半导体二极管 三极管来料检验规程
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电子元器件来料检验规程(一)半导体晶体管部分1内容本规程规定了本公司常用半导体二极管、三极管、达林顿晶体管、绝缘栅双极晶体管(IGBT)来料检验的抽样方式、接收标准、检验测试方法和所用测试仪器等具体要求。
2范围本规程适用于本公司常用半导体二极管、三极管、达林顿晶体管、绝缘栅双极晶体管(IGBT)来料检验和验收。
3引用标准GB2828.1-2003 计数抽样检验程序第一部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划GB2421 电工电子产品基本环境试验规程总则GB2423.22 电工电子产品基本环境试验规程试验Cb:恒定湿热试验方法GB2421 电工电子产品基本环境试验规程试验N:温度变化试验方法GB4798.1 ?电工电子产品应用环境条件贮存4检验测试设备和测试方法测试设备:DW4824型晶体管特性图示仪(或QT2型晶体管特性图示仪等)测试大功率晶体管专用转接夹具、插座或装置数字万用表、不锈钢镊子等应手工具晶体管特性图示仪、数字万用必须经检定合格并且在计量检定的有效期内。
人员素质:能熟练操作使用晶体管特性图示仪进行各种半导体器件参数测试,工作态度严谨、细心,持有检验测试操作合格证或许可证。
测试准备:晶体管特性图示仪每次开启,必须预热五分钟。
检查确认图示仪的技术状态完好方能进行测试。
每种器件在测试前都要做外观检查:管脚应光洁、明亮,管身标志清晰、无划痕,封装尺寸应符合订货要求。
4.1 绝缘栅N沟道双极晶体管IGBT主要测试参数:IGBT的特性曲线IGBT的饱和压降V CESIGBT的栅极阈值电压V GE(th)IGBT的击穿电压V CER测试方法:现将上述特性参数的测试方法分述如下。
4.1.1 测IGBT的输出特性曲线按附表1“常规测试/输出特性曲线”栏、测IGBT的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
正确连接相应的IGBT测试夹具、插座或装置,检查连接无误后,接入待测的IGBT,图示仪即显示一簇该IGBT的输出特性曲线。
该线簇应均匀、平滑、无畸变,为合格(如图1a所示)。
否则为不合格(如图1b所示)。
图 14.1.2 测IGBT的饱和压降V CES在特性曲线中选择V GE=4.5V的一条曲线,它与I C=7.0A直线的交点所对应的V C 电压值就是所测试的IGBT在V GE=4.50V、I C=7.0A时的饱和压降V CES。
V CES<3.0V为合格。
否则为不合格。
4.1.3 测IGBT的转移特性曲线按附表1“常规测试/转移特性曲线”栏、测IGBT的要求调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
正确连接相应的IGBT测试夹具、插座或装置,检查连接无误后,接入待测的IGBT,图示仪即显示一簇该IGBT的转移特性曲线。
该线簇应当是一组幅度由小到大的、等间距的竖直线段。
这些线段的一端在X 轴上,另一端连接起来应当是一条平滑的曲线。
4.1.4 测IGBT的栅极阈值电压V GE(th)观测特性曲线与I C=1mA直线的交点所对应的V BE电压值,就是该IGBT在该测试温度下的栅极阈值电压V GE(th)。
此时V BE=V GE(th)。
所测得的V GE(th)在该IGBT的标称栅极阈值电压范围内为合格。
否则为不合格。
4.1.5 测IGBT的击穿电压V CER按附表1“击穿电压测试”栏、测IGBT的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
接入待测的IGBT并使栅极悬空,使峰值电压由0V缓慢增加,观测特性曲线的形状及击穿点电压,此电压在该IGBT的标称击穿电压范围内为合格。
否则为不合格。
注意:操作人员应避免直接接触高压电极,并且每测试完一只IGBT的击穿电压,都要将“峰值电压调节”旋钮调节回0,以保障人员和设备安全。
4.2 达林顿大功率NPN晶体管主要测试参数:达林顿晶体管的共射输出特性曲线达林顿晶体管的饱和压降BV CES达林顿晶体管的共射极电流放大系数β达林顿晶体管的反向击穿电压BV CE0测试方法:现将上述特性参数的测试方法分述如下。
4.2.1 测达林顿晶体管的共发射极输出特性曲线按附表1“常规测试/输出特性曲线”栏、测达林顿晶体管的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
正确连接相应的达林顿晶体管测试夹具、插座或装置,检查连接无误后,接入待测的IGBT,图示仪即显示一簇该达林顿晶体管的共发射极输出特性曲线。
该线簇应均匀、平滑、无畸变,为合格(如图2a所示)。
否则为不合格(如图2b所示)。
图 24.2.2 测达林顿晶体管的饱和压降BV CES观测达林顿晶体管的共发射极输出特性曲线I C=6A的直线与饱和区某一特性曲线的交点所对应的V CE值,就是该测达林顿晶体管在基极注入电流足够大且集电极电流I C=6A时的饱和压降V CES。
观测到的V CES值在该达林顿晶体管的标称饱和压降范围内为合格,否则为不合格。
4.2.3 测达林顿晶体管的共射极电流放大系数β观测达林顿晶体管的共发射极输出特性曲线I C=6A的直线与放大区某一特性曲线的交点所对应的I B值,即可粗略地计算出在该工作点对应的共发射极电流放大系数ββ=(1.01~1.20)I C/I Bβ值在该达林顿晶体管的标称电流放大系数范围内为合格,否则为不合格。
4.2.4 测达林顿晶体管的反向击穿电压BV CE0按附表1“击穿电压测试”栏、测达林顿晶体管的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
接入待测的达林顿晶体管并使基极悬空,使峰值电压由0V缓慢增加,观测特性曲线的形状及击穿点电压V CE,此电压即为达林顿晶体管基极开路时的击穿电压BV CE0,BV CE0在该达林顿晶体管的标称击穿电压范围内为合格。
否则为不合格。
注意:操作人员应避免直接接触高压电极,并且每测试完一只达林顿晶体管的反向击穿电压,都要将“峰值电压调节”旋钮调节回0,以保障人员和设备安全。
4.3 小功率晶体管主要测试参数:小功率晶体管的共发射极输出特性曲线小功率晶体管的饱和压降V CES小功率晶体管的共射极电流放大系数β小功率晶体管基极开路时的反向击穿电压BV CE0小功率晶体管基极开路时的穿透电流I CE0测试方法:现将上述特性参数的测试方法分述如下。
4.3.1 测小功率晶体管的共发射极输出特性曲线按附表1“常规测试/输出特性曲线”栏、测NPN晶体管的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
正确连接相应的NPN晶体管测试夹具、插座或装置,检查连接无误后,接入待测的小功率NPN晶体管,图示仪即显示一簇该小功率NPN晶体管的共发射极输出特性曲线。
该线簇应均匀、平滑、无畸变,为合格(如图3a所示)。
否则为不合格(如图3b所示)。
PNP晶体管NPN晶体管图 34.3.2 测小功率晶体管的饱和压降BV CES观测小功率NPN晶体管的共发射极输出特性曲线I C=10mA的直线与饱和区某一特性曲线的交点所对应的V CE值,就是该小功率NPN晶体管在基极注入电流足够大且集电极电流I C=10mA时的饱和压降BV CES。
观测到的V CES值在该小功率晶体管的标称饱和压降范围内为合格,否则为不合格。
4.3.3 测小功率晶体管的共射极电流放大系数β观小功率NPN晶体管的共发射极输出特性曲线I C=10mA的直线与放大区某一特性曲线的交点所对应的I B值,即可粗略地计算出在该工作点对应的共发射极电流放大系数ββ=(1.01~1.20)I C/I Bβ值在该小功率NPN晶体管的标称电流放大系数范围内为合格,否则为不合格。
4.3.4 测小功率晶体管基极开路时的反向击穿电压BV CE0按附表1“击穿电压测试”栏、测小功率NPN晶体管的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
接入待测的小功率NPN并使基极悬空,使峰值电压由0V缓慢增加,观测特性曲线的形状及击穿点电压V CE,此电压即为小功率NPN晶体管基极开路时的击穿电压BV CE0,BV CE0在该小功率晶体管的标称击穿电压范围内为合格。
否则为不合格。
4.3.5 测小功率晶体管基射极开路时的穿透电流I CE0在测小功率晶体管基极开路时的反向击穿电压BV CE0的基础上,将“阶梯作用”转向“关”状态,Y轴集电极电流调整到0.1×0.01mA(或0.5×0.01mA或最小电流档)。
接入待测的小功率NPN并使基极悬空,使峰值电压由0V缓慢增加,观测在被测小功率晶体管正常工作电压范围内的集电极电流值I C,此电流就是该小功率晶体管基极开路时的穿透电流I CE0。
所测得的I CE0在该小功率晶体管基射极开路时的穿透电流I CE0的标称范围内,为合格,否则为不合格。
PNP小功率晶体管的测试方法与此基本相同。
只是要按附表1各测试项目栏中测NPN晶体管的要求调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
4.4 二极管主要测试参数:二极管的V-A特性曲线二极管的正向压降V F二极管的反向电流I0二极管的反向击穿电压BV R测试方法:现将上述特性参数的测试方法分述如下。
4.4.1 测二极管的V-A特性曲线按附表1“常规测试/输出特性曲线”栏、测二极管的要求调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
正确连接相应的二极管测试夹具、插座或装置,检查连接无误后,接入待测的二极管,图示仪即显示该二极管的V-A特性曲线。
该曲线应平滑、陡峭、呈指数变化,为合格(如图4a所示)。
否则为不合格(如图4b所示)。
图 44.4.2 测二极管的正向电压降V F对应于特性曲线上标称工作电流值的垂直直线与X轴的交点所对应的电压坐标值,即是在该电流下二极管的正向电压降V F。
所测得的二极管的正向电压降,在该二极管的标称值范围内为合格,否则为不合格。
4.4.3 测二极管的反向电流I0按附表1“击穿电压测试”栏、测二极管的要求,调整晶体管特性图示仪各选择开关的档位。
接入待测的二极管,使峰值电压由0V缓慢增加,观测在被测二极管正常工作电压范围内的反向电流值I0。
所测得的反向电流I0,在该二极管的标称值范围内为合格,否则为不合格。
4.4.4 测二极管的反向击穿电压BV R紧接着反向电流的测试,使峰值电压继续缓慢增加,观测在被测二极管刚刚被击穿时的击穿点的电压值,就是该二极管的反向击穿电压BV R。
所测得的反向击穿电压BV R,在该二极管的标称值范围内为合格,否则为不合格。
4.5 可焊性检查(槽焊法)以上半导体器件的引出脚都要按下述方法进行可焊性检查。
4.5.1 锡槽温度:235±5℃;浸渍时间3±0.5S;浸入深度:与引出脚或焊盘平齐。
4.5.2 试验完毕用5倍以上的放大镜检查,浸渍部位表面应浸润覆盖一层光滑的、明亮的焊锡涂层,缺陷比率(例如针孔或出现未浸润面)不得多于5%,且这些缺陷不得集中在元件的相同部位。