——电子显微镜一束电子射到试样上,电子与物质相互作用,当电子的运动方向被改变,称为散射。
透射电子直接透射电子,以及弹性或非弹性散射的透射电子用于透射电镜(TEM)的成像和衍射二次电子 入射电子与样品中原子的价电子发生非弹性散射作用而损失的那部分能量(30~50eV)激发核外电子脱离原子,能量大于材料逸出功的价电子可从样品表面逸出,成为真空中的自由电子,此即二次电子。
在电场的作用下它可呈曲线运动进入检测器,使表面凹凸的各个部分都能清晰成像。
二次电子试样表面状态非常敏感,能有效显示试样表面的微观形貌;二次电子的分辨率可达5~10nm,即为扫描电镜的分辨率。
二次电子的强度主要与样品表面形貌相关。
二次电子和背景散射电子共同用于扫描电镜(SEM)的成像。
当探针很细,分辨高时,基本收集的是二次电子而背景电子很少,称为二次电子成像(SEI)。
背景散射电子 入射电子穿达到离核很近的地方被反射,没有能量损失;既包括与原子核作用而形成的弹性背散射电子,又包括与样品核外电子作用而形成的非弹性背散射电子,前者的份额远大于后者。
背散射电子反映样品表面的不同取向、不同平均原子量的区域差别,产额随原子序数的增加而增加;利用背散射电子为成像信号,可分析形貌特征,也可显示原子序数衬度而进行定性成分分析。
特征X射线入射电子和原子中的内层电子发生非弹性散射作用而损失一部分能量(几百个eV),激发内层电子发生电离,形成离子,该过程称为芯电子激发。
除了二次电子外,失去内层电子的原子处于不稳定的较高能量状态,将依一定的选择定则向能量较低的量子态跃迁,跃迁过程中发射出反映样品中元素组成信息的特征X射线,可用于材料的成分分析。
电子显微镜一、实验目的1、了解并掌握电子显微镜的基本原理;2、初步学会使用电子显微镜,并能够利用电子显微镜进行基本的材料表面分析。
二、实验仪器透射电镜一是由电子光学系统(照明系统)、成像放大系统、电源和真空系统三大部分组成。
本实验用S—4800冷场发射扫描电子显微镜。
实验原理电子显微镜有两类:扫描电子显微镜、透射电子显微镜,该实验主要研究前者。
(一)扫描电子显微镜(SEM)由电子枪发射的电子束,经会聚镜、物镜聚焦后,在样品表面形成一定能量和极细的(最小直径可以达到1-10nm)电子束。
在扫描线圈磁场的作用下,作用在样品表面上的电子束将按一定时间、空间顺序作光栅扫描。
电子束从样品中激发出来的二次电子,由二次电子收集极,经加速极加速至闪烁体,转变成光信号,此信号经光导管到达光电倍增管再转变成电信号。
该电信号经视屏放大器放大,输送到显像管栅极,调制显像管亮度,使之在屏幕上呈现出亮暗程度不同的反映表面起伏的二次电子像。
由于电子束在样品表面上的扫描和显像管中电子束在荧屏上的扫描由同一扫描电路控制,这就保证了它们之间完全同步,即保证了“物点”和“像点”在时间和空间上的一一对应。
扫描电镜的工作原理如图1。
图1 扫描电镜的工作原理高能电子束轰击样品表面时,由于电子和样品的相互作用,产生很多信息,如图2所示,主要有以下信息:图2 电子束与样品表面作用产生的信息示意图1、二次电子:二次电子是指入射电子束从样品表面10nm左右深度激发出的低能电子(<50eV)。
二次电子的产额主要与样品表面的起伏状况有关,当电子束垂直照射表面,二次电子的量最少。
因此二次电子象主要反映样品的表面形貌特征。
2、背散射电子象:背散射电子是指被样品散射回来的入射电子,能量接近入射电子能量。
背散射电子的产额与样品中元素的原子序数有关,原子序数越大,背散射电子发射量越多(因散射能力强),因此背散射电子象兼具样品表面平均原子序数分布(也包括形貌)特征。