大尺寸碳化硅基空间反射镜制备工艺及性能
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第7卷 第4期2014年8月 中国光学 Chinese Optics Vol.7 No.4Aug.2014 收稿日期:2014⁃03⁃25;修订日期:2014⁃05⁃18文章编号 2095⁃1531(2014)04⁃0552⁃07大口径轻质SiC 反射镜的研究与应用赵汝成1,2∗,包建勋1,2(1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;2.光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室,吉林长春130033)摘要:介绍了大口径轻质碳化硅反射镜镜坯的基本结构、性能测试指标、国内应用及发展前景;阐述了碳化硅凝胶注模成型(Gel⁃casting)、反应烧结SiC(RB⁃SiC)与压力成型、常压烧结SiC(SSiC)两种国内主要制备大口径轻质碳化硅反射镜的方法;并对两种方法制备得到的ϕ1.45m 碳化硅镜坯的性能、测试数据及光学加工后的光学特性进行分析和比对,提出存在的问题,以供商榷,进而促进国内大口径轻质碳化硅反射镜的研究和发展。
关 键 词:碳化硅;大口径碳化硅反射镜;制造工艺中图分类号:TH743 文献标识码:A doi:10.3788/CO.20140704.0552Investigation and application of large scale lightweight SiC mirrorZHAO Ru⁃cheng 1,2∗,BAO Jian⁃xun 1,2(1.Changchun Institute of Optics ,Fine Mechanics and Physics ,Chinese Academy of Sciences ,Changchun 130033,China ;2.Key Lab of Optics System Advanced Manufacturing Technology ,Chinese Academy of Sciences ,Changchun 130033,China )∗Corresponding author ,E⁃mail :zhaoruchengciomp@Abstract :The structures,performances and applications of large scale lightweight SiC mirror blank were in⁃troduced.Two fabricating process dominating in our country,namely gel⁃casting forming followed by reaction sintering(RB⁃SiC)and Sintered Silicon Carbide(SSiC)via pressure molding and pressureless sintering,wereelaborated which were adopted to produce ϕ1.45m lightweight SiC mirrors.By comparing the performances,testing results and optical properties SiC mirrors fabricated via two different processes mentioned above,we an⁃alyse the problems existing in the fabricating process to further improve the development of large scale light⁃weight SiC mirror.Key words :SiC;large scale SiC mirror;fabricating processing1 引 言 随着空间科学研究的迅猛发展,涉及深空探测、天文光学及对地观测等领域的研究已成为发达国家的一个主要研究目标。
碳化硅反射镜材料制备技术中预制体成型流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成,希望大家下载以后,能够帮助大家解决实际的问题。
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碳化硅轻量反射镜的超精密加工碳化硅( SiC )是硬度仅次于金刚石的陶瓷材料。
它具有耐热、耐磨损、耐环境、比刚度高、热传导率高、热膨胀系数小等优良特性,现已在半导体、能源及航空与航天领域得到了广泛的应用。
特别是在航天领域,随着反射镜的大型化,对高刚性轻量主镜的需求也随之增大。
而碳化硅制造技术的进步,使之成为大型主镜的首选材料。
例如,日本即将发射的远红外探测卫星(ASTRO - F)的直径760 mm主镜即采用了碳化硅陶瓷材料。
在线电解修整( ELD )磨削技术已经在各类硬脆性材料的超精密加工中得到广泛的应用,可实现陶瓷材料的高效镜面加工,加工后表面粗糙度可控制在纳米级尺度,甚至可免除后续抛光工序,从而大大减少加工所需时间,降低加工成本。
本文介绍利用ELD 磨削技术来加工口径为360mm碳化硅球面反射镜。
该镜设计成三角形多孔结构以减轻重量,且光学面和背面加强筋都很薄。
为此需要一套专用的静压组合夹具,以减少加工过程中因磨削力引起的工件变形,保证球面镜的轮廓形状精度。
同时在加工过程中利用机载在线测量系统跟踪球面镜的面形误差,反复进行误差补偿磨削以提高面形精度。
1碳化硅镜坯设计与制造研制大口径反射镜要求在具有足够高的动静态刚度的条件下对它进行最大程度的轻量化设计,以降低高精度运动机构控制的难度和发射成本。
图1一个口径为360 mm 的常压烧结碳化硅球面镜坯。
根据反射镜实际尺寸要求:反射面(球面)轮廓直径为2.38m,为了减轻重量, 碳化硅反射镜背部设计成三角形多孔结构,中心断面呈梯形状,中心孔径为110mm,考虑到陶瓷毛坯烧结过程中的收缩变形和翘曲导致的形状偏差,镜坯光学面的初始厚度定为5mm,而后通过粗磨降低到4mm。
2加工变形预测与对策加工将在图2所示的超精密二轴CNC磨床上进行。
该机床具有直径为800mm的旋转工作台。
进给驱动轴为全闭环反馈控制,进给分辨率为10 nm。
各轴均用油静压导轨,主轴和工作台轴承也是油静压轴承,主轴和旋转工作台的最大转速分别为2 000 r/m in和200r/m in。
第39卷 第5期2007年5月哈 尔 滨 工 业 大 学 学 报J OURNAL OF HARBI N I NSTI TUTE OF TECHNOLOGYVo l 139N o 15M ay 2007大尺寸碳化硅基空间反射镜制备工艺及性能张宇民,周玉锋,韩杰才,胡路阳,姚 旺,韩媛媛(哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨150001,E -m a i :l zhy m@h i t .edu .cn)摘 要:采用轻量化的硅/碳化硅复合材料制造大尺寸摆镜或高分辨率相机的主镜.该材料的组织构成是双峰分布的碳化硅晶粒和游离硅.利用碳化硅、碳注浆成型制备复杂轻量化结构的的素坯.在硅气相渗透过程中,碳与硅反应形成新的碳化硅,过量硅填充坯体孔隙.由于干燥和反应过程中收缩量小,可用来制备形状复杂且无缺陷的大尺寸样品.硅/碳化硅复合材料可用作空间光学镜面基板,利用电子束物理气相沉积,在基板上沉积硅膜,同时检测硅/碳化硅复合材料和硅膜的性能.制备了各种尺寸的空间用反射镜,直径为120mm 的六角形镜面重0123kg ,厚度15mm ,表面抛光并镀硅膜,后开式蜂窝状结构的面密度为2413kg /m 2,面形精度为011K @63218n m p-v ,表面粗糙度<3n m r ms .利用有限元分析方法估计实际条件下的应力和变形.关键词:碳化硅;空间反射镜;陶瓷;复合材料中图分类号:TB332文献标识码:A文章编号:0367-6234(2007)05-0783-04Large cera m ic m irror for space optical applicationsZHANG Yu -m in ,Z HOU Yu -feng ,HAN Jie -ca,i HU Lu-yang ,YAO W ang ,HAN Yuan -yuan(Center fo r Com posite M a teria l s ,H arb i n Instit ute o f T echno l ogy ,H arbin 150001,Ch i na ,E -m a i:l z hy m@h it .edu .cn)Abst ract :L i g ht w eight cera m ic co mpositem irrorsw ere prepared for the large po i n ter m irror or the pri m ary m irrorof t h e high resolution ca m era .The Si/S i C co mposite w as a cera m ic m atrix o f free silicon contai n i n g a bi m odal distri b ution of silicon carbide grai n s .The g reen body o f silicon carbide grains and free carbon was fabricated by sli p casting .I nserts w ere used to for m the co m plex li g ht w eight structure .Duri n g silicon vapor i n filtrationprocess ,silicon reacted w ith car bon to for m ne w silicon car b i d e phase and t h e pores of green body disappeared .Because there are ver y little shrinkage duri n g dry i n g and reacti o n process ,the large scale pr oducti o n w ith co m -plex shape has no crackles and distortions .The resu lts i n d icated that S i/S i C co mposite cou l d be used as space opticalm irror substrates .U sing e lectr on bea m physica l vapor deposition ,w e prepared a silicon fil m on the m ir -ror substrate .The properties and m i c rostructure of Si/S i C co mposite and Si fil m were m easured .W e fabricated so m e space m irrors w ith various scales .A 120mm hexagonalm irr o r w ith 15mm thickness and 0123kg w e i g h t w as polished and coated w ith Si fil m .Open back honeyco mb li g ht w eight structure w as produced to gai n 2413kg /m 2areal density .Polish i n g technique different fro m optica l glass polish i n g w as i n troduced to ach i e ve less tha n 011K @63218nm p-v surface error and less than 3n m r m s surface roughness .The stress and d i s -place m ent under factual cond ition w ere esti m ated usi n g fi n ite ele m ent ana l y sism ethod .K ey w ords :sili c on car b ide ;space opticalm irror ;cera m ic ;co m posite 收稿日期:2007-03-12.作者简介:张宇民(1970)),男,教授;韩杰才(1966)),男,教授,博士生导师.反射镜要求低成本、质量轻、稳定性好、硬度大.空间镜片材料尤其需要具有密度小的特点,因此反射镜设计主要任务是减重.镜子可以设计成由光滑致密的面层和轻量化的镜体组成.轻量化结构包括减小结构厚度,多孔结构和泡沫结构.多孔结构可以通过钻盲孔、蜂窝结构和三明治结构来实现.蜂窝结构可以通过近净成型工艺制备[1-4].空间反射镜常用的材料有石英、单晶或多晶硅和碳化硅.80年代,空间反射镜材料多采用金属材料(铝、铍)、石英,碳化硅只是作为替代品.进入90年代后,由于制造设备和工艺的发展,碳化硅的性能不断提高,已成为主要的空间反射镜片材料[5-9].当今,俄罗斯和美国已经具备了制造碳化硅镜片的先进技术[10-17].本文制造了各种尺寸的空间用反射镜,其尺寸从直径为120mm 到椭圆长轴超过750mm 不等.制备的硅/碳化硅反射镜,通过特殊抛光工艺达到要求的面形精度.在硅/碳化硅反射镜上分别气相沉积硅膜和碳化硅膜,并对膜层进行研究.1 实验方法空间反射镜的主要制备过程:1)用有限元分析设计满足光学要求的镜面;2)烧结碳化硅坯体;3)初磨;4)电子束物理气相沉积硅膜或化学气相沉积碳化硅膜;5)抛光;6)测试物理和光学性能.反射镜精度决定了光学系统的精度,面形精度和表面粗糙度是最重要的两个光学设计参数,根据这两个参数进行有限元分析和结构优化设计.成型工艺采用注浆成型技术,首先将碳化硅微粉和碳粉混合制成悬浮胶体,然后加入蒸馏水和分散剂,将悬浮胶体浇注到石膏模具中,干燥,打开模具,放入烘干炉中烘干.加热曲线对烧结过程至关重要.为了除去有机分散剂需要从室温缓慢加热到500e .达到1410e 以上,硅渗入坯体中与游离碳反应形成新的碳化硅,同时把坯体中的碳化硅微粉粘结,多余的硅填充在坯体孔隙内.在研磨过程中,研磨材料应该选用比碳化硅更硬的金刚石或碳化硼.碳化硅的抛光过程比光学玻璃的抛光过程所需时间长.如果镜子表面粗糙度要求<1nm ,则需要在坯体表面电子束物理气相沉积硅薄膜或化学气相沉积碳化硅薄膜.不过,制备出无变形和残余应力的大尺寸薄膜难度很高.2 反射镜设计和有限元分析设计和分析了包括主镜、次镜和摆动反射镜12个镜片.4种反射镜的参数见表1,示意图见图1.表1 各种尺寸反射镜结构形式编号形状直径/mm 面板厚度/mm加强筋厚度/mm表面形状轻量化结构M 12六边形120153平面三角形M 250圆形250304平面六边形M 117圆形117203球面三角形M 650圆形650654球面三角形图1 碳化硅反射镜示意图通过用壳单元表示面板和加强筋,可以建立反射镜模型.模型密度3108g /c m 3,弹性模量350GPa ,泊松比0117.M 120、M 250、M 117、M 650的模型质量分别为01260、11700、01237、11700kg .位于加强筋交接处的三点被约束在同一点.在面板垂直方向加载1g 负荷.通过变形、应力计算和模态分析,M 120、M 117、M 250、M 650的最大变形量分别为315、519、247、128n m,应力低于2M Pa .固有频率结果如表2所示.表2 碳化硅反射镜的固有频率编号12345678910M 12069946994100910822138731387316339163411945322981M 2502428242935383932408140855812627762916620M 1176873136877117190198481118496161034015581185801859322206M 6501326111346181836122294182854152876192898113101123134153434183 镜坯的制备与研磨反射镜的复杂轻量化结构通过成型时加入型芯获得,成型和干燥过程需要细致工作.对于大尺寸的反射镜,准备大尺寸复杂的坯体很困难,因为在干燥过程存在收缩,从而坯体可能产生裂纹.大#784#哈 尔 滨 工 业 大 学 学 报 第39卷尺寸烧结反射镜硬度高,因为温度的不一致导致了微观结构的不一致,这要通过缓慢的加热和冷却避免.反应烧结碳化硅收缩很小,所以复杂结构的坯体制成镜体后,尺寸基本没有变化.符合要求的反射镜还需要经过研磨和抛光的过程,以达到要求的精度.反射膜常采用金属,包括镍-铬、铝、银、二氧化硅和氧化锆膜.M 120、M 250、M 117、M 650反射镜面及轻量化结构见图2~5.(a)反射镜面 (b )轻量化结构图2 M 120碳化硅的实际质量和一些参数见表3.从设计的角度,加强筋越薄越好.从制造的角度,很薄的加强筋较难获得.一般地,厚度为3~5mm.(a)反射镜面 轻量化结构图3 M250(a)反射镜面 轻量化结构图4 M 117图5 M 650的轻量化结构表3 反射镜结构参数编号质量/kg 面积/m 2面密度/(kg #m -2)轻量化率/%波前误差p -v @63218nm表面粗糙度R q /nmM 120M 250M 117M 650012311720124191700100936010490001010750133180241435112214591449.062.064.070140110011001100125<3<3<3<34 EB-P VD 硅膜和CVD 碳化硅膜采用电子束物理气相沉,能在硅/碳化硅镜面上覆盖厚度为1~100L m 的硅膜.利用化学气相沉积技术,能在硅/碳化硅镜面上覆盖厚度为1~100L m 的碳化硅膜.在实验中,硅/碳化硅反射镜表面的硅膜和碳化硅膜厚度为40L m,其显微结构如图6所示.采用化学气相沉积的S i C 膜,其密度和残余应力比电子束物理气相沉的硅膜大.(a)EB -PVD S i 膜 (b )CVD S i C 膜图6 微观结构5 材料性能与光学测试反应烧结碳化硅的室温性能测试结果如表4所示.其中,密度采用阿基米德法测量,利用FLAS H LI N E TM5000热扩散仪测量热导率,用UN I T H ERMT M1252热膨胀仪测量热膨胀系数,其余力学性能采用标准方法测量.根据结果,尽管硅/碳化硅不如C VD 碳化硅性能好,但硅/碳化硅已经具备足够的刚度和导热性能.镜坯采用金刚石粉研磨和抛光.由于Si C 比玻璃硬,采用与光学玻璃不同的抛光技术,面形精度为011K @63218nm p-v 和<3nm r m s 的表面粗糙度. 采用P VD 方法在S i C 反射镜表面镀银,利用PERK I N EL M ER La m bda 9UV /V I S /N I R 分光光度计测量镀银和没有镀银反射镜的反射率.在可见光波段内,镀银的反射镜反射率能达到97%,而没镀银的反射镜仅为30%,如图7所示.#785#第5期张宇民,等:大尺寸碳化硅基空间反射镜制备工艺及性能表4 S i/S i C 材料性能参数Q /(g #c m -3)E /GPaL R b /M Pa K /(W #m -1#K -1)A /(@10-6K -1)HV HRA 常温测量值3108941601167270161314(RT)~512(1000e )1312(S i),2453(S i C )7814图7 S i C 裸镜的反射率和镀银膜的反射率6 结 论1)轻量化硅/碳化硅反射镜可以制备大尺寸指向反射镜或高分辨率相机的主镜.其复合材料密度为31089g /c m 3,孔隙率基本为零;杨氏模量为416GPa ;泊松比为01167;抗弯强度为270MPa ;热导率为161W /(m #K);室温热膨胀系数为314@10-6/K,1000e 时为512@10-6/K ;在游离硅区的显微硬度为1312HV,Si C 区为2453,HRA 为7814.2)制造了各种尺寸的空间用反射镜,其尺寸从直径为120mm 到椭圆长轴超过750mm 不等,轻量化率超过70%.3)采用与光学玻璃的抛光不同的技术获得面形精度为011K @63218n m p-v 和<3n m r m s 的表面粗糙度.4)采用电子束物理气相沉积和化学气相沉积,在硅/碳化硅反射镜上覆盖厚度为40L m 的硅膜和S i C 膜.在可见光波段内,镀银的反射镜反射率达到97%.参考文献:[1]BRECK I NR IDGE J B .A dvanced app licati ons :an ove r -v ie w [J].Cr iti ca l R ev ie w s o f O pti ca l Sc i ence and T ech -nology ,197,CR 77:19-24.[2]PAR S ONAGE T B .Se l ecti ng m irro r m a teria l s for h i gh -perfor m ance optical sy stem [J].SPIE ,1990,1335:119-126.[3]K IS HNER S J ,GARDOPEE G J ,MAG I DA M B ,et al .La rge stable m irro rs :a compar i son of g lass ,bery lli um and s ilicon carbi de[J].SP I E 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