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光催化处理废水原理一、引言随着工业化进程的加速和人口的增长，水资源的短缺和水污染问题日益严重。
废水处理成为环保领域中一个重要的研究方向。
光催化技术是一种新型的废水处理技术，具有高效、无二次污染等优点，因此被广泛应用。
二、光催化处理废水原理1. 光催化反应概述光催化反应是利用半导体材料在光照下产生电子空穴对，通过电子和空穴在溶液中传递和参与氧化还原反应，从而使有机物质分解为无害物质的过程。
2. 光催化反应机理（1）半导体材料吸收光子能量激发电子：当半导体材料处于光照状态下时，其表面会吸收到光子能量，激发出电子从价带跃迁到导带形成电子空穴对。
（2）电子空穴对在半导体表面扩散：由于半导体表面存在缺陷或氧化物等活性位点，在这些位点上电子空穴对可以相互作用并扩散。
（3）电子和空穴在溶液中参与氧化还原反应：当电子和空穴到达半导体表面时，它们可以与溶液中的氧分子或水分子发生氧化还原反应，生成自由基等活性物质，从而使有机物质分解为无害物质。
3. 光催化废水处理工艺（1）半导体材料的选择：目前常用的半导体材料有二氧化钛、氧化锌、二硫化钼等。
其中，二氧化钛是最常用的光催化材料之一，因为其光吸收谱覆盖了紫外到可见光区域，并且具有良好的稳定性和可再生性。
（2）反应器的设计：光催化反应器通常采用悬浮式或固定式两种形式。
悬浮式反应器通过搅拌或气泡等方式使溶液中的废水与半导体材料接触，固定式反应器则将半导体材料固定在反应器内壁上，让废水流过材料表面进行处理。
（3）光源的选择：不同的半导体材料对不同波长的光有不同的吸收能力，因此选择合适的光源对于提高光催化反应效率至关重要。
常用的光源有紫外灯、氙灯等。
4. 光催化反应影响因素（1）半导体材料性质：半导体材料的晶体结构、晶粒大小、比表面积等性质会影响其光催化活性。
（2）废水特性：废水中含有不同种类和浓度的有机物质、无机物质和微生物等，这些物质会影响光催化反应速率和效果。
（3）溶液pH值：溶液pH值对于半导体材料表面电荷状态和废水中活性物质形态等都具有重要影响，因此需要根据不同的废水特性选择合适的pH值。
电子工业水污染物排放标准(发布稿)1适用范围本标准规定了电子工业的水污染物排放控制要求、监测要求和监督管理要求。
本标准适用于现有的电子工业企业、生产设施或研制线的水污染物排放管理，以及电子工业建设项目的环境影响评价、环境保护设施设计、竣工环境保护验收、排污许可证核发及其投产后的水污染物排放管理。
电子工业污水集中处理设施的水污染物排放管理适用于本标准。
本标准规定的水污染物排放控制要求适用于电子工业企业、电子工业污水集中处理设施直接或间接向其法定边界外排放水污染物的行为。
3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。
3.1电子工业electronic industry本标准中电子工业指电子专用材料、电子元件、印制电路板、半导体器件、显示器件及光电子器件、电子终端产品等六类电子产品制造业。
3.2电子专用材料special electronic material具有特定要求且仅用于电子产品的材料，不包括生产电子专用材料的原材料的生产制造。
根据其作用与用途，可分为电子功能材料、互联与封装材料、工艺与辅助材料。
具体产品范围见附录A。
3.3电子元件electronic component电子电路中具有控制、变换和传输电压或电流等独立功能的单元。
包括电阻器、电容器、电子变压器、电感器、压电晶体元器件、电子敏感元器件与传感器、电接插元件、控制继电器、微特电机与组件、电声器件等。
3.4印制电路板printed circuit board（PCB）在绝缘基材上，按预定设计形成印制元件、印制线路或两者结合的导电图形的印制电路或印制线路成品板。
包括刚性板与挠性板，又可分为单面印制电路板、双面印制电路板、多层印制电路板，以及刚挠结合印制电路板和高密度互连（high density interconnector，HDI）印制电路板等。
3.5半导体器件semiconductor device利用半导体材料的特殊电特性制造的具有特定功能的电子器件。
高级氧化技术普通针对难降解有机废水，如医药、化工、染料工业废水以及含有难处理的有毒物质物质等。
第一节电化学处理技术电化学氧化法主要用于有毒难生物降解有机废水的处理，电化学水处理技术的基本原理是使污染物在电极上发生直接电化学反应或者间接电化学而得到转化，从而达到削减和去除污染物的目的。
根据不同的氧化作用机理，可分为直接电解和间接电解。
直接电解是指污染物在电极上直接被氧化或者还原而从废水中去除今直接电解可分为阳极过程和阴极过程。
阳极过程就是污染物在阳极表面氧化而转化成毒性较小的物质或者易生物降解的物质，甚至发生有机物无机化，从而达到削减、去除污染物的目的。
阴极过程就是污染物在阴极表面还原而得以去除，阴极过程主要用于卤代经的还原脱卤和重金属的回收，如卤代有机物的卤素通过阴极还原发生脱卤反应，从而可以提高有机物的可生化性。
直接电解过程伴有着氧气析出，氧的生成使氧化降解有机物的电流效率降低，能秏升高，因此，阳极材料对电解的影响很大。
间接电解是指利用电化学产生的氧化还原物质作为反应剂或者催化剂，使污染物转化成毒性小的物质。
间接电解分为可逆过程和不可逆过程。
可逆过程(媒介电化学氧化)是指氧化还原物在电解过程中可电化学再生和循环使用。
不可逆过程是指利用不可逆电化学反应产生的物质，如具有强氧化性的氯酸盐、次氯酸盐、 H202 和 O2 等氧化有机物的过程，还可以利用电化学反应产生强氧化性的中间体，包括溶剂化电子、 HO、H02/02 等自由基。
1) 电化学方法既可以单独使用，又可以与其他处理方法结合使用，如作为前处理方法，可以提高废水的生物降解性；2) 普通电化学处理工艺只能针对特定的废水，处理规模小，且处理效率不高；3)有的电化学水处理工艺需消耗电能，运行成本大。
电化学反应器按反应器的工作方式分类可分为：间歇式、置换流式和连续搅拌箱式电化学反应器。
按反应器中工作电极的形状分类可分为二维电极反应器、三维电极反应器。
工业废水处理和生活污水处理的区别工业废水处理和生活污水处理是两种不同的处理方式，各有其特点和处理方法。
本文将从污水来源、污水性质、处理流程和处理技术等方面对工业废水处理和生活污水处理进行比较，以便更好地理解它们之间的区别。
工业废水处理的污水来源主要是工业生产过程中产生的废水，包括金属加工、化工生产、电子制造、纺织印染等行业。
这些工业废水通常含有各种有机物、重金属、化学药剂等污染物，对环境污染较为严重。
而生活污水处理的污水来源主要是居民生活、商业和服务业等领域产生的污水，包括厨房废水、浴室废水、洗衣废水等，其污染物主要以有机物为主，废水量较大。
工业废水的性质复杂多样，污染物种类繁多，含有的有机物、重金属等对环境造成的危害较大。
而生活污水的性质相对简单，主要是有机物、营养物质和微生物等，对环境影响相对较小。
因此，工业废水处理的难度较大，需要采用更为复杂和精密的处理技术和设备，而生活污水处理相对简单，处理流程和技术相对成熟和稳定。
工业废水处理的流程通常包括预处理、初级处理、中级处理和深度处理等多个阶段，其中要根据废水性质的不同采用不同的处理方法，如沉淀、过滤、吸附、生物处理等。
而生活污水处理的流程相对简单，通常包括粗筛、调节池、生化处理和沉淀等处理过程。
虽然生活污水处理的流程较简单，但也需要根据不同情况进行相应的调整和优化。
在处理技术方面，工业废水处理通常采用物理化学结合、生物处理和高级氧化技术等多种技术手段，以实现对污染物的有效去除和排放达标。
而生活污水处理的技术以生物处理和膜技术为主，通过生物降解和膜过滤等方式将污水中的有机物和微生物去除，以实现水质的净化和达标排放。
综上所述，工业废水处理和生活污水处理在污水来源、性质、处理流程和处理技术等方面有着明显的区别。
了解工业废水处理和生活污水处理的区别有助于我们更好地选择适合的处理方式，保护环境、保障人民健康。
污水处理技术之8种电化学水处理方法所属行业: 水处理关键词：污水处理水处理技术电化学水处理世间万物，都是有一利就有一弊。
社会的进步和人们生活水平的提高，也不可避免地对环境产生污染。
废水就是其中之一。
随着石化、印染、造纸、农药、医药卫生、冶金、食品等行业的迅速发展，世界各国的废水排放总量急剧增加，且由于废水中含有较多的高浓度、高毒性、高盐度、高色度的成分，使其难以降解和处理，往往会造成非常严重的水环境污染。
为了处理每天大量排出的工业废水，人们也是蛮拼的。
物、化、生齐用，力、声、光、电、磁结合。
今天笔者为您总结用“电”来处理废水的电化学水处理技术。
电化学水处理技术，是指在电极或外加电场的作用下，在特定的电化学反应器内，通过一定的化学反应、电化学过程或物理过程，对废水中的污染物进行降解的过程。
电化学系统设备相对简单，占地面积小，操作维护费用较低，能有效避免二次污染，而且反应可控程度高，便于实现工业自动化，被称为“环境友好”技术。
电化学水处理的发展历程电化学水处理技术包括电絮凝-电气浮法、电渗析、电吸附、电芬顿、电催化高级氧化等技术，种类繁多，各自都有适用的对象和领域。
所属行业: 水处理关键词：污水处理水处理技术电化学水处理 01电絮凝-电气浮法电絮凝法，实际上就是电气浮法，因为絮凝的过程也伴随着气浮的发生，因此可合称为“电絮凝-电气浮法”。
该法通过外电压作用下，产生的可溶性阳极产生阳离子体，阳离子能够对胶体污染物发生凝聚效应。
同时，阴极在电压作用下的析出大量氢气，氢气在上浮的过程中能够将絮体上浮，电凝聚法就这样通过阳极的凝聚和阴极的絮体上浮实现污染物的分离和水的净化。
以金属为溶解性阳极(一般为铝或铁)，在电解时产生的Al3+或Fe3+离子生成电活性絮凝剂，来压缩胶体双电层使其脱稳，以及吸附架桥网捕作用来实现的：一方面形成的电活性絮凝剂M(OH)n，被称为可溶性多核羟基配合物，作为混凝剂能快速有效地凝聚污水中的胶体悬浮物(细微油珠和机械杂质)并“架桥”联接，凝成“大块”而加速分离.另一方面胶体在Al盐或Fe盐等电解质作用下压缩双电层，因库仑效应或凝结剂的吸附作用，导致胶体凝聚而实现分离，发生电絮凝剂。
半导体废水及废气的处理TYYGROUP system office room 【TYYUA16H-TYY-TYYYUA8Q8-半导体废水及废气的处理半导体废水及废气的处理由于制程技术不断演进，使得相关供应系统等级及质量日趋精密且复杂，如毒性气体，化学药品或纯水系统等，而此物质的排放却造成环境恶化的来源之一；因此，如何处理此类高纯度且大量的毒性物质之排放，将是厂务废水，废气处理的重要工作与任务。
一、首先是废水处理系统半导体厂废水之来源，可略分为制程废水，纯水系统之废水，废气洗涤中和液废水等三种，如表七所列。
各排放水可分为直接排放及回收处理方式。
1. 制程废水：直接排放－HF浓废液，HF洗涤废水，酸／碱性废水，晶圆研磨废水等五种，经各分类管线排至废水厂。
回收处理－有机系列(Solvent,IPA), H2SO4,DIR70%，及DIR90%等，经排放收集委外处理或直接再利用。
2.纯水系统之废水：直接排放－纯水系统再生时之洗涤药剂混合水（含盐酸再生／洗涤液及碱洗涤液）回收处理－系统浓缩液（逆渗透膜组，超限外滤膜组）或是碱性再生废液。
_,3.废气洗涤废水直接排放－洗涤制程所排放的废气之水，均直接排放至处理厂。
至于其处理的程序及步骤，下文为其各项之说明：1. HF浓废液：此废液至处理系统后，添加NaOH提升pH值至8～10之间，注入CaCl2，Ca(OH)2与HF反应向生成CaF2污泥，即HF+CaCl2 + Ca(OH)2←CaF2 + HCl + H2O的反应式。
藉此去除氟离子之浓度量，而CaF2污泥产物与晶圆研磨废液混合，且添加Polymer（高分子）增进其沈降性，以利CaF2污泥经脱水机挤压过滤。
污泥饼则委托代处理业者处理。
另一产物HCl酸气由处理厂废气洗涤后排放，污泥滤液则注入调节池。
2.一般废水：包括HF洗涤废水，酸／碱性废水。
经水系统树脂塔再生废液，废气洗涤废水等进入调节池混合均匀，稀释后泵入调整池中，添加NaOH，H2SO4等酸碱中和剂，将之调整为～的pH值范围后放流入园区下水道。
第33卷第％期2020年10月污染防治技术P O LLUTION CONTROL TECHNOLOGYVol.33,No.5Oct；2020碳化硅电子行业废水处理工程实例李朋，田宇鸣，马兴峰，周伟，汤付军，曹向前（江苏中电创新环境科技有限公司，江苏无锡212000）摘要:随着我国半导体行业的快速发展，碳化硅电子行业企业也日趋增加,电子行业废水种类也越来越多，现阶段应加快对电子行业废水处理技术的研究。
本文以太原某新建碳化硅电子行业项目为例进行综合分析，对其中处理水量为5 m3/h、6m3/h、5m3/h的酸碱废水、有机废水、颗粒废水，分别采用二级酸碱中和法、活性污泥法、混凝絮凝反应的工艺进行处理。
最终使出水水质满足GB8978-1996中三级排放标准，为碳化硅电子行业废水的处理技术提供参考。
关键词：酸碱废水;有机废水;颗粒废水;酸碱中和;混凝反应;活性污泥法；电子行业废水中图分类号：X52文献标识码:AExamples of wastewater treatment projects inthe silicon carbide electronics industryLi Peng，Ma Xingfeng，Zhou Wei，Tang Fujun，Cao Xiangqian(China Electronics Innovation Environmental Technology Co.，Ltd，Wuxi，Jiangsu，212000)Abstract:With the rapid development of China's semiconductor industry，followed the silicon carbide electronics industry and the types of wastewater in the electronics industry.At present，research on wastewater treatment technology in tOe electronics industry should be accelerated.In this paper，a comprehensive analysis of a new silicon carbide electronics industry project in Taiyuan was conducted.The acid-alkali wastewater，oryanic wastewater，and granulao wastewater with a water volume of5m3/h，6m3/h，and5m3/h were treated with a secondary acid-base neutralization method，activated sludge process，treatment process of coaaule-tion and Oocculation reactions respectively.Finally，the effluent water quality meets the GB8978-1996level#discharye standard，this study provided a referencc for wastewater treatment technoloos in the silicon carbide electronics industry.Key words:Acid-base wastewater;Oryanic wastewater;Granular wastewater;Acid-bae neutralization;Coaaulation reaction;Activated sludge process;Electronics industry wastewater1项目概述现阶段我国水污染现状依旧十分严峻,其中来自工业电子行业废水的污染占很大一部分原因［1］#常见的电子行业工业废水包括有机废水、酸碱废水、无机废水、各类重金属废水、高悬浮物废水等［2,3］#针对不同水质的废水，处理工艺也不相同，主要包括酸碱中和法⑷、过滤沉淀、混凝絮凝［5］、活性污泥法/60、生物膜法、电化学法等。
光催化废水处理技术光催化废水处理技术是一种利用光能将废水中的有机物质降解的先进技术。
随着工业化的进程，废水排放已成为环境污染的一个严重问题，传统的废水处理方法往往难以彻底降解有机物质，导致水质污染。
而光催化技术的出现，为废水治理提供了一种绿色、高效的解决方案。
光催化废水处理技术是通过携带能量的光子与光催化剂表面发生作用，产生活性自由基，进而降解废水中的有机物质。
光催化剂通常采用二氧化钛（TiO2）等半导体材料，其表面具有较高的吸附性和催化活性。
当光照射到光催化剂表面时，会激发其电子，使其跃迁至导带，形成电子-空穴对。
这些活性自由基具有较强的氧化还原能力，能够将有机废水中的有机物质氧化分解为无害的物质，从而实现废水的净化。
与传统的物理、化学处理方法相比，光催化废水处理技术具有许多优势。
首先，光催化过程无需外加氧化剂或还原剂，仅需光照即可进行催化反应，因此能够节约能源和化学药剂的使用。
其次，光催化反应速率快，降解效率高，能够在短时间内将有机废水中的有害物质彻底降解，从而避免二次污染。
此外，光催化过程无需高温高压条件，操作简单，易于实施和维护。
然而，光催化废水处理技术也存在一些挑战和问题。
首先，光催化剂的选择对于光催化效率起着重要作用。
目前常用的二氧化钛对于紫外光响应良好，但对可见光响应较差，限制了其在日常应用中的广泛使用。
因此，寻找更具活性的光催化剂材料成为当前研究的热点。
其次，光催化过程受光照条件、催化剂浓度、废水性质等因素的影响较大，需要进一步优化反应条件，提高反应效率和稳定性。
此外，光催化废水处理技术在工程应用中还存在成本较高、设备复杂等问题，需要进一步降低成本，提高可持续发展能力。
在光催化废水处理技术的研究领域，近年来涌现了许多新的研究成果和发展方向。
例如，利用纳米技术改性光催化剂，在提高光响应性能的同时，降低光催化剂的用量，优化反应条件，实现低能耗高效率的废水处理。
此外，光催化技术与其他废水处理技术的联合应用也引起了研究人员的广泛关注。
电子工业废水处理电子行业如电镀、线路板等的废水的成分非常复杂，除含氰(CN-)废水和酸碱废水外，重金属废水是电镀业潜在危害性极大的废水类别。
根据重金属废水中所含重金属元素进行分类，一般可以分为含铬(Cr)废水、含镍(Ni)废水、含镉(Cd)废水、含铜(Cu)废水、含锌(Zn)废水、含金(Au)废水、含银(Ag)废水等。
文章介绍几种电子工业废水处理。
一、反彩管废水回收系统该系统由二部分组成，即原水预处理部分，处理水量195m3/h;反渗透部分，处理水量2x65m3/h。
其流程示意图见图1。
祇和亜乩敢器字仆质过找滦帼丨亠扩浮淌屮.匠.V.叵收云I朮元引异小=-■"■:VI]一匸艺洁:耳肚意图预处理部分原水预处理的目的是使进入RO装置前的水质达到RO进水标准，延长RO膜的使用寿命，保证RO装置长期、稳定的运行。
预处理系统由原水地、增压泵、反洗滤器、絮凝、机械滤器、还原剂投加、活性炭滤器、反洗泵组成。
所有预处理工序包括杀菌，絮凝过滤，吸附，pH调节，阻垢等，都是为最大限度地防止和延缓RO膜面的积(CaCO3,Casq,srsq,CaFZ及铁铝化合物)，防止胶体物质及总悬浮固体微粒污染物堵塞有机物、微生物、氧化性物质等对膜的氧化破坏，缓RO膜的水解过程，从而使RO 系统在良好状下工作。
反渗透部分RO部分是由32根RO组件，按10:6的形式列，共2套，分别用一个高压泵供水，RO产水每65mm3/h。
产水经管道输送到彩管生产制水线，作生产线的原水使废水得以回用。
运行结果本项目于2004年5月投入运行。
经检测，各项标均超过设计要求:脱盐率97.3%冰回收率:70%;产水量:2x65m3/h。
各项指标的分析和检测结示于以上表1。
有污水需要处理的企业，可以进入污水宝平台咨询！*1Hl水【影曾生产废水｝和产水的各项检测和分析结果8.99产水钙77..^山总TDS(ing-'Lj74.2L0.5电寻率gWcm）1159.447.152饿0.180CJ.0(J40.006O.OQ]0.069八枷餡（m迅）f)05<1).004耗金尽'：TT10L1 4.46.55 1.03硫醴盘248<5二氧化硅仲劭L）爭礁酸盐51.2!.?铢wig/L}RO膜面污染及膜面清洗处理尽管本系统的预处理系统配备比较完善，但经较长时间运行，RO膜面仍难免出现污染物的沉积，使系统产水量不断下降。
这是任何RO装置应用中普遍出现的现象。
对此，我们采用一种比较有效、简单易行的膜清洗方法:在工艺流程配备RO膜清洗循环系统（见图1）;清洗时，按1%磷酸钠，1%三聚磷酸钠，1%EDTA—四钠和0.2%NaOH,配制清洗液;对系统进行循环清洗。
最后用RO产水循环冲洗。
清洗结果表明RO系统产水可接近于初始产量。
彩色显象管生产排出的废水经RO系统处理后，脱盐率达97.3%,产水量2x65m3/h符合彩管生产线纯水供应的设计要求，制水耗电o.85kwh/m3产水，表明RO在该领域的应用在技术上和经济上是可行的。
完善的预处理系统，是RO系统成功运行的保证。
本系统采用的杀菌，絮凝，吸附，过滤,pH调节，阻垢及还原等预处理环节，在系统一年多的安全、可靠运行中，维持了各项指标的稳定。
经过较长时间的运行，系统产水量有一定程度的下降，它可以通过RO膜清洗方法解决。
本系统采用的配制专用清洗液及简易、有效方法可使产水量恢复到接近初始产水量水平。
二、印制线路板生产废水的处理清洗废水有污水需要处理的企业，可以进入污水宝平台咨询！清洗废水来源于磨板、水洗、电镀、洗缸等程序，占总水量的80%以上，清洗废水总体呈酸性，其污染物浓度相对较低，一般pH为2-5，COD在100mg/L以下，铜离子质量浓度在100mg/L以下。
清洗废水流入调节池调节水质水量后，由提升泵泵入中和池，加入碱液调节pH,再流入混凝池及助凝池。
加入混凝剂和助凝剂后，废水中的重金属离子以及部分胶体类有机物形成絮状体，流入沉淀池进行泥水分离。
然后，污泥排入物化污泥池，沉淀池的出水流入中和池调节pH后，经砂滤池和活性碳池后流入回用水池。
咼浓有机废水高浓有机废水来自于各除胶、除油、显影、脱膜、绿油工序等，其COD浓度很高，一般达3000-8000mg/L，是一种污染较严重的废水，此类废水单独收集后，经隔油沉渣池除去浮油等杂志后，进入调节池调节水质水量，再由废水泵打入酸析池，由pH在线仪控制投加酸液，在酸性条件下，废水中的有机物析出浮于水面，定时清除。
酸析后加碱调节pH，然后投加混凝剂，反应后再用气动隔膜泵打入厢式压滤机进行渣水分离。
此时，废水中的油墨和悬浮物截留于厢式压滤机内，滤液排出，作进一步处理。
络合铜废水络合铜废水来自蚀刻、沉铜、沉银等工序，约占印制线路板生产废水总水量的8%左右。
废水中含有高浓度的络合铜、柠檬酸等。
络合废水须先破除络合物(铜鳌合物)才能将铜沉淀去除。
络合物的稳定性与溶液的pH有关。
在pH为2.9-12时，络合铜离子比Cu(OH)2稳定，无法通过调节pH产生Cu(OH)2：沉淀的方法将铜离子去除。
但CuS比有机络合铜离子更为稳定，通过投加Na2S可以产生CuS沉淀，从而破坏络合铜离子的平衡，达到去除铜离子的目的。
最后加入高分子助凝剂进行泥水分离。
但是，要使络合物中的铜完全沉淀下来，必须投加过量的硫化钠。
如何控制硫化钠是个非常关键的因素。
一方面硫离子对后面的生化处理中微生物的培养有一定的毒害作用，另一方面，硫离子也是出水的控制指标之一。
因此过量的Na2S需加FeSO4来去除。
经破络反应沉淀后的络合废水与经预处理的高浓有机废水一起进入后续工序处理。
有污水需要处理的企业，可以进入污水宝平台咨询！再梶冋瀝 戢密惨餐i睨烘外址处賢谑液I 卅流里3射世和池三、电镀废水及其处理工艺电镀废水的成分非常复杂，不同企业，其电镀液配方、产品及其他生产原料均有区别，使得排放的废水水质不尽相同，但是，就一般电镀企业而言，其排放的生产废水水质大致相同。
电镀废水中主要污染物有铜、镍、锌等金属及其络合物、F-、SS 、酸、碱、有机物等［2］，个别电镀企业废水中还含有Cr6+、CN-等危害性极大的污染物。
电镀企业除了正常的生产废水外，还有少量高浓度废液或母液需要处理，其污染物的成分与生产废水类似。
综合分析电镀企业废水、废液的水质及排放情况，电镀废水处理一般按同类合并、分类收集、分别处理的思路进行，分类明细见表1。
根据表1中的分类，下面分别介绍各类废水的常用处理工 艺。
上1盟橫廿吏壯上L ：耍海第物 广■<1络評废水瓠賦锌等金鮒和T 物2就辂点Pb-Sn 等3低iM 懵胱废水SSJ1F J JJ "大部分4龍魁见胧废水先？冇;d 、*帘.爼帧 5惓战、浓碱理於金以废液大郴分匸序1・络合废水络合废水中主要污染物为铜离子的络合物，如Cu2+与NH40H 、EDTA 等形成稳定的络合铜，一般靠投加酸碱^SIEF^OJt^^J煤普殷本—4剁屮帥勺一・飯搐反逆他一■班络淀谨池—甲彈JI 节繼］生需污水I 曲撵眾"朋"|」卩」用■4貝莎可*｛対盒制■杭証池卜中和的方法不能去除。
对络合废水的处理首先要破坏络合物，采用溶度积比络合物稳定常数更小的沉淀剂，使其与金属离子形成更稳定的沉淀物，从废水中分离出来，达到去除的目的。
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常用络合废水处理工艺见图1。
Vi PAM混理汁淹池处段2・含氟废水电镀企业Pb-Sn废水中含有大量的氟硼酸根(BF4-)、Pb2+和Sn2+,其中Pb2+和Sn2+，通过投加碱液，调节pH 值生成沉淀物去除，氟硼酸根形成氟化物沉淀去除。
常用含氟废水处理工艺见图2。
—淀I■迪n池址程污淀坯理^2含報廈水处理谎程3・含氰废水含氰废液一般都回收处理，只有清洗废水中含有少量氰(CN-),常用碱性氯化法破氰(络合氰)。
常用含氰废水处理工艺见图3。
-?■<*■鶴理£1.也应—级池NuOHMW 兀M尙〔；1门图3舍期废水蛀理流程亠…有污水需要处理的企业，可以进入污水宝平台咨询！4・含铬废水含铬废水中，铬主要以Cr6+的形式存在，在酸性的条件下，投加还原剂将Cr6+还原成Cr3+,然后调节pH至碱性，生成氢氧化铬沉淀去除，常用的还原剂有亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、硫酸亚铁等。
常用含铬废水处理工艺见图4。
PAM圈4含幅慶水址理流程5・高浓度有机废水化学清洗、显影、脱膜等工序排放的废水中COD含量很高，甚至达到10〜20g/L,显影和脱膜废水呈碱性,pH>13一般呈现蓝色，该部分高浓度有机废水通常采用酸析法处理。
在酸性条件下，废水中的感光膜、清洗剂会析出，形成浓胶状聚合物，经固液分离去除，再扌把3H调至弱碱性,加入混凝剂，经沉淀进一步降低废水的COD值。
常用高浓度有机废水处理工艺见图5。
r:匿5有机姦水处理流理6・废液或母液一般电镀企业产生的废液，约占总废水量的0.5%左右。
废液中大部分具有回收利用价值，例如浓酸、浓碱可用来调节废水处理中废水的pH值，节省运行费用，其他废液及预处理产生的污泥，由专业公司回收再利用。
有污水需要处理的企业，可以进入污水宝平台咨询！7・低浓度清洗废水低浓度清洗废水一般占总水量的85%左右[2],因此，该部分废水是电镀废水处理的主体，其他种类废水经预处理后，与低浓度清洗废水混合再处理，达标排放出厂或回用。
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常用混合废水处理工艺见图6。
图6鹿合废水处理漩程设置离子交换工段主要是考虑到电镀药剂配方复杂且保密，络合剂和表面活性剂对氢氧化铜的沉淀有影响，增加离子交换柱，可进一步去除废水中的铜离子，尤其是络合铜离子，确保排放水质达标。
8・废水处理工艺的自动化自动控制在电镀废水处理中起着重要作用，电镀废水处理操作工序复杂、投加药品众多，采用自动化控制程序，可以避免一些人为的不利因素、可以准确控制投加的药剂量而不造成浪费、可以减少操作人员节省运行费用，因此，电镀废水处理应尽可能的采用自动化程序控制，确保整个处理工艺流程正常运行。
电镀废水成分复杂，不同电镀企业其产生的废水水质均有差异，因此，在进行电镀废水处理设计时，应详细分析废水水质，有条件的情况下，可先进行小试或中试，确保采用的处理工艺可行、可靠。
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