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深圳成霖實業有限公司PVD真空離子鍍膜技術及原理撰稿人:張勝利一.概述PVD即為英語Physical Vapor Deposition的縮寫,即用物理氣相沉積法制得的膜層,所謂物理氣相沉積是利用各種物理方法(如熱蒸發或輝光放電.弧光放電等物理過程).將鍍料氣化成原子.分子或離化為離子,在各種材料或制品表面沉積單層或多層薄膜.從而使材料或制品獲得所需的各種优異性能.它包括真空蒸鍍.真空離子鍍和濺射鍍膜.與其它鍍膜或表面處理方法相比,物理氣相沉積具有鍍層材料廣泛.可鍍各種金屬.合金.氧化物.氮化物.碳化物等化合物鍍層,也能鍍制金屬.化合物的多層或复合層.鍍層附著力強.工藝溫度低.工件一般無受熱變形或材料變質的問題.鍍層純度高.組織致密.工藝過程易於控制.調節.對環境無污染.存有設備較复雜.一次投資較大等缺陷,但由於以上特點.物理氣相沉積技術具有廣闊的發展前景.二.真空離子鍍膜1.概念:真空放電原理:在真空條條下,於兩電極間加上電壓(數KV),氣體便發生電離.如氬氣電離為帶正電荷的氬離子(Ar+)及帶負電荷的電子,並以加速分別奔向陰極和陽極.由於Ar+撞擊陰極(加工物)表面,我們稱之「陰極濺射」.這種氣體放電的物理現象正是離子鍍膜原理的基礎.實現離子鍍有兩個必要的條件: (1)造成一個氣體放電的空間;如圖1所示,在真空條件下.,在陰極靶和工件之間加上一定的電壓後.(該電壓由轟偏電源C提供.工件上加負電).二者之間便形成等離子場.當連接在大功率弧焊機的回路上的陰極靶和引弧電極通斷的瞬間,產生很大的短路電流,使該突起溫升加高,當達到金屬靶材的氣化溫度時.靶材金屬便被蒸發成金屬原子.當金屬原子進入等離子場時受到電子撞擊而電離為金屬離子,在電場和磁場的共同作用下,金屬離子便以較高的能量入射到待鍍工件表面,金屬正離子在達到工件表面的過程中與離化的反應氣體化合形成不同色澤的化合物與金屬原子一起沉積到待鍍工件表面而形成膜層.3.常用鍍膜術語(1)真空:容器內介質氣體壓力低於大氣壓力(101325Pa)的氣體狀態.(2)真空度:用來表示真空狀態下氣體的稀薄程度.通常用壓力表示(3)多弧離子鍍:是把真空弧光放電用於蒸發源的鍍膜技術.鍍膜時陰極靶材表面出現許多非常小的弧光輝點,且蒸發源數目大於一.(4)薄膜:按照一定的需要,利用特殊的制備技術,在基體表面形成厚度為亞微米至微米級的膜層,幾乎所有固體材料都能制成薄膜材料.由於極其薄,因而需要基底支承,薄膜在基底上生長.彼此有相互作用,薄膜的一面附著在基底上,並受到約束又會產生內應力.(5)靶:鍍膜的原材料.(6)蒸發源:鍍膜機離化材料的部件.4.真空的特點和應用(1).排除了空氣的不良影響,可防止金屬氧化。
VD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。
真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。
溅射镀膜基本原理：充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。
这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。
离子镀的作用过程如下：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。
由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。
带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。
随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。
带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
不同的不锈钢表面处理工艺，能够让同样的材质凸显不同的视觉效果及手感特征。
从设计的角度出发，需要了解下面这7种不锈钢的表面处理工艺。
1. PVD工艺PVD(Physical Vapor Deposition)---物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。
它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。
PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
iPhone X不锈钢加PVD工艺的顺利量产，标志着不锈钢加塑胶中框PVD技术方案已经成熟，为手机厂商表面处理方案多增加一项选择。
2. 喷砂(喷丸)处理喷砂是采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料(铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海砂)高速喷射到需处理工件表面，使工件表面的外表或形状发生变化。
喷砂在工程与表面工艺方面都有很强的应用，如：提高粘接件粘度、去污、优化机加工后的表面毛刺、表面哑光处理。
喷砂工艺比手工打磨要均匀而高效，这种方法的不锈钢处理，打造出产品的低调、耐用的特征。
下面举几个例子直观看看喷砂工艺的效果：3. 化学处理化学处理是采用化学或电化学处理使不锈钢表面生成一层稳定化合物方法的统称。
像我们常说的电镀便是用电化学处理的。
单独或混合使用酸溶液、阳极溶解(电解)等进行除锈，使用磷酸盐处理、铬酸盐处理、发黑、阳极氧化等使金属表面生成一层保护膜，均属于此种方法。
这种方法能够达到复杂的花纹效果，打造复古或是现代的设计需求。
4. 镜面处理不锈钢的镜面处理，简单来讲就是对不锈钢表面进行抛光，抛光手法分为物理抛光和化学抛光。
也可以在不锈钢表面进行局部抛光，抛光的等级分为普通抛光，普通6K，精磨8K，超强精磨10K效果。
镜面给人以高档简约，时尚未来的感觉。
5. 表面着色不锈钢着色不仅赋予不锈钢制品各种颜色，增加产品的花色品种，而且提高产品耐磨性和耐腐蚀性。
pvd离子镀PVD离子镀引言：PVD离子镀（Physical Vapor Deposition）是一种常用的表面处理技术，通过在材料表面沉积薄膜来改善其性能。
本文将介绍PVD 离子镀的原理、应用领域以及一些相关的发展趋势。
一、PVD离子镀的原理PVD离子镀是利用物理方法将金属、合金或陶瓷等材料的原子或分子沉积在基材表面，形成一层薄膜。
其主要原理包括蒸发、溅射和离子镀三个过程。
1. 蒸发：通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其原子或分子脱离表面并进入气相状态。
2. 溅射：通过离子轰击的方式，使材料离子从材料表面剥离，并在真空中扩散，最终沉积在基材表面。
3. 离子镀：通过施加电场，将离子加速并定向沉积在基材表面，形成一层致密、均匀的薄膜。
二、PVD离子镀的应用领域PVD离子镀技术广泛应用于各个领域，主要包括以下几个方面：1. 电子行业：PVD离子镀可以制备金属、氧化物或硅等材料的导电薄膜，用于电子元器件、集成电路和显示屏等的制造。
2. 光学领域：通过PVD离子镀，可以制备具有特定光学性质的薄膜，如反射镜、透镜、滤光片等，广泛应用于光学仪器和光电子设备中。
3. 机械工业：利用PVD离子镀技术可以在刀具、模具等工具表面形成耐磨、耐蚀的涂层，提高其使用寿命和耐用性。
4. 汽车工业：PVD离子镀被广泛应用于汽车外观件的镀膜，如车身镀铬、车灯镀膜等，提高汽车的装饰性和耐候性。
5. 医疗领域：PVD离子镀可以制备生物相容性材料的表面涂层，用于人工关节、牙科种植等医疗器械，提高其生物相容性和耐腐蚀性。
三、PVD离子镀的发展趋势随着科学技术的不断进步，PVD离子镀技术也在不断发展和创新。
以下是一些PVD离子镀技术的发展趋势：1. 高效率：研究人员不断改进蒸发源和离子源的设计，提高蒸发和离子镀的效率，减少能源消耗和材料浪费。
2. 多功能性：将不同材料的离子镀技术结合起来，可以实现多层复合薄膜的制备，拓展PVD离子镀的应用领域。
PVD简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD 技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，在真空的条件下，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。
它的作用是可以是某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能！基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀溅射、离子镀。
）最初运用于高速钢刀具涂层，现在发展到硬质合金，陶瓷刀具的涂层运用，与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下的低温时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层。
尽管目前国内刀具涂层技术与国际先进水平相比存在较大差距, 普通的TiAlN 涂层技术也还不成熟, 但巨大的应用市场及国家对创新、绿色制造技术日益迫切的要求, 已经推动了国内刀具涂层技术的创新发展。
刀具涂层技术在国内掀起了第二次开发热潮, 纳米超硬膜技术已成为涂层领域研究开发的热点。
薄膜的生长工艺受如下几组相互依赖的因素影响: ( 1) 蒸汽源参数, ( 2) 等离子及迁移参数, ( 3)粒子动能( 冲击) 参数, ( 4) 基体参数。
这些参数分为宏观参数( 如蒸汽源功率、反应室总气压、靶源与基体间的距离等)和微观参数( 如在基体表面的离子和中性粒子流通量、能量)在国际上,除制备涂层外,EB-PVD （电子束物理气相沉）技术在新型复合材料制备、零件修复、难加工材料的净成形等制造领域也具有巨大的发展前景。
随着EB-PVD 技术的发展,尤其是离子束辅助EB-PVD 技术的出现,给其他各种涂层的制备带来了广阔的发展空间。
将EB-PVD 技术应用到微电子、光学等行业。
在航空方面相对于传统的，利用EB-PVD 制备热障涂层,是实现高推比发动机的一。
PVD法在多组分薄膜研制上取得重大进展, 象TiN/VN 和TiN/NbN 等氮化物的纳米尺度超晶格薄膜在强度和硬度等方面与立方氮化硼(已知第二最硬材料) 相当, 许多过渡金属多组分多层体系或梯度材料,如钛基材料TiAl-N.TiHf-N、TiZr-N 等和铬基材料CrAl-N 等多组分超硬薄膜是很好的刀具薄膜候选材料.1.国内PVD技术应用与研究现状.2007年第41卷I6 33 四川大学梁红樱，赵海波2.EB_PVD及其制备功能涂层的研究进展 2007 年增刊 1 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所滕敏,孙跃3.低温PVD 法制备多组分超硬薄膜研究 2003 第21卷第一期清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室彭志坚, 齐龙浩4.对我国刀具涂层技术现状及发展趋势的认识 2009年第9期技术平台科技经济市场包头铝业有限公司，内蒙古包头赵晓燕5.PVD溅射技术在MEMS器件制作中的应用 2006年十月第19卷第五期传感技术学报国防科技大学机电工程与自动化学院王雄吴学忠。
PVD离子镀膜一、什么是PVD离子镀膜？1.1 PVD的定义物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一种常用的薄膜制备技术，通过将固体材料蒸发或溅射成蒸汽或离子，然后沉积在基底表面上形成薄膜。
1.2 离子镀膜的概念离子镀膜是PVD技术的一种应用，它利用离子束轰击基底表面，使蒸发或溅射的材料以离子形式沉积在基底上，从而形成一层均匀、致密、具有优异性能的薄膜。
二、PVD离子镀膜的工艺过程2.1 蒸发法蒸发法是PVD离子镀膜的一种常用工艺，它通过将固体材料加热至蒸发温度，使其转变为蒸汽，然后沉积在基底表面上。
蒸发法可以分为热蒸发和电子束蒸发两种方式。
2.1.1 热蒸发热蒸发是利用电阻加热或电子束加热的方法将固体材料加热至蒸发温度，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽经过减压系统传输到基底表面，并在表面形成薄膜。
2.1.2 电子束蒸发电子束蒸发是利用电子束轰击固体材料，将其加热至蒸发温度，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽经过减压系统传输到基底表面，并在表面形成薄膜。
电子束蒸发具有高能量密度、高蒸发速率等优点。
2.2 溅射法溅射法是PVD离子镀膜的另一种常用工艺，它通过将固体材料置于溅射靶材的位置，然后利用离子束轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子，最后沉积在基底表面上。
2.2.1 直流溅射直流溅射是利用直流电源，通过离子轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子。
直流溅射具有操作简单、成本低等优点，但膜层质量较低。
2.2.2 射频溅射射频溅射是利用射频电源，通过离子轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子。
射频溅射具有溅射效率高、膜层质量好等优点，但设备成本较高。
三、PVD离子镀膜的应用领域3.1 光学领域PVD离子镀膜在光学领域有广泛的应用，如镀膜玻璃、反射镜、透镜等。
离子镀膜可以提高光学元件的透过率、反射率和耐磨性，提高光学元件的性能。
3.2 电子领域PVD离子镀膜在电子领域的应用也非常广泛，如集成电路、显示器、光伏电池等。
pvd离子镀膜原理PVD离子镀膜原理离子镀膜技术是一种常用的表面处理方法，广泛应用于电子、光学、航空航天等领域。
其中，PVD (Physical Vapor Deposition) 离子镀膜技术是一种通过物理方法将固态材料转化为离子态并沉积到基材表面的技术。
本文将详细介绍PVD离子镀膜的原理及其应用。
一、PVD离子镀膜原理PVD离子镀膜技术是通过将材料加热至高温，使其处于气体、液体或固态的离子态，并利用真空条件下的物理过程将离子沉积到基材表面，形成一层薄膜。
主要包括蒸发、溅射和离子镀三种主要工艺。
1. 蒸发法蒸发法是通过加热材料使其升华，然后蒸发在基材上。
在真空情况下，将固态材料加热至其熔点以上，使其升华为气体。
升华后的气体通过控制温度和压力，使其在基材表面沉积，形成薄膜。
2. 溅射法溅射法是利用高能粒子轰击材料表面，使材料从固态转变为气态，然后沉积在基材表面。
在溅射过程中，通过在真空室中加入一定气体压力，利用离子轰击和反应气体，可以得到所需的薄膜。
3. 离子镀法离子镀法是通过电场将离子加速，然后撞击基材表面，将离子沉积在基材上。
在真空室中加入一定的气体，使其电离成离子，然后通过电场加速离子，并控制其在基材表面的沉积。
二、PVD离子镀膜的应用1. 电子行业PVD离子镀膜技术在电子行业中广泛应用于集成电路、显示屏、光学薄膜等领域。
通过在基材表面沉积金属薄膜或氧化物薄膜，可以提高电子元器件的导电性、抗氧化性和光学性能。
2. 光学行业PVD离子镀膜技术在光学行业中用于制备反射镜、透镜、光学滤波器等光学元件。
通过在基材表面沉积特定的金属薄膜或多层膜，可以改善光学元件的反射率、透过率和抗反射性能。
3. 航空航天行业PVD离子镀膜技术在航空航天行业中常用于制备航空发动机叶片、航天器表面保护层等。
通过在基材表面沉积陶瓷薄膜或合金薄膜，可以提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和高温性能。
4. 医疗行业PVD离子镀膜技术在医疗行业中应用广泛，常用于制备人工关节、牙科种植体等。
PVD真空镀膜简介PVD（Physical Vapor Deposition）真空镀膜是一种常用的表面涂层技术，通过在真空环境中将固体材料转变成蒸汽或离子态，将其沉积在基材表面上进行涂层。
PVD镀膜技术具有高附着力、优异的质量性能、较长的使用寿命等优点，被广泛应用于自动化设备、汽车、电子器件、建筑装饰等领域。
工艺过程PVD真空镀膜的工艺过程包括蒸发、溅射、离子镀等步骤。
1.蒸发：在真空腔室中加热固体材料，使其转变成蒸汽状态。
蒸发材料通常为金属或合金，如铝、铜、钛等。
这些金属材料通常具有较高的沉积速率和较好的光学性能。
2.溅射：通过电弧或磁控溅射等方法将固体材料的离子或原子从靶材表面释放，进而沉积到基材表面上。
溅射技术可以实现材料的复杂合金结构涂层，具有较高的镀膜均匀性和较好的附着力。
3.离子镀：利用离子源将离子束引导到基材表面，在表面形成均匀的离子沉积层。
离子镀技术可用于增强涂层材料的致密性和硬度，提高涂层的耐磨性和抗腐蚀性能。
应用领域PVD真空镀膜技术在多个行业和领域得到广泛应用。
以下是一些常见的应用领域：汽车PVD镀膜广泛应用于汽车行业，主要用于改善汽车外观和提高其耐腐蚀性能。
常见的应用包括车轮、车门把手、排气管等，通过PVD镀膜技术使其表面具有金属光泽、抗刮擦和抗腐蚀等特性。
建筑装饰PVD镀膜技术在建筑装饰领域被广泛应用于不锈钢表面处理，使其呈现出不同颜色和纹理，提高装饰效果和耐腐蚀性能。
常见的应用包括不锈钢门、窗户、护栏等。
电子器件PVD镀膜技术在电子器件领域被广泛应用于制作涂层薄膜和改善器件性能。
常见的应用包括显示屏保护膜、光学镜片、太阳能电池板等。
其他PVD镀膜技术还可应用于其他领域，如机械零件、医疗设备、航空航天等。
通过PVD镀膜技术改善材料的表面性能，提高其耐磨性、耐高温性、抗腐蚀性等。
优势和挑战PVD真空镀膜技术具有以下优势：1.高附着力：PVD涂层与基材表面结合紧密，具有较高的附着力，不易剥落或脱落。
离子镀的类型说起离子镀，大家可能觉得这是啥高大上的技术，听起来好像特别复杂，其实也不全是这样。
你要是细心一看，会发现它其实就像给物品穿上了一层“隐形盔甲”，既可以保护它不被腐蚀，又能让它看起来更亮堂。
离子镀其实是一种表面处理技术，通过把金属离子或者其他物质加速到基材的表面，然后形成一层薄薄的膜。
听着有点抽象对吧？没关系，咱们接着往下说，说不定你就能一秒钟明白。
一、物理气相沉积（PVD）你要说离子镀，PVD可是离子镀家族中的“长辈”。
它的名字听起来高大上，其实就是通过物理方法让金属蒸发，蒸发出来的金属原子通过电场加速，再沉积到物体表面。
就像是从天而降的“金属雨”，洒在物体表面，形成一层薄薄的膜。
它的工作原理简单来说，就是让金属变得更薄、更强，像给表面加了一层外套一样，这层外套不仅能让物品更耐磨，还能增添一点美观。
比如，你在手机壳上看到的那些闪亮亮的金属涂层，往往就是PVD的功劳。
它的优势在于，既能让表面更加坚硬，又能让物品的外观更加亮眼。
要说缺点嘛，嗯，PVD虽然好，但它对环境的要求有点高，设备价格也比较贵，工艺控制起来也不容易，很多人都只能仰望。
二、化学气相沉积（CVD）说到离子镀，CVD也是不得不提的一种方式。
CVD的原理有点像是蒸锅炖汤的过程，先把气态的化学物质引入反应室，在高温的环境下让它们分解，分解后的产物再沉积在基材表面。
说白了，就是给物品涂上一层“化学外衣”，这层外衣可不一般，它不仅能提高物品的硬度和耐腐蚀性，还能让物品表面变得更光滑。
CVD常常用在一些高科技领域，比如半导体行业、航空航天领域等等。
它最大的特点就是膜层的致密性极好，表面光洁度也高。
它对一些材料的附着力特别强，能很好地解决一些难以处理的特殊材料。
缺点嘛，得说说它的温度要求高，能量消耗大，不适合处理一些耐热性差的材料。
不过一旦搞定，效果简直是杠杠的。
三、电镀镀层（Electroplating）说到离子镀，怎么能不提到电镀呢？电镀就像给金属物品洗个“亮亮澡”，通过电流让金属离子在基材表面沉积，从而形成一层均匀的金属膜。
