薄膜光学-全部知点问题全答版
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光学薄膜复习要点第四章光学薄膜的制造工艺1.光学薄膜器件的质量要素光学性能:●膜层厚度d●膜层折射率n折射率误差的三个主要来源:------膜层的填充密度(聚集密度)------膜层的微观组织物理结构------膜层的化学成分机械性能:硬度:膜层材料的本身硬度和膜层内部的填充密度牢固度:是指膜层对于基底的附着力、黏结程度膜层与基底之间结合力的性质(范德华力、分子间作用力、经典吸引)成膜粒子的迁移能环境稳定性:希望薄膜器件的光学性能和机械性能在经历恶劣环境较长时间后仍然不变。
恶劣环境:盐水盐雾、高湿高温、高低温突变、全水浴半水浴、酸碱腐蚀提高方法:1.选用化学稳定性好的材料2.制作结构致密无缝可钻的膜层后果:1.结构致密:酸碱盐水对膜层的腐蚀为单一面腐蚀,速度慢,耐久性强2. 结构疏松:酸碱盐水对膜层的腐蚀是深入内部的体腐蚀,速度快,耐久性差。
填充密度:膜层的实际体积与膜层的几何体积之比。
后果:高的填充密度对应着优良的机械性能和光学性能的环境稳定性。
低:机械性能:膜层与基底之间吸附能小,膜层结构疏松牢固度差膜层表面粗糙,摩擦因数较大,抗摩擦损伤能力差非密封仪器内部,面腐蚀变为深入内部的体腐蚀光学性能:光线在粗糙表面散射损大空隙对环境气体的吸收导致膜层的有效光学厚度随环境、温度的变化而变化。
折射率不稳定。
提高膜层的填充密---基片温度、沉积速率、真空度、蒸汽入射角、离子轰击影响膜层质量的工艺要素:1.真空镀制光学薄膜的基本过程清洗零件---清洁真空室/装零件---抽真空和零件加温---膜厚仪调整---离子轰击---膜料预熔---镀膜---镀后处理---检测。
2.影响薄膜器件质量的工艺要素及其作用机理●真空度:影响折射率,散射,机械强度,不溶性后果:真空度低,使膜料蒸汽分子与剩余气体分子碰撞的几率增加,蒸汽分子的动能大大减小,与基片的吸附能间隙,从而导致沉积的膜层疏松,机械强度差,聚集密度低,化学成分不纯,膜层折射率,硬度变差。
一.选择题:1.真空蒸发镀膜按其工作原理,可以分为那几种方法(多选题): ABD A .溅射镀膜 B .热蒸发镀膜 C .电子束蒸发镀膜 D .离子镀2.溅射和热蒸发的根本区别在于,热蒸发是借助于 C 发生蒸发的,而溅射是通过获得 A 蒸发的。
A .动量转换B .电能转换C .焦耳热D .热电子轰击3. 如图,面蒸发源位于球迷夹具的球心,基片1和2膜厚之比为: BA .sin φB .cos φ D .1cos φC .tan φ4. 只能监控薄膜厚度为四分之一波长或其整数倍的控制方法有: ADA .极值控制法B .石英晶体控制法C .单波长监控法D .波长调制法二.简答:1. 如图2简述机械泵的工作原理,如何提高其工作效率?答:当转子顺时针转动时,空气由被抽容器通过进气管被吸入,旋片随着转子的转动使与进气管相连的区域不断扩大,而气体就不断地被吸入。
当转子达到一定位置时,另一旋片把被吸入气体的区域与被抽容器隔开,并将气体压缩,直到压强增大到可以顶开出气口的活塞阀门而被排出泵外,转子的不断转动使气体不断地从被抽容器中抽出。
可以通过提高机械泵的体积或提高转速来提高效率。
2. 如图3简述有油扩散泵的工作原理。
答:真空泵油经电炉加热沸腾后,产生一定的油蒸汽,蒸汽沿着蒸汽导流管传输到上部,经由三级伞形喷口向下喷出。
喷口外面的压强较油蒸汽压低,于是便形成一股向出口方向运动的高速蒸汽流,使之具有很好的运载气体分子的能力。
油分子与气体分子碰撞,由于油分子的分子量大,碰撞的结果是油分子把动量交给气体分子自己慢下来,而气体分子获得向下运动的动量后便迅速往下飞去.并且,在射流的界面内,气体分子不可能长期滞留,因而界面内气体分子浓度较小.由于这个浓度差,使被抽气体分得以源源不断地扩散进入蒸汽流而被逐级带至出口,并被前级泵抽走.慢下来的蒸汽流在向下运动的过程中碰到水冷的泵壁,油分子就被冷凝下来,沿着泵壁流回蒸发器继续循环使用.冷阱的作用是减少油蒸汽分子进入被抽容器。
光学基础知识:1. 光(电磁波)是横波还是纵波?答案:横波2. 光程:折射率与光实际路程的乘积。
3. 菲涅耳折射定律:00011sin sin rN N θθθθ==4. 光的偏振态?线偏振光、圆偏振光、椭圆偏振光、自然光、部分偏振光。
5. 偏振度:自然光 → P=0 线偏光→ P =1 其它 0<P <16. 从自然光中获得线偏振光的方法:一般有四种:A :利用二向色性 B :利用反射和折射 C :利用晶体的双折射 D :利用散射7. 二向色性:某些各向异性的晶体对不同振动方向的偏振光有不同的吸收系数的性质。
8. 利用二向色性获得偏振光的器件称为偏振片9. 当入射光的入射角等于布儒斯等角时,反射光成为线偏振光(仅有s 分量)。
10. 菲涅尔公式:关于入射波、反射波、折射波电场的振幅之间的关系。
11. 消光比:最小透射光强与两偏振器透光轴互相平行时的最大透射光强之比称为消光比,它是衡量偏振器件质量的重要参数。
12. 电矢量垂直入射面的分量称为S 分量;电矢量平行入射面的分量称为P 分量。
13. 非相干光学系统是光强的线性系统;相干光学系统是复振幅的线性系统。
非相干光波的强度满足线性迭加关系14. 波的干涉:因波的迭加而引起强度重新分布的现象,叫做波的干涉。
产生干涉的必要条件(也叫相干条件): (1)频率相同;(2)存在相互平行的振动分量; (3)位相差稳定。
15. 电磁波在真空中的速度与在介质中的速度之比称为绝对折射率n (简称折射率)16. 尽管两种介质的分界面上,电磁场量整个的是不连续的,但在界面上没有自由电荷和面电流时,B 和D 法向分量与E 和H 的切向分量是连续的。
()()2112122sin cos sin cos p t θθθθθθ=+-()21122sin cos sin s t θθθθ=+()()1212sin sin s r θθθθ-=-+()()1212p tg r tg θθθθ--=+112200()()r r c n v εμεμεμ===12121212()0()0()0()0n B B n D D n E E n H H ⎧⋅-=⎪⋅-=⎪⎨⨯-=⎪⎪⨯-=⎩nntg B 121-=θ薄膜光学:1. 【填空】整部薄膜光学的物理依据就是光的干涉。
6.1薄膜光学:1. 整部薄膜光学的物理依据就是光的干涉。
研究光的本性及其传播规律的学科就是光学。
研究光在薄膜中的传播规律是薄膜光学。
2. 列举常用的光学薄膜滤光片、反射镜 镀膜镜片 牛顿环3. 利用薄膜可以实现的功能提高或降低反射率、吸收率与透射率方面, 在使光束分开或合并方面, 或者在分色方面,在使光束偏振或检偏方面,以及在使某光谱带通或阻滞方面,在调整位相方面等等,光学薄膜均起着至关重要的作用。
减少反射,提高透过率;提高反射率; 提高信噪比; 分光或分束;保护探测器不被激光破坏,重要票据的防伪等等;ur r uu4.电磁场间的关系:比 N 1 k E 1ur H光学导纳.N "F ■-tr ,这是N 的另一种表达式 纳: k E称为光学导纳:单位时间内,通过垂直于传播方向的单位面积的能矢量i 1 sin 1 cos 12称为膜系的特征矩阵坡印廷矢量(能流密度)的定义5. 光在两种材料界面上的反射:p 光: s 光: N cosN o cos 1 N i cos 0偏振光为横磁波,s 偏振光为横电波)N 0cos ! N t cos 0 2(p-偏振) 掌握单层膜的特征矩阵公式:薄膜光学3 PPT 中P 15-21cos1isinN o cos 0 N o cos 0N t cos ! N t cos ! 2(s-偏振)\ X2丫 %单层膜的反射系数和反射率为:—R丫掌握多层膜的特征矩阵公式:薄膜光学3 PPT 中P 26-298.【计算】偶数四分之一光学膜层的特征矩阵:2 2r 3 r 1 s2—2—r 2 r2 2 13 —2" 2奇数四分之一光学膜层的特征矩阵:2 r 1 s "2— r2 2 13 2 2~ 2 42 r 22~r 3 r2 r ___ "2~1 s计算多膜层(膜层厚度为四分之一波长的整数倍)的反射率 。
【计算题:薄膜光学3PPT 中.11层TiO^/SiO^交替的(H Lp H 结构, 基底为帔铸=叫=1.5心2一栄'•工站:“工'■二站口23: ■卫r13屮 □ •1」护•1-531.茫• 1.51'-其中nH= 2.35, niL =1*45P35】四分之一波长的光学厚度 (QWOT 或二分之一波长的光学厚度 (HWOT )9. 单层减反膜的设计方法:【薄膜光学3PPT 中P37】10. 无论膜层是否有吸收,膜系的透射率与光的传播方向无关。
光学膜片知识点总结一、光学膜片的基本原理光学膜片是利用薄膜的干涉效应来实现对光的调控的光学元件。
薄膜的光学性质与其厚度、折射率及透射率等参数密切相关,通过对这些参数进行设计和调控,可以实现对光的波长、偏振、相位等的调控。
光学膜片的工作原理主要基于薄膜的干涉效应和多层膜的反射和透射规律。
1. 干涉效应:当光线通过薄膜时,由于薄膜的厚度和折射率的不同,光线在薄膜内部和表面之间会发生反射和透射,从而产生干涉现象。
这种干涉效应可以用来实现对光的波长和相位的调控。
2. 反射和透射规律:多层膜的光学性质与薄膜的材料、厚度、层序、折射率等参数相关,通过合理设计多层膜的结构,可以实现对光线的反射和透射的控制,从而实现对光的偏振和波长的调控。
基于以上基本原理,光学膜片可以实现对光的色散、偏振、透射率等的调控,具有广泛的应用前景。
二、光学膜片的主要特性1. 调控范围广:光学膜片可以实现对光的波长、偏振、相位等的调控,调控范围广,具有较大的应用潜力。
2. 光学性能优良:光学膜片具有优良的光学性能,如高透射率、低反射率、高色散率等,能够满足各种光学系统的需要。
3. 结构简单紧凑:光学膜片的结构通常比较简单,可以设计成紧凑的结构,便于集成和应用。
4. 制备工艺成熟:目前光学膜片的制备工艺已经比较成熟,可以利用各种方法和工艺制备出具有良好性能的光学膜片。
5. 适应性强:光学膜片可以根据具体的应用需求进行设计和制备,具有较强的适应性,适用于不同的光学系统。
在以上方面,光学膜片具有许多优良特性,是一种非常重要的光学元件。
三、光学膜片的制备工艺光学膜片的制备工艺是实现其优良性能的关键。
光学膜片的制备工艺通常包括薄膜沉积、膜层设计、光刻、膜层厚度和成分控制、表面处理等工艺步骤。
1. 薄膜沉积:薄膜沉积是制备光学膜片的基础工艺,主要包括物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和溅射沉积等技术,通过这些技术能够在衬底上制备出所需的薄膜材料。