太阳能电池材料电子教案(铸造多晶硅概述)
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多晶硅生产工艺多晶硅生产工艺1.概述硅是地球上含量最丰富的元素之~,约占地壳质量的25.8%,仅次于氧元素,居第二位。
硅在地球上不存在单质状态,基本上以氧化态存在于硅酸盐或二氧化硅中,其表现形态为各种各样的岩石,如花岗岩、石英岩等。
硅是一种半导体元素,元素符号为Si,位于元素周期表的第三周期第四主族,原子序数为14,原子量为28.0855。
硅材料的原子密度为5.OOx1022/cm。
,熔点为141 5℃,沸点为2355℃它在常温(300K)下是具有灰色金属光泽的固体,属脆性材料。
硅材料有多种形态,按晶体结构,可分为单晶硅、多晶硅和非晶硅。
单晶硅材料,是指硅原子在三维空间有规律周期性的不问断排列,形成一个完整的晶体材料,材料性质体现各向异性,即在不同的晶体方向各种性质都存在差异。
多晶硅材料,是指由两个以上尺寸不同的单晶硅组成的硅材料,它的材料性质体现的是各向同性。
非晶硅材料,是指硅原子在短距离内有序排列、而在长距离内无序排列的硅材料,其材料的性质显示各向同性。
通常硅晶体的晶体结构是金刚石型,有9个反映对称面、6条二次旋转轴、4条三次旋转轴和3条四次旋转轴,其全部对称要素为3L44LS6L 9PC。
如果加压到1.5GPa,硅晶体就会发生结构变化,由金刚石型结构转变为面心立方结构,此时的晶体常数为0.6636nm。
硅材料是应用最广泛的元素半导体材料,具有其他元素不具有的一些特性,在室温下它的禁带宽度为1.1 2eV,其本征载流子浓度为1.45x10 D/cm。
硅材料具有典型的半导体电学性质。
硅材料的电阻率在10~1010Ω·cm间,导电能力介于导体和绝缘体之间。
特性其导电性受杂质、光、电、磁、热、温度等环境因素的影响明显。
高纯无掺杂的无缺陷的硅晶体材料,称为本征半导体,其电阻率在10Ω·cm以上。
P-N结构性。
即N型硅材料和P型硅材料结合组成PN结,具有单向导电性等性质。
这是所有硅半导体器件的基本结构。
缺陷和杂质2023-11-09•铸造多晶硅太阳电池概述•铸造多晶硅的结构缺陷•铸造多晶硅中的杂质目录•铸造多晶硅结构缺陷和杂质的表征与检测方法•铸造多晶硅结构缺陷和杂质的控制与优化•展望与未来发展趋势01铸造多晶硅太阳电池概述铸造多晶硅太阳电池的制造工艺已经非常成熟,可以实现大规模生产。
制造工艺成熟转换效率较高制造成本较低铸造多晶硅太阳电池的转换效率较高,可以满足大部分应用需求。
铸造多晶硅太阳电池的制造成本较低,具有较好的经济性。
030201吸光层由多晶硅材料构成,能够吸收太阳光并将其转化为电能。
吸光层导电层由掺杂的多晶硅材料构成,能够将吸光层产生的电流导出并传输到外部电路中。
导电层背反射器用于将太阳光反射回吸光层,以增加光吸收效果。
背反射器导电层制备将掺杂的多晶硅材料通过热处理和加工等工艺制成导电层。
铸造多晶硅太阳电池的制造过程原材料准备制造铸造多晶硅太阳电池需要准备多晶硅材料、掺杂剂、反射器等原材料。
吸光层制备将多晶硅材料通过热处理和掺杂等工艺制成吸光层。
背反射器制备将反射器材料通过加工等工艺制成背反射器。
组装将吸光层、导电层和背反射器组装在一起,形成完整的铸造多晶硅太阳电池。
02铸造多晶硅的结构缺陷在铸造多晶硅中,晶界是常见的结构缺陷。
晶界是指不同晶粒之间的交界,通常会对材料的性能产生负面影响。
在太阳电池中,晶界会降低载流子的迁移率,导致光电转换效率下降。
晶界位错是指晶体结构中的原子排列错位。
在铸造多晶硅中,位错会破坏晶体结构的周期性,导致能带结构发生变化。
位错还会影响载流子的散射和复合,进一步降低太阳电池的性能。
位错铸造多晶硅中的晶界与位错杂质陷阱在铸造多晶硅中,杂质原子通常会聚集在晶界或位错等缺陷处。
这些杂质原子会捕获电子或空穴,形成杂质能级,从而影响载流子的迁移和复合过程。
杂质陷阱对太阳电池的光电转换效率产生负面影响。
热处理与杂质陷阱通过热处理可以部分消除杂质陷阱的影响。
在高温下,杂质原子有机会从缺陷处扩散出去,从而减少杂质陷阱的数量。
太阳能技术中的多晶硅电池太阳能技术是近年来备受关注的热门领域之一。
尤其是多晶硅电池,其相对于单晶硅电池来说,成本更低,效率更高,被广泛运用于太阳能光伏发电系统之中。
今天,我们来探究一下多晶硅电池的工作原理、制造流程以及适用范围等话题。
一、多晶硅电池的工作原理多晶硅电池与单晶硅电池的不同之处,主要在于其晶体结构。
多晶硅电池采用的是由许多小晶体组成的多晶硅太阳能电池,其制造过程较为简单,且成本相对较低,但是其转化效率略低于单晶硅电池。
多晶硅电池的工作原理和单晶硅电池类似,其基本结构包括P 型硅层和N型硅层。
当太阳光进入多晶硅电池时,光子会与硅中的电子发生相互作用,从而使电子被激发出来。
这些电子将穿过P型硅边界,向N型硅移动,并在其中留下空穴。
在电子和空穴之间形成的PN结将把电子和空穴隔开,使得电子和空穴不会再结合在一起。
这些电子和空穴即可作为电路的电能来源,产生电子流。
将电池板连接到电路后,电子流将通过电线的导体进入电路。
当太阳能光线减弱或消失时,电流将停止流动,电池板将停止放电。
二、多晶硅电池的制造流程多晶硅电池的制造过程相对于单晶硅电池较为简单,其主要流程可以分为以下几个步骤:1. 光伏硅材生长:生长出具有多层结构的硅块。
2. 切割硅块:将硅块切割成小片,这些小片将作为太阳能电池的核心组件。
3. 加工硅片:加工硅片,加工过程会给硅片表面喷涂成一层为锖色的磷化膜。
之后,还要在片表面加工出下表面阳极和上表面接触电路。
4. 烧结:将磷化膜和多晶硅片一起在高温下进行烧结,将磷酸硅用稻壳粉包埋后进入一个57千瓦的固定能量钨灯长期加热,磷酸硅和碳粉会在高温下反应,生成单质硅、氧和二氧化碳等化合物。
5. 电池制造:将多晶硅片组合起来,以形成固定的太阳能电池板。
在这个过程中,涂有镀金铜条的铜丝被固定到每个硅板的正极和负极。
6. 测量和排序:将已经制造好的多晶硅电池进行测量,排除不良品,将质量可靠的电池进行排序,组成整个太阳能电池板。
铸造多晶硅的书
引言
铸造多晶硅是一项重要的工艺,它在太阳能电池、集成电路和半导体等领域都有广泛应用。
本书将详细介绍铸造多晶硅的原理、方法和应用,帮助读者深入了解这一技术。
第一章:多晶硅概述
1.1 多晶硅的定义和特性 1.2 多晶硅在工业中的应用
第二章:铸造多晶硅的原理
2.1 多晶硅的结构特点 2.2 铸造多晶硅的基本原理 2.3 影响铸造质量的因素
第三章:铸造多晶硅的方法
3.1 传统方法:Czochralski法 3.1.1 Czochralski法工艺流程 3.1.2 Czochralski法优缺点及改进措施
3.2 新兴方法:区熔法、浮区法等 3.2.1 区熔法工艺流程及优缺点 3.2.2 浮区法工艺流程及优缺点
第四章:铸造多晶硅设备与工艺参数控制
4.1 铸造多晶硅设备概述 4.2 温度控制 4.3 压力控制 4.4 搅拌控制
第五章:铸造多晶硅的质量控制与评估
5.1 多晶硅的质量评估指标 5.2 质量控制方法和流程 5.3 质量问题分析与解决
第六章:铸造多晶硅的应用领域
6.1 太阳能电池生产中的应用 6.2 集成电路生产中的应用 6.3 半导体材料研究中的应用
结论
本书详细介绍了铸造多晶硅的原理、方法和应用,希望读者通过学习本书,能够全面了解这一技术,并在实际工作中运用自如。
太阳能电池材料电子教案铸造多晶硅制备工艺教学目标:1.理解太阳能电池的工作原理和应用;2.了解多晶硅的制备工艺;3.掌握多晶硅的铸造方法。
教学准备:1.教材:太阳能电池材料相关教材;2.多媒体设备:投影仪、电脑;3.实验设备:实验室用的电炉、石英坩埚、高温计量秤等;4.实验化学品:硅粉、碳粉、氧化铝粉、卤化铝等。
教学过程:一、导入(5分钟)通过展示太阳能电池的实物或者图片,向学生介绍太阳能电池的基本原理和应用。
二、太阳能电池材料介绍(10分钟)1.介绍太阳能电池的基本原理:太阳能电池是一种将太阳光转变为电能的装置,其工作原理是通过太阳能光子的能量使半导体中的电子跃迁,从而产生电流。
2.介绍太阳能电池材料:目前使用最广泛的太阳能电池材料是多晶硅。
多晶硅具有优异的光电转换效率和稳定性,是太阳能电池的理想材料。
三、多晶硅制备工艺介绍(15分钟)1.介绍多晶硅制备的主要方法:目前多晶硅的主要制备方法是铸造法。
铸造法是将硅粉与其他添加剂混合,在高温下熔炼并冷却,使其凝固成块,再进行压碎和烧结等工艺,最终得到多晶硅块料。
2.介绍多晶硅铸造的工艺过程:铸造法包括熔炼、凝固和固化等过程。
学生可以通过实验室模拟实验的方式,了解多晶硅的铸造工艺。
四、多晶硅铸造实验演示(30分钟)1.展示实验所需实验设备和化学品,并说明注意事项和操作步骤。
2.进行实验演示,包括熔炼、凝固和固化等过程。
3.解释实验过程中发生的化学反应和物理变化,并与制备多晶硅的工艺过程进行对比。
4.学生可以通过观察实验现象和参与实验操作,加深对多晶硅铸造工艺的理解。
五、讨论和总结(10分钟)1.学生就实验中观察到的现象和实验过程进行讨论,加深对多晶硅铸造工艺的理解。
2.进行小结,总结太阳能电池材料太阳能电池材料多晶硅铸造工艺的基本知识和实验过程。
六、作业布置(5分钟)布置相关的学习任务,如阅读太阳能电池材料相关教材,并完成相关的练习题。
以上内容可以根据实际教学需要进行调整和补充。