第8章 温度控制系统
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温度控制系统设计目录第一章系统方案论证 (3)1.1总体方案设计 (3)1.2温度传感系统 (3)1.3温度控制系统及系统电源 (4)1.4单片机处理系统(包括数字部分)及温控箱设计 (4)1.5PID 算法原理 (5)第二章重要电路设计 (7)2.1温度采集 (7)2.2温度控制 (7)第三章软件流程 (8)3.1基本控制 (8)3.2PID 控制 (9)3.3时间最优的 PID 控制流程图 (10)第四章系统功能及使用方法 (11)4.1温度控制系统的功能 (11)4.2温度控制系统的使用方法 (11)第五章系统测试及结果分析 (11)5.1 硬件测试 (11)5.2软件调试 (12)第六章进一步讨论 (12)参考文献 (13)致谢........................................... 错误 !未定义书签。
摘要:本文介绍了以单片机为核心的温度控制器的设计,文章结合课题《温度控制系统》,从硬件和软件设计两方面做了较为详尽的阐述。
关键词:温度控制系统PID 控制单片机Abstract: This paper introduces a temperature control system that is based on the single-chip microcomputer.The hard ware compositionand software design are descried indetail combined with the projectComtrol System of Temperature.PID control Keywords: Control system of temperatureSingle-chip Microcomputer引言:温度控制是工业生产过程中经常遇到的过程控制,有些工艺过程对其温度的控制效果直接影响着产品的质量,因而设计一种较为理想的温度控制系统是非常有价值的。
温度控制工作原理
温度控制是一种常见的自动控制系统,其工作原理主要包括传感器测量、信号处理和执行器控制三个步骤。
在温度控制系统中,首先需要使用温度传感器来测量环境的温度。
这些传感器可以是热敏电阻、热电偶、热电阻等。
传感器将温度转化为电信号,并将其发送给信号处理部分。
接下来,信号处理部分将接收到的电信号进行处理和转换,以便后续的控制和操作。
这个过程通常包括放大、滤波、线性化和数字化等步骤。
信号处理的目的是将传感器测得的温度信号转换为适合后续控制器处理的信号。
最后,控制器接收到经过信号处理的温度信号,并根据预设的温度设定值和算法进行计算和决策,以确定是否需要采取控制措施。
控制器可以是PID控制器、模糊控制器或者其他类型的控制器。
根据计算结果,控制器将信号发送给执行器。
执行器负责根据控制器的指令来控制环境条件,以实现温度的调节。
执行器可以是加热器、冷却器、风扇等。
通过控制执行器的工作状态和功率,温度可以被保持在预设的设定值附近。
整个温度控制的过程是一个反馈循环,温度测量值不断地被传感器测量、信号处理和控制器计算,然后再通过执行器进行调节,以实现温度控制的精确度和稳定性。
过程控制仪表及控制系统课后习题答案(林德杰)2(总18页)--本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--lxc第一章思考题与习题1-2 图为温度控制系统,试画出系统的框图,简述其工作原理;指出被控过程、被控参数和控制参数。
解:乙炔发生器中电石与冷水相遇产生乙炔气体并释放出热量。
当电石加入时,内部温度上升,温度检测器检测温度变化与给定值比较,偏差信号送到控制器对偏差信号进行运算,将控制作用于调节阀,调节冷水的流量,使乙炔发生器中的温度到达给定值。
系统框图如下:被控过程:乙炔发生器被控参数:乙炔发生器内温度控制参数:冷水流量1-3 常用过程控制系统可分为哪几类答:过程控制系统主要分为三类:1. 反馈控制系统:反馈控制系统是根据被控参数与给定值的偏差进行控制的,最终达到或消除或减小偏差的目的,偏差值是控制的依据。
它是最常用、最基本的过程控制系统。
2.前馈控制系统:前馈控制系统是根据扰动量的大小进行控制的,扰动是控制的依据。
由于没有被控量的反馈,所以是一种开环控制系统。
由于是开环系统,无法检查控制效果,故不能单独应用。
3. 前馈-反馈控制系统:前馈控制的主要优点是能够迅速及时的克服主要扰动对被控量的影响,而前馈—反馈控制利用反馈控制克服其他扰动,能够是被控量迅速而准确地稳定在给定值上,提高控制系统的控制质量。
3-4 过程控制系统过渡过程的质量指标包括哪些内容它们的定义是什么哪些是静态指标哪些是动态质量指标答:1. 余差(静态偏差)e :余差是指系统过渡过程结束以后,被控参数新的稳定值y(∞)与给定值c 之差。
它是一个静态指标,对定值控制系统。
希望余差越小越好。
2. 衰减比n:衰减比是衡量过渡过程稳定性的一个动态质量指标,它等于振荡过程的第一个波的振幅与第二个波的振幅之比,即:n <1系统是不稳定的,是发散振荡;n=1,系统也是不稳定的,是等幅振荡;n >1,系统是稳定的,若n=4,系统为4:1的衰减振荡,是比较理想的。
目录第一章设计背景及设计意义 (2)第二章系统方案设计 (3)第三章硬件 (5)3.1 温度检测和变送器 (5)3.2 温度控制电路 (6)3.3 A/D转换电路 (7)3.4 报警电路 (8)3.5 看门狗电路 (8)3.6 显示电路 (10)3.7 电源电路 (12)第四章软件设计 (14)4.1软件实现方法 (14)4.2总体程序流程图 (15)4.3程序清单 (19)第五章设计感想 (29)第六章参考文献 (30)第七章附录 (31)7.1硬件清单 (31)7.2硬件布线图 (31)第一章设计背景及研究意义机械制造行业中,用于金属热处理的加热炉,需要消耗大量的电能,而且温度控制是纯滞后的一阶惯性环节。
现有企业多采用常规仪表加接触器的断续控制,随着科技进步和生产的发展,这类设备对温度的控制要求越来越高,除控温精度外,对温度上升速度及下降速度也提出了可控要求,显而易见常规控制难于满足这些工艺要求。
随着微电子技术及电力电子技术的发展,采用功能强、体积小、价格低的智能化温度控制装置控制加热炉已成为现实。
自动控制系统在各个领域尤其是工业领域中有着及其广泛的应用,温度控制是控制系统中最为常见的控制类型之一。
随着单片机技术的飞速发展,通过单片机对被控对象进行控制日益成为今后自动控制领域的一个重要发展方向。
在现代化的工业生产中,电流、电压、温度、压力、流量、流速和开关量都是常用的主要被控参数。
例如:在冶金工业、化工生产、电力工程、造纸行业、机械制造和食品加工等诸多领域中,人们都需要对各类加热炉、热处理炉、反应炉和锅炉中的温度进行检测和控制。
对工件的处理温度要求严格控制,计算机温度控制系统使温度控制指标得到了大幅度提高。
采用MCS-51单片机来对温度进行控制,不仅具有控制方便、组态简单和灵活性大等优点,而且可以大幅度提高被控温度的技术指标,从而能够大大提高产品的质量和数量。
因此,单片机对温度的控制问题是一个工业生产中经常会遇到的问题。
第8章温度效应与反应性控制要点第8章主要介绍了温度效应与反应性控制在化学反应中的重要性和影响因素。
本章主要内容如下:1.温度对反应速率的影响:温度是化学反应速率的重要影响因素之一、随着温度的升高,分子的平均动能增加,碰撞的频率和能量也增加,从而加快了化学反应速率。
温度升高对不同反应的影响具有一定的选择性,不同反应的速率与温度的关系可以通过 Arrhenius 方程来描述。
2.温度对化学反应平衡的影响:根据 Le Chatelier 原理,温度的变化可以改变化学反应的平衡位置。
在可逆反应中,温度的升高会导致反应向右移动,使生成物浓度增加;而温度的降低会导致反应向左移动,使反应物浓度增加。
3.温度与反应速率方程:化学反应速率方程中的温度项反映了温度对反应速率的影响。
温度对反应速率的影响可以通过气体反应速率常数的 Arrhenius 方程来描述。
该方程将反应速率常数与温度之间的关系表达为一个指数函数,其中的指数项称为活化能。
4.温度与反应热力学:温度的变化可以改变反应的热力学性质,如反应焓变、反应熵变和反应自由能变化等。
根据 Gibbs-Helmholtz 方程,反应的自由能变化与温度的关系可以表示为一个线性函数,这对于预测和优化反应过程非常重要。
5.温度与反应选择性:温度的变化还可以改变反应的选择性,即不同产物的生成比例。
通过调节温度,可以控制反应路径和产物分布,从而实现对反应性质的调控和优化。
在实际化学反应中,温度的控制和优化对于反应过程的安全性、产率和产物品质具有重要影响。
通过合理选择和控制温度,可以实现以下效应和控制要点:1.合理选择反应温度:根据反应的特点和要求,合理选择反应温度,以最大化产物的生成和提高反应速率。
对于可逆反应,根据 Le Chatelier 原理,选择适当的温度可以改变反应的平衡位置,从而有利于产物的生成。
2.温度控制与安全性:在化学工业生产中,温度的控制非常重要,特别是对于放热反应和高温反应。