真空镀膜过程中常见问题分析

ITO镀膜常见问题总汇现在的企业中，工业化的ITO镀膜生产，多是运用真空磁控溅射技术来完成的。

真空镀膜技术无论从时间上，还是从生产运用上说，都还是一种新型的镀膜工艺。

在我们ITO镀膜生产过程中，或多或少都会遇到各种各样的，人为的或者设备方面的问题。

而且很多问题往往不是单一的，而是几个问题相互作用相互影响形成的。

下面就根据以前ITO生产工作中的经历，总结出的一些ITO镀膜可能会遇到的问题。

一、镀膜过程中设备传输速度不平稳在这种情况下，会导致镀在基片上的ITO膜，厚度不均匀，用四探针进行测量时，会发现同时镀出来的基片，膜面各点方块电阻不一致，从而导致生产出来的镀膜产品，工艺达不到相应的要求。

这种情况，可以通过改进设备，或者通过调节传动中提供动力的伺服电机的转速，来逐渐的改变膜的均匀。

二、膜面放电镀膜在真空室里放电现象在实际的生产中会时常遇到的现象主要原因如下1、基片距离靶材过于接近。

靶材和基片距离大于15cm基本就没有问题。

2、靶面、真空室、基片不清洁，具有尖端放电现象。

这需要在每次的生产前和生产结束后，分别对箱体、靶材进行彻底的清理，并且在每次生产的时候，基片进镀膜室前必须保证清洗干净。

3、反应气体过多，溅射气体较少，使得箱体内化学反应过于强烈而溅射达不到要求。

由于现在用于ITO生产的靶材都是陶瓷靶，其中氧化铟锡中的比例已达到要求，在具体的生产中，可以根据工艺情况，少通或者不通反应气体氧气，只对溅射的箱体提供溅射气体氩气。

三、ITO靶材中毒1、靶材在空气中长期放置，导致表面生成氧化物。

2、冷却水失效，导致靶材温度过高。

这种情况下问题严重的可能导致熔靶，使靶材从基板脱落。

定期对冷却水道进行清理疏通。

3、箱体密封不严，有漏气现象，导致有杂质气体，另外箱体的气流也不平稳，所镀膜的工艺个达不到要求。

每次抽气后都要进行严格的检漏，保证箱体密封完好。

4、处置不当。

刚刚工作过的靶，在没有充分冷却就放气，也可能导致靶中毒。

浅谈真空镀膜生产中常见问题及解决方法作者：陈龙来源：《科学与财富》2019年第19期摘要：从上个世纪三十年代，真空镀膜技术产生，该项技术由于优势极高，性能良好，因此受到了各个领域的广泛应用。

当前，可以从使用功能方面对其进行划分，分为功能性镀膜和装饰性镀膜两个方面，其中，装饰性镀膜主要是采取塑料制品，真空蒸发镀膜则是应用各种泵体对镀膜真空室进行抽取，转换成高真空状态，镀膜材料从以往的固态转变为离子状态，离子状态的膜材和塑料基材结合形成膜层。

而为了避免金属膜层出现严重的腐蚀现象，对于相关膜层来讲，必须做好保护膜的处理工作。

在当前阶段中，我国的灯具塑料零部件表面镀膜通常是使用真空蒸发镀膜的方式，不过，需要明确注意，控制好设备的使用状态，因为一不小心的话，就会使得膜层表面受损，发生质量问题。

基于此，本文主要以真空镀膜生产期间存在的问题为主，提出了一系列的解决对策。

关键词：真空镀膜；生产环节；存在的问题；解决方式在现有的汽车和灯具领域内，塑料基材表面一般是应用镀膜工艺，从实际情况来看，该项工艺有着极高的作用，既可以增强材料的使用性能，与此同时，还可以确保产品外表的美观性。

其中，经常使用的处理工艺包含了多个方面，分别是真空离子镀镀膜工艺、电镀工艺以及真空热蒸发等。

本文从真空蒸发镀膜工艺入手，有效探究了真空镀膜日常生产期间的不足之处，根据实际情况制定了有关的解决方式。

1、镀膜存在着发黄现象1.1存在的问题在镀膜时发生发黄现象之后，大体上表现为两点，分别是产品表面受热程度比较高，真空室内真空度比较低。

通过探究得出，产生这一现象的实质性原因表现在以下几个方面：①产品接受热量比较高，表面呈现出了发黄现象；引发这一情况的原因是因为镀膜蒸发时电流升高，使得热量下降比较明显。

设置出来的镀保护膜功率比较大，热量上涨较快，而且过程时间设定值比较长，热量随之增加。

②镀膜机真空室真空度比较低，产品表面逐渐发黄；其一，镀膜开始真空度参数值不高。

镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚（波长）Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率（由于膜的蒸发改变了其重量，所以其震动频率发生变化）来计算膜厚，而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度，探头的位置和测试膜厚的关系如小：(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当，太松会接触不良，太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件：真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。

真空镀膜膜层脱落原因真空镀膜技术是一种常用的表面处理技术，它可以将金属、陶瓷、玻璃等材料在真空条件下镀上一层薄膜，从而改变其表面性质、增强其耐腐蚀性和耐磨性等。

然而，在使用过程中，有时会发现膜层出现脱落现象，这不仅会降低膜层的使用寿命，还会影响产品的质量和性能。

本文将探讨真空镀膜膜层脱落的原因。

一、基材表面处理不当在真空镀膜过程中，基材表面的处理对膜层的附着力至关重要。

如果基材表面存在油污、灰尘、氧化皮等污染物，将会影响膜层的附着力，导致脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须对基材表面进行彻底的清洗和处理，确保表面干净、平整、无污染。

二、真空度不足真空度是影响真空镀膜质量的重要因素之一。

在真空镀膜过程中，如果真空度不足，将会导致膜层中含有气体和水分，从而影响膜层的附着力和质量。

此外，真空度不足还会导致膜层中产生气泡和裂纹，加速膜层的脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须保证真空度达到一定的要求，以确保膜层的附着力和质量。

三、材料选择不当真空镀膜的材料种类繁多，不同的材料具有不同的物理和化学性质，对应的膜层也会有所差异。

如果选择不当的材料进行镀膜，将会导致膜层与基材之间的结合力不足，从而容易脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和使用环境选择合适的材料进行镀膜，以确保膜层的附着力和质量。

四、工艺参数不当真空镀膜是一项复杂的工艺，其中涉及到多个工艺参数，如沉积速率、沉积温度、离子束能量等。

如果这些参数设置不当，将会影响膜层的附着力和质量，甚至导致膜层脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和材料的特性，合理设置工艺参数，以确保膜层的附着力和质量。

五、外力作用在使用过程中，膜层可能会受到外力的作用，如撞击、摩擦、拉伸等。

如果外力作用过大，将会导致膜层的破坏和脱落。

因此，在使用过程中，必须注意保护膜层，避免外力的作用。

综上所述，真空镀膜膜层脱落的原因是多方面的，需要从基材表面处理、真空度、材料选择、工艺参数和外力作用等方面加以注意和控制。