真空镀膜(NCVM)项目 工程师培训教材
编写人:张玉立 核准人:张经理
日期:08年03月20日
前 言:
• 1>.真空镀膜行业兴起背景:随着欧盟RoHS 指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。 传统高污染之电镀行业已不符合环保要求, 必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有 废水、废气等污染,在环保上拥有绝对优势, 必将兴起并普及。
• 因镀膜层太薄,故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻,这就要求涂装室 洁净度极高。同时产品外观面积越大,不良率就可能就越高(目前奥科生 产车间洁净度为10000级,喷涂室、烤 箱、镀膜车间洁净度3000级)。
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镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制,镀层越厚,透光
率越差,反射率越高。
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二.真空镀膜的工艺特性:
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• 一.真空镀膜技术及设备两百年发展史(1805-2007)
•1>. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离 子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气 相生成法又可分为物理气相沉积法(physical Vapor Deposition简称PVD法)化学气相沉积法和放电聚合法等。
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• 二.真空镀膜的工艺特性:
• 2. 纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数SHI十至数百纳米
(一般≤0.2um),膜层各部位厚度极为均匀。
• 例:镀铝层厚度达0.9nm时就可导电,达到30nm时性能就和固态铝材 相同,银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度, 结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平,以达到理想 的镜面效果。
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室(DCLI)建立,用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开