TiN粉体的氧化行为
陈珊璐;郭伟明;黄楚云;林华泰
【摘 要】本文研究了T iN粉体在空气气氛下的氧化行为.物相分析结果表明,T iN粉体在600℃时已开始发生显著氧化,氧化5h时产物中T iO2含量高达58.3w t％;在800℃氧化0.5h时,T iN粉体已完全氧化为TiO2.基于X射线衍射(XRD)图谱结合参比强度法,进行了等温氧化动力学分析研究.氧化动力学分析表明,在600℃时,TiN粉体氧化在0～2h和2～5h两个阶段内均遵从线性动力学规律,受化学反应控制,但在后期氧化速率显著降低.显微结构观察表明,随着氧化的进行,由于自身的体积膨胀,完整的T iN颗粒逐渐形成裂纹,然后开裂,并最终破碎为T iO2小颗粒.
【期刊名称】《材料科学与工程学报》
【年(卷),期】2018(036)004
【总页数】4页(P631-634)
【关键词】TiN粉体;氧化;TiO2;动力学;显微结构
【作 者】陈珊璐;郭伟明;黄楚云;林华泰
【作者单位】广东工业大学机电工程学院 ,广东广州 510006;广东工业大学机电工程学院 ,广东广州 510006;广东工业大学机电工程学院 ,广东广州 510006;广东工业大学机电工程学院 ,广东广州 510006
【正文语种】中 文
【中图分类】TQ174.75
1 引 言
TiN具有高熔点、高硬度、高化学稳定性、耐磨损以及优良导电性等[1]，作为第二相可以较好地改善Si3N4陶瓷的力学性能和导电性能[2-4]。Si3N4陶瓷具有优异的高温抗氧化性能，在1000℃以下基本不发生氧化[5]，然而TiN抗氧化性能较差，在1000℃以下已发生显著氧化[6-7]。因此，TiN作为第二相，恶化了Si3N4基陶瓷的抗氧化性能。例如， Feldhoff等人[8]研究了Si3N4-TiN复相陶瓷在600～1100℃之间的氧化行为，发现第二相TiN在650℃开始发生氧化，生成TiO2：
- 1 - 锡酸钠制备
锡酸钠（Tinsodium）是一种重要的无机化工原料，也是现代工业生产中常用的金属钠盐。在造纸、染料、油漆、精细化工、陶瓷、电子工业等行业中都发挥着重要作用。本文将介绍锡酸钠的制备方法。
1、锡酸钠以锡锭为原料，经过熔铝钠合成，采用烧成法可以生成锡酸钠。这种方法需要使用熔铝钠，如聚乙烯醇或碳酸钠，其中熔铝钠与锡锭比例通常以重量5：1、6：1 为佳。将熔铝钠与锡锭混合均匀，然后在温度达到1000~1100℃高温条件下烧取1~2小时即可。
2、另一种制备锡酸钠的方法就是使用氢氧化钠溶液溶解锡粉，然后用铝粉过滤出来，最后将溶液过滤出来，再将溶液放入电解槽中进行电解，即可得到锡酸钠。电解的最终产物主要有氢氧化钠和锡酸钠，其中由于氢氧化钠分子量较小，质量较轻，所以容易在电解过程中迅速沉淀，而锡酸钠的分子量比较大，质量较重，所以会滞留在溶液中，当电解电压逐渐升高，最终就可以在溶液中析出锡酸钠。
3、最后，锡酸钠析出之后，应采用过滤或沉淀法等，将其从溶液中分离出来，之后用洗涤液将其洗涤干净，然后分解到细小颗粒，最后用干燥器烘干，即可得到锡酸钠的终产品。
以上就是锡酸钠制备的大致方法，它是通过锡锭熔铝钠合成、氢氧化钠溶液溶解锡粉以及氢氧化钠结晶得到的。锡酸钠准备不仅要求原料的配比准确，还要注重操作步骤，比如温度控制、时间控制、过滤洗涤等，以确保产品质量。此外，应充分考虑各种反应条件，例如反应温度、反应物量、掺杂量等，这些都可能影响产品质量。 - 2 - 锡酸钠制备的过程受多种影响因素的影响，因此在实际生产过程中要掌握一些技巧，熟练操作，确保生产安全，保证产品质量。
第ｌ０卷第３期 １９９Ｂ年９月 高校化学工程学掇 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎ ｇ【ｎｅｅｒｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｉｎ￣Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｉｅｓ Ｎｏ．３ Ｖｏ１．１ ０ Ｓｅｏｔ． １９９６
短）过硫酸钠合成过程的适宜操作温度－ ／ ／．／２
张志炳－ 周明生 ／ 国琮ｓ
（ 南京大学化工系丽２１ ００９３一ｔ工部第一设计院，天津３００４００
天津大学化学Ｉ程研究所，天津３０００７２）
△摘要建立了过硫酸钠合成过程的数学模型，运用数学手段求取了该过程系统变量随时向的
变化曲线以及操作温度对它们的影响情况。通过对脱氨速率、脱水速率、副反应速率和过程经济 收益等参数受温度影响的练台分析，确定了该合成过程的适宜操作温度范围为５５～６０℃。 关键词 竺苎苎墨 些 堪核
ｌ前 言
以过硫酸铵（Ａｍｍｏｎｉｕｍ ｐｅｒｏｘｙｄｉｓｕｌｐｈａｔｅ）和氢氧化钠为主要原料直接合成过硫酸钠 （Ｓｏｄｉｕｍ ｐｅｒｏｘｙｄｉｓｕｌｐｈａｔｅ）是目前世界范围内公认的一种较有效的方法Ⅲ［ 。其化学反应式如
下：
２ＮａＯＨ＋（ＮＨ｛）２Ｓ２Ｏａ—Ｎａ２Ｓ２Ｏｓ＋２ＮＨ３＋２Ｈ２Ｏ （１） 由于反应式（１）在形成目标产物Ｎａ Ｓ Ｏ 的同时，亦产生了大量的ＮＨ。（ＮＨ ），它在反应
体系中将导致下列副反应： （ ）碱·陛环境 Ｊ
０Ｈ一 ２ＮＨ３＋３Ｓ！ｏｉ一一６Ｓｏ；一＋６Ｈ ＋Ｎ２ （２）
（６）酸性环境 一 ：
Ｈ ＮＨ ＋４Ｓ２ｏ：一＋３Ｈ２Ｏ—Ｎｏ ＋８ｓｏ 一＋１０Ｈ （３）
鉴于此．及时有效地将氨从反应液中分离出来并回收是过硫酸钠合成过程所需要解决
的关键问题之一。此外．由于台成时液体性原料（水溶液）带入体系大量的水，以及反应式（１）
亦生成了一定的水，而使得反应液处在严重的不饱和状态。如此．不仅增加了后续工序结晶
操作的负荷和难度，而且亦加大了母液的循环量，故脱水、浓缩操作即成为该过程的另一个 重要课题。本研究拟采用真空蒸发方法以同时实现脱氮和脱水的目的。
第１２卷第４期２００４年８月光学精密工程
ｏｐｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＶ０１．１２Ｎｏ．４Ａｕｇ．２００４
文章编号１００４—９２４Ｘ（２００４）０４一０１２３一０３
温度对ＴＣ４离子氮化组织和性能的影响
张云琨，王树臣，郭劲
（中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春１３００３３）
摘要：对ＴＣ４进行以氨气为气源的离子氮化，氮化温度７００℃，７５０℃，８５０℃，９００℃，保温时间４小时。通过金相检验、显微硬度测定、Ｘ射线衍射结构分析，研究了离子氮化温度等参数对渗层深度、硬度和结构的影响规律。关键词：离子氮化；温度；氨气中图分类号：Ｖ２５２文献标识码：Ａ
Ｅｆｆｅｃｔｏｆｉｏｎｉｔｒｉｄｉｎｇｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｏｎｓｔｒｕｃｔｕｒｅ
ａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＴＣ４ａ¨ｏｙ
ＺＨＡＮＧＹｕｎ—ｋｕｎ，ＷＡＮＧＳｈｕ—ｃｈｅｎ，ＧＵＯＪｉｎ
（Ｃ＾口咒ｇｃ＾甜咒工，ｚ５￡ｉ￡“￡８ｏ，Ｉ：功￡ｆｃｓ，Ｆｉ咒ＰＭ已ｆ＾口扎｛ｃ５口雄ｄＰ矗３，ｓｉｃｓ，Ｃ＾主咒ｅｓｇＡｃ口ｄ已ｍｙｏ厂ＳｃｉＰ扎ｃＰｓ，Ｃ＾口咒ｇｃ＾甜九１３００３３，Ｃ流ｉ，ｚ口）
Ａｂｓｔｒ舵ｔ：ＴＣ４ａｌｌｏｙｉｓｉｏｎｉｔｒｉｄｅｄｗｉｔｈａｍｍｏｎｉａａｓｇａｓｓｏｕｒｃｅａｔｔｈｅｔｅｍｐｔｒａｔｕｒｅｏｆ７００℃，７５０℃，８５０℃ａｎｄ９００℃ｒｅｓｐｅｃｔｉｖｅｌｙｆｏｒ４ｈｏｕｒｓ．Ｂｙｍｉｃｒｏｓｃｏｐｉｃｅｘａｍｉｎａｔｉｏｎ，ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎａｎｄｘ．．
ｒａｙｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎｐｈａｓｅｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎａＩｙｓｉｓ，ｔｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆｔｈｅｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｏｎｔｈｅｄｅｐｔｈ，ｈａｒｄｎｅｓｓａｎｄｓｔｒｕｃ—
ｔｕｒｅｏｆｔｈｅｉｏｎｉｔｒｉｄｉｎｇｌａｙｅｒｉｓｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ．
Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｉｏｎｉｔｒｉｄｉｎｇ；ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ａｍｍｏｎｉａ
