纳米氮化硅
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氮化硅薄膜的作用氮化硅薄膜是一种具有广泛应用的材料,其作用十分重要。
本文将从多个方面介绍氮化硅薄膜的作用。
氮化硅薄膜具有优异的绝缘性能。
由于氮化硅薄膜具有较高的绝缘阻抗,可以有效地隔离电子器件和底部基座之间的电荷传输,从而避免漏电和电磁干扰的产生。
这种绝缘性能使得氮化硅薄膜成为电子器件中重要的绝缘层材料。
氮化硅薄膜具有良好的机械性能。
氮化硅薄膜具有较高的硬度和较低的摩擦系数,可以在微纳米尺度下提供优异的耐磨性能和抗刮伤性能。
这种机械性能使得氮化硅薄膜广泛应用于硬盘驱动器、光学镀膜和显示器件等领域,提高了器件的使用寿命和可靠性。
第三,氮化硅薄膜具有良好的光学性能。
氮化硅薄膜具有较高的折射率和较低的光学损失,可以用作光学镀膜材料,提高光学器件的透过率和反射率。
此外,氮化硅薄膜还具有宽带隙特性,可以用于制备光电子器件,如光电二极管和太阳能电池等。
第四,氮化硅薄膜具有优异的化学稳定性。
氮化硅薄膜可以抵抗酸、碱和高温等腐蚀性介质的侵蚀,具有良好的耐化学性能。
这种化学稳定性使得氮化硅薄膜在微电子工艺中被广泛应用,可以作为保护层或衬底材料,提高器件的稳定性和可靠性。
第五,氮化硅薄膜具有优异的热稳定性。
氮化硅薄膜可以在高温环境下保持良好的结构稳定性和性能稳定性,不易发生结构相变或退火现象。
这种热稳定性使得氮化硅薄膜成为高温器件和封装材料的理想选择。
氮化硅薄膜具有绝缘、机械、光学、化学和热稳定性等多种优异性能,广泛应用于微电子、光电子、光学和化学工程等领域。
随着科学技术的不断进步,氮化硅薄膜的应用前景将更加广阔,为人们的生活和工作带来更多的便利和创新。
纳米材料有哪些
纳米材料是指具有纳米级尺寸(一般为1-100纳米)的材料。
由于其特殊的结构和性能,纳米材料在各个领域都有广泛的应用。
下面介绍一些常见的纳米材料及其应用。
1. 纳米金属颗粒:纳米金属颗粒具有较大的比表面积和高的反应活性,可以应用于催化剂、电子器件等领域。
2. 纳米二氧化硅:纳米二氧化硅具有良好的光学性能和化学性能,可应用于纳米电子器件、生物医学、光电材料等领域。
3. 纳米氧化锌:纳米氧化锌具有高比表面积和优异的光电性能,广泛应用于太阳能电池、传感器、防晒霜等领域。
4. 纳米碳材料:包括纳米石墨烯、纳米碳管等,具有优异的导电性能、机械性能和热稳定性,被广泛应用于电池、传感器、储能材料等领域。
5. 纳米陶瓷材料:包括纳米氧化铝、纳米氮化硅等,具有高硬度、高耐磨性和热稳定性,广泛应用于耐磨材料、催化剂、陶瓷材料等领域。
6. 纳米荧光材料:具有较高的荧光效率和稳定性,被广泛应用于生物成像、荧光传感、显示技术等领域。
7. 纳米生物材料:包括纳米生物酶、纳米生物球等,具有良好的生物相容性和生物活性,可以应用于生物医学、药物传递、
组织工程等领域。
纳米材料的应用范围广泛,涵盖了电子、光电、催化、医药、能源、环境等多个领域。
纳米材料的研究和应用将对人类的生产生活产生深远的影响,为各个领域的发展带来新的机遇和挑战。
单根氮化硅纳米线压阻效应研究毕精会【摘要】为了实现恶劣环境下的精密仪器和精确测量,适应于恶劣环境下的压力传感器的需求大大增加。
首次报道单根氮化硅纳米线的横向压电效应。
在不同压力负载下,采用导电原子力显微镜( C-AFM)对单根氮化硅纳米线进行压阻效应测量。
计算得到横向压电效应的系数在1.8~7.5×10-11 Pa -1范围内。
压电电阻系数和负载压力之间的关系几乎是线性的。
稳定和可重复的电流-电压曲线通过多次循环往复测量完成,表明氮化硅纳米线压力传感器是相当可靠的。
%To achieve precision instrumentation and accurate measurement,there is increasing need for pressure sensors to be well serviced in harsh environments. We report,for the first time,piezoresistance in single-crystalline Si3 N4 nanowire by conductive atomic force microscopy(C-AFM). The transverse electromechanical properties of Si3 N4 nanowire were investigated under various loading forces applied by the C-AFM tip. The calculated transverse piezoresistance coefficient of the nanowire was in the range of 1. 8 to 7. 5 × 10-11 Pa-1 . The relationship between the piezoresistance coefficients and the applied forces was almost linear. Stable and repeatable Ⅰ-Ⅴ curves through multiple voltage sweepings were accomplished,suggesting that the Si3 N4 nanowires pressure sensors are quite relia-ble.【期刊名称】《太原科技大学学报》【年(卷),期】2015(000)004【总页数】5页(P318-322)【关键词】氮化硅纳米线;压阻效应;压阻系数;原子力显微镜【作者】毕精会【作者单位】太原科技大学,太原 030024【正文语种】中文【中图分类】O59线[7-10],碳化硅纳米线[11-13]等纳米材料已被广泛的应用在各种压力传感器制备方面,表明在纳微电机械系统中,一维半导体材料将成为测量nN级压力的一个优异的备选制备器件材料。
氮化硅结构
氮化硅(Silicon nitride)是一种多种新型耐热材料,具有优异的耐氧性和耐腐蚀性。
它有很强的抗热性能,可承受高温环境。
氮化硅的结构与普通的硅相似,但由于氮的存在,它的体积变小,从而降低了其热传
导性能。
氮化硅的分子式为Si3N4,由3个硅原子与4个氮原子组成。
由于氮化硅具有以
下特性,它被用作自然的抗老化材料:
1、优异的强度:氮化硅可以承受更大的负载,具有超强的结构强度。
2、高温性能优异:氮化硅可以承受高温环境中高度与氧化作用。
3、低自由基:氮化物阻止和减少温度主动反应,降低了热效应。
4、低热膨胀系数:氮化硅具有极低的热膨胀系数,可在温度变化时保持稳定性。
5、耐磨性:氮化硅具有良好的耐磨性,使得部件在使用过程中,不会磨损和损坏。
由于上述优点,氮化硅广泛应用于航空航天、汽车制造、表面处理、制冷设备、酸性
腐蚀环境和高温环境以及电子元件的生产等行业。
0杨苏清现代科学技术快速发展,无形无迹的电磁波充满着人们的生活空间,严重的电磁污染给地球的生态环境带来了严重的损坏,所以,研制开发新型吸波资料已经成为现在社会的热门;同时,跟着现代军事技术的不停发展,战争愈来愈信息化,立体化,雷达探测技术的不停发展,现代军队为提升自己的生计和突防能力,也愈来愈多的应用到隐身技术,而作为隐身技术要点的吸波资料也成为各国军事科技力量研究和开发的要点和热门。
一、纳米吸波资料原理及特征纳米资料是指特色尺寸在 1~100nm的资料。
纳米资料因为其自己构造上的特色而拥有小尺寸效应、表面界面效应、量子尺寸效应以及宏观量子地道效应,因此与同组分的惯例资料对比,在催化、光学、磁性、力学等方面拥有很多奇怪的性能,在微波汲取方面显示出很好的发展远景。
吸波资料是指能够汲取投射到它表面现在电磁波能量,并经过资料的介质消耗使电磁波能量转变成其余形式的能量的一类资料。
当一个微粒的尺寸小到纳米量级时,它的微观构造和性能既不一样于原子、分子的微观系统,也不一样于显示本征性质的大颗粒资料宏观系统,而是介于两者之间的一个过渡系统。
纳米微粒尺寸小,比表面积大,拥有很高的表面能,进而对其化学性质有很大影响。
实考证明,粒子分别度提升到必定程度后,跟着粒子直径的减小,位于粒子表面的原子数与总原子数的比值急剧增大,当粒径降为 5nm 时,表面原子所占比率可达 50%。
因为表面原子数增添,微粒内原子数减少,使能带中的电子能级发生疏裂,分裂后的能级间隔正处于微波的能量范围内(l × l0 -2 -l × lO-5 eV),进而致使新的吸波通道。
一方面,纳米微粒尺寸远小于雷达波波长,对雷达波的透过率大大高于惯例资料,这就大大降低了对雷达波的反射率;另一方面,纳米资料的比表面积比惯例微粒大3~ 4个数目级,对雷达波和红外光波的汲取率也比惯例资料高得多。
别的,跟着颗粒的细化,颗粒的表面效应和量子尺寸效应变得突出,颗粒的界面极化和多重散射成为重要的吸波机制,量子尺寸效应使纳米颗粒的电子能级发生疏裂,此间隔正处于微波能-2-5量范围 (10: :10 eV)进而形成新的吸波通道。
氮化硅介电常数
氮化硅介电常数,又称介电常数、反射率或折射率,指材料表面反射一种电场或折射一种电场时,每经过一次反射或折射,该表面所反射或折射之电力在每单位面积上的平均大小。
它是定义一个材料表面上反射或折射一种电场的重要指标,也是很多电子元件的基本参数之一。
氮化硅是具有均匀的表面和纳米级特性的纳米晶硅,具有超高的抗腐蚀性,均质性良好的多孔性,和优良的电磁特性,可以将氮化硅用于扩散、隔离、介电和整流等多种电子应用,氮化硅材料以其光学性质提供了非凡的介电性能。
晶体硅(Si)衍射率(介电常数)主要是由晶体整体结构决定的,这是由其中的单元结构、原子紧凑度和电子在晶体中的活动性决定的。
由于大多数的纳米尺度的介电材料是由N位置的原子组成的,在N位置的纳米尺度上,它的介电性质也不同于大晶体尺度。
在很多应用中,如在纳米级尺寸和超微尺度应用中,介电常数的变化更加明显。
在介电常数测试方面,多数研究表明,氮化硅介电常数小于晶体硅,在低温时介电常数更低。
在常温下,氮化硅的介电常数一般为11.8,而在低温下介电常数可以降低到3.5左右。
其原因是低温条件下氮化硅的内部微结构有所变化,晶体内的态密度和电子体系发生变化,介电常数也由此而变化。
氮化硅介电常数的应用非常广泛,几乎遍及了微电子技术、电子技术和生物技术等领域。
氮化硅介电常数的变化在纳米尺度和超微尺度电容上有重大的影响,在制造电容器、存储器和显示屏等技术中,电容器的尺寸和介电常数密切相关。
由于氮化硅材料介电常数变化范围比较大,可以应用到高频、宽频和超宽带等众多功能中去。
纳米氮化硅粉体一 性能特点:本产品本产品采用等离子弧气相合成法生产,具有纯度高、粒径小、分布均匀、比表面积大、表面活性高、松装密度低,紫外线反射率为90%以上和吸收红外波段的吸收率在97%以上,器件的成瓷温度低,尺寸稳定性好,机械强度高,耐化学腐蚀性能好,特别是高温强度大,其在复合材料中形成细微的弥散相,提高了复合材料的综合性能。
其产品本身具有自润滑性能,可有应用于润滑油中。
二 主要参数:三 主要应用:1、 制造精密结构陶瓷器件: 如冶金,化工,机械,航空,航天及能源等行业中使用的滚动轴承的滚珠和滚子,滑动轴承,套,阀以及有耐磨,耐高温,耐腐蚀要求的结构器件。
2. 金属及其它材料表面处理 :如模具,切削刀具,汽轮机叶片涡轮转子以及汽缸内壁涂层等。
3、制备高性能复合材料:如金属,陶瓷及石墨基复合材料,橡胶,塑料,涂料,胶粘剂及其它高分子基复合材料。
4、纳米氮化硅在高耐磨橡胶中的应用:纳米级氮化硅(平均粒度20纳米)的NSN 系列橡胶超耐磨增强剂,获得了惊人的应用效果。
通过宁国密封件公司的台架实验表明:在主胶料为三元乙丙胶的波纹管中添加1-3份NSN 粉末,耐久实验可承受100多万次,而未添加 NSN 的波纹管耐久实验最多只能做20万次,波纹管就已破裂。
5、金属表面耐磨复合镀应用:氮化硅硬度高,滑动摩擦系数小。
其力学性能与其他陶瓷材料相比高,但与金属材料相比仍有很大差距,但其强度随温度的升高变化远小于金属材料。
氮化硅的室温强度可以保持到800℃以上,即使在1200℃-1400℃之间,仍将保持相当的强度。
如模具,切削刀具,汽轮机叶片,涡轮转子以及汽缸内壁涂层等。
6、纳米氮化硅在特种吸收人体红外纺织品的应用:硅基纳米粉是尼龙,涤纶增强导电。
纳米氮化硅具有人体吸收红外波段的吸收率在97%以上,是最优良吸收红外超细纺织物添加剂。
7、主要用于多晶硅和单晶硅熔炼铸锭时用于硅熔体与石英坩埚之间脱模:具有纯度高、粒径分布均匀、比表面积大;易于喷涂附着成形、烧结、形成均匀的阻隔层、可靠度高;耐高温,对于坩埚中的金属中微量元素及氧、碳等阻隔效果好;成型后,易与硅材料与坩埚分离。
提高石英坩埚的使用率,大幅度降低其生产成本。
8、在LED 发光材料中:纳米Si3N4荧光粉均属于有个别发光中心(铈Ce3 、铕Eu2 )的发光材料。
其能量跃迁过程属于f-d 跃迁。
当外界给予适当之能量(如光能、电能等),处于基态能阶(4f 轨域)之电子被激发至高能阶之激发态(5d 轨域),并以放光之形式释放能量。
因5d 轨域处于最外层,并非如同4f 轨域一般受外围轨域之电子云所遮蔽,其跃迁过程极易受外围环境所影响,使其光谱呈现宽光谱形态 。
经过研究实验表明,原材料氮化硅的颗粒度越小(20纳米)是产生的激发频带更加宽广。
9、纳米氮化硅在其它工业领域的应用:高性能耐磨,耐高温橡胶密封件和橡胶轮胎,防腐耐火涂料中的应用,在高温绝缘电子材料中的应用,无机陶瓷润滑油中的应用,金属表面陶瓷耐磨复合镀的应用,特种吸收人体红外纺织品的应用,在结构陶瓷和无机复合材料方面的应用,在环氧树脂中的应用等。
性能指标 产品名称 纯 度 游离硅 总 氧 含 量 晶 型 平 均 粒 度 比 表 面 积 松 装 密 度 外 观 颜 色 纳米非晶Si 3N 4 >99.0% <0.2% <0.62% 非晶态<20 nm >115m 2/g 0.05g/cm 3 白 色白光发光二极管(LED;light emitting diode)近年来白光发光二极管(LED;light emitting diode)广受全球瞩目,其中以蓝光LED芯片激发黄色荧光粉产生白光为现阶段市场应用最广泛之制造方法,其荧光粉以铝酸盐和硅酸盐为主流,本文将针对此两种荧光粉介绍。
图1目前白光主要产生方式白光发光二极管逐渐取代传统照明设备,其优点为体积小(可配合应用设备的小型化)、耗电量低(用电量为一般灯泡的八分之一至十分之一,日光灯的二分之一)、寿命长(可达10万小时以上)、发热量低(热辐射低)与反应速度佳(可高频操作)等,因此可解决相当多过去白炽灯泡难以克服的问题。
欧美与日本等先进各国基于节约能源与环保意识,均选择白光发光二极管作为二十一世纪照明之新光源,也因兼具省电与环保概念,被喻为「绿色照明光源」。
蓝光LED激发产生白光之未来趋势发光二极管(light emitting diode;LED)商品早于1968年即已问世,其间许多颜色之LED皆陆续被开发,但直至1993年日本日亚化学公司成功开发出高效率蓝光LED后,方使全彩化的LED产品得以实现。
全球LED产业纷纷将研发重点转移至白光LED。
目前白光LED之制程技术主要分为单芯片与多芯片型,如图1所示,其中多芯片型使用红、绿、蓝三色LED混成白光,其优点为视不同需要可调整所需光色,但同时使用多个LED使得成本较高,加上电路复杂及三种LED芯片之温度特性、衰减速率及寿命不尽相同,导致混成白光光色会随时间产生变化。
因此目前商品化白光LED产品及未来的发展趋势仍以单芯片型为主流,已商品化之白光LED主要是利用蓝光LED激发黄色荧光粉,粉体发出的黄光与未被吸收的蓝光混合,即可产生白光。
图1目前白光主要产生方式资料来源:M.G. Craford, Phosphor global summit, USA, 2003铝酸盐与硅酸盐类荧光粉之历史背景以蓝光LED加荧光粉产生白光为目前业界中较为成熟之技术,且其成本、寿命、亮度等亦较有优势。
1996年日本日亚化学(Nichia Chemical)公司发展出以发黄光系列之钇铝石榴石(Y3Al5O12,YAG)荧光粉配合氮化铟镓(InGaN)蓝色发光二极管,可作为高效率之白光光源。
1997年7月29日(优先主张权起始日期:1996年7月29日),日亚化学向美国提出专利申请,1999年12月7日核准,专利号码为US5998925。
并于1997年7月28日(优先主张权起始日期:1996年7月29日),向中华民国提出发明专利申请,2000年3月1日核准,其名称为「发光装置及显示装置」,公开编号为383508。
另一方面,日本丰田(Toyoda Gosei)公司与欧洲公司合作发展以碱土硅酸盐化合物荧光粉搭配一放射蓝光及/或紫外光之发光二极管(LED)产生白光,于2001年12月28日(优先主张权起始日期:2000年12月28日)向美国提出专利申请,2004年3月18日核准,专利号码为US6943380。
并于2001年5月7日(优先主张权起始日期:2000年12月28日)向中华民国提出发明专利申请,2002年4月11日核准,其名称为「发光装置」,公开编号为533604。
铝酸盐与硅酸盐类荧光粉之特性分析荧光粉的组成是由一个主体晶格( Host lattice,简称H )掺杂少量之离子作为活化剂( Activator,简称A ),如图2所示。
活化剂取代主体晶格中原有离子,当外界给予适当之能量(如光能、电能等),可被激发产生特征之可见光辐射。
图2主体晶格与活化剂在发光过程中所扮演之角色示意图资料来源:台湾大学化学系近年来,白光LED用之黄色荧光粉以铝酸盐(Y AG)与硅酸盐(Silicate)最为广泛使用。
其荧光粉特性分述如下:硅酸盐(silicate),其晶体结构属于单斜晶系(Monoclinic),化学式可表示为M2 SiO4,其中M可为钙、锶、钡等碱土金属元素。
藉由掺杂微量铕(Eu2 )于晶格中取代M的位置,可被蓝光激发产生黄色之荧光。
视需要亦可将一部分铕以锰取代或将一部分硅以锗、硼、铝、磷取代,可调变不同波长之荧光。
利用氮化物如氮化硅等作为原材料,在高温条件下进行合成硅酸盐类荧光粉,可以激发出绿色或红色等荧光。
图3硅酸盐(silicate)晶体结构纳米Si3N4荧光粉均属于有个别发光中心(铈Ce3 、铕Eu2 )的发光材料。
其能量跃迁过程属于f-d跃迁。
当外界给予适当之能量(如光能、电能等),处于基态能阶(4f轨域)之电子被激发至高能阶之激发态(5d轨域),并以放光之形式释放能量。
因5d轨域处于最外层,并非如同4f轨域一般受外围轨域之电子云所遮蔽,其跃迁过程极易受外围环境所影响,使其光谱呈现宽光谱形态。
经过研究实验表明,原材料氮化硅的颗粒度越小(20纳米)是产生的激发频带更加宽广。
如图6所示,Si3N4与放射光谱图之比较。
以蓝光460 nm为激发源,其最强放光波长皆落至黄光区域565 nm 与550 nm。
且由激发光谱图可看出Si3N4G更宽广的激发频宽,于紫外线或蓝色激发下均有显著良好吸收。
氮化物荧光粉介绍之一- 氮化物的分类和结晶化学氮化物荧光粉作为一类新型的发光材料近年受到广泛的关注。
笔者从事该类材料的合成已有多年,颇有些心得,愿与大家共享。
在介绍氮化物荧光粉之前,先向各位介绍氮化物的分类及其结晶学,虚心接受前辈的指正和批评。
氮化物的分类氮和元素周期表中电负性小于自己的元素相结合就可以形成氮化物。
这些元素包括碱金属、碱土金属、过渡金属、稀土金属以及非金属。
根据它们之间化学键性质的不同,氮化物大体上可以分类为(1)金属键化合物;(2)离子键化合物;(3)共价键化合物。
由于N位于元素周期表中C和O的中间,所以氮化物可以形成性质类似于碳化物或者氧化物的物质。
过渡金属元素和N比较容易形成金属键化合物,如TiN, ZrN, FeN, CrN等等。
金属键氮化物往往具有较高的熔点、硬度和良好的导电性,可以用作为磨料、耐磨涂层等材料。
离子键氮化物是碱、碱土以及稀土金属元素和N形成的化合物,如Li3N, Mg3N2, LaN, LiMnN2等。
N原子有较高的电负性(3.04),它同电负性较低的金属,如Li(电负性0.98)、Ca(电负性1.00)、Mg(电负性1.31)、La(电负性1.10)等形成二元氮化物时,能够获得3个电子而形成N3-离子。
N3-离子的负电荷较高,半径较大(171pm),遇到水分子会强烈水解,因此的离子型化合物只能存在于干态,不会有N3-的水合离子。
离子键氮化物具有较低的熔点、硬度和良好的离子导体特性,通常用作电池材料、离子导体材料等。
共价键氮化物是非金属元素如Si, B, P等以及部分金属元素如Al, Ga, Ge等和N反应所形成的化合物。
例如,Si3N4, AlN, BN, GaN, P3N5等。
这些化合物具有较高的硬度、适中的熔点、良好的导热性和优良的半导体特性,一般作为结构部件、导热基板以及半导体材料等使用。
从发光材料的角度考虑,金属键氮化物或离子键氮化物由于是电子或离子导体,而且带宽较窄,不适合作为发光材料的基质。
大多数共价键氮化物是绝缘体或者是半导体,它们的带宽较大,因此可以考虑作为发光材料的基质材料。