TFT Cell制程原理

tft制造原理与简单制造流程
何谓TFT-LCD？TFT-LCD 即是Thin-Film Transistor Liquid-Crystal Display 的缩写（薄膜电晶体液晶显示器）TFT-LCD 如何点亮？简单说，TFT-LCD 面板可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶，上层的玻璃基板是与彩色滤光片（Color Filter）结合，而下层的玻璃则有电晶体镶嵌于上。

当电流通过电晶体产生电场变化，造成液晶分子偏转，借以改变光线的偏极性，再利用偏光片决定画素（Pixel）的明暗状态。

此外，上层玻璃因与彩色滤光片贴合，形成每个画素（Pixel）各包含红蓝绿三颜色，这些发出红蓝绿色彩的画素便构成了面板上的影像画面。

TFT-LCD 的三段主要的制程：的三段主要的制程：前段Array 前段的Array 制程与半导体制程相似，但不同的是将薄膜电晶体制作于玻璃上，而非硅晶圆上。

中段Cell 中段的Cell ，是以前段Array 的玻璃为基板，与彩色滤光片的玻璃基板结合，并在两片玻璃基板间灌入液晶（LC）。

模组组装）后段Module Assembly （模组组装模组组装后段模组组装制程是将Cell 制程后的玻璃与其他如背光板、电路、外框等多种零组件组装的生产作业。

TFT-LCD主要的三段制程：。

了解整个TFT-LCD open cell的制程文章主要介绍TFT-LCD open cell制程，TFT-LCD open cell制程一般分为前段、中段和后段制程，前段制程主要是进行TFT玻璃的制作；中段制程主要指将TFT玻璃与彩色滤光片贴合；后段制程指驱动IC、印刷电路板和液晶板的压合。

笔者认为，只有了解整个TFT-LCD open cell的制程才能更好的进行TV背光系统、主板甚至整个TV的设计。

一、TFT-LCD open cell 制程简述TFT-LCD open cell制程一般分为前段、中段和后段制程，前段制程主要是进行TFT玻璃的制作，这与半导体制程非常相似；中段制程主要指将TFT玻璃与彩色滤光片贴合，并加上上下偏光板；后段制程指将驱动IC和印刷电路板压合至TFT玻璃，并完成我们所熟知的open cell。

二、TFT-LCD open cell前段制程TFT-LCD open cell前段制程与半导体制程非常相似，主要分成四个步骤：1.利用沉淀形成gate metal。

首先在玻璃基板上涂布一层金属，然后涂上光阻胶，最后通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成gate metal。

涂布的金属材料主要成分为：钛（TI）、铝（AL）、钼（MO）和铬（CR）以及其混合物。

2.沉淀SI3N4（氮化硅）、a-SI（非晶硅）和N+a-si（N型硅）。

首先利用PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 技术分别涂布一层SI3N4、N+a-si和a-si，然后在N+a-si和a-si上涂布光阻胶，通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成所需形状。

PECVD指的是等离子体增强化学气相沉积法，原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉淀出所期望的薄膜。

SI3N4、N+a-si和a-si三种材料充当的角色分别为：gate端和液晶存储电容的电解质、N型半导体和P型半导体。

TFTCell制程原理引言TFTCell（薄膜晶体管电池）是一种非常重要的电子组件，广泛应用于液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等显示技术中。

本文将介绍TFTCell的制程原理，包括其结构、制造过程以及工作原理。

结构TFTCell的基本结构由三个主要元件组成：薄膜晶体管、电容和像素电极。

薄膜晶体管是TFTCell的核心部件，它负责控制电流流过电容和像素电极，从而达到控制像素点的亮度和颜色的目的。

电容存储电荷，而像素电极是通过对电容上的电荷进行驱动来控制每个像素点的亮度。

制造过程TFTCell的制造是一个复杂的过程，涉及到多个步骤。

下面将介绍TFTCell的制造过程的主要步骤。

1. 基板制备TFTCell的制造通常以玻璃作为基板，因为玻璃具有良好的透明性和平整度。

制造过程的第一步是在玻璃基板上涂覆一层透明导电薄膜，通常使用氧化锌（ZnO）或二氧化锡（SnO2）等材料的薄膜来实现。

2. 薄膜晶体管的形成在涂覆导电薄膜的基板上，通过光刻和蒸发等技术，制造薄膜晶体管。

薄膜晶体管通常由一层绝缘层、一层半导体层和一层金属电极组成。

绝缘层用于隔离半导体层和金属电极，确保电流只流过晶体管的通道部分。

3. 像素电极的制造在薄膜晶体管的制造完成后，需要制备像素电极。

像素电极通常是由透明导电材料制成的，例如氧化铟锡（ITO）等，可以通过光刻和蒸发等工艺在晶体管上制造出一个个微小的像素电极。

4. 电容的形成在像素电极的制造完成后，需要在像素电极和薄膜晶体管之间形成一个电容。

电容是由两个金属层之间的绝缘层组成，通过光刻和蒸发等工艺在晶体管上制造出。

工作原理TFTCell的工作原理是基于薄膜晶体管的开关特性。

当TFTCell中的薄膜晶体管通电时，电流流过绝缘层到达半导体层，通过控制垂直方向的电场的强度，可以调节半导体层的导电特性。

当半导体层导电时，电流可以流过像素电极和电容，从而改变像素点的亮度和颜色。

TFTCell的工作原理可以通过外部电源和信号控制电流的开闭，从而实现TFTCell的快速响应和高精度的亮度调节。