半导体物理学第三章习题和答案
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则:E c (k ' ) E c
2 h2 '2 '2 (k x ky k z' " ) 2m a
在k '系中, 等能面仍为球形等能面 m m m t l 在k '系中的态密度g (k ' ) t 3 ma 1 k' 2m a ( E EC ) h 2 V
2 3
) 2得
2
2 2 N c 3 mn 0.56m0 5.1 10 31 kg k 0T 2 2 2 N v2 m p k 0T 2
1 3
0.29m0 2.6 10 31 kg
(2) 77 K时的N C、N V
8.300 K时:ni ( N c N V ) e
2 ' ' 500 K时:ni ( N C NV ) 2e 1
1
Eg 2 k 0T
2.0 1013 / cm 3
eg 2 k 0T '
6.9 1015 / cm 3
根据电中性条件: n 0 p 0 N D N A 0 2 n0 n0 ( N D N A ) ni2 0 2 n p n i 0 0 N NA ND NA 2 n0 D ( ) ni2 2 2 N ND NA ND 2 p0 A ( ) ni2 2 2
0.05
N D 1019 :
N D 1016 小于2.5 1017 cm 3 全部电离 N D 1016 ,1018 2.5 1017 cm 3没有全部电离
'' (2) 也可比较E D 与E F ,E D E F k0T全电离
N D 1016 / cm 3 ; E D E F 0.05 0.21 0.160.026成立,全电离 N D 1018 / cm 3 ; E D E F 0.037 ~ 0.26 E F 在E D 之下,但没有全电离 N D 1019 / cm 3 ; E D E F 0.0230.026,E F 在E D 之上,大部分没有电离
2
100h 2 Ec 2 8m n L Ec
2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6) 。
2.证明:si、Ge 半导体的E(IC) ~ K关系为 E( EC C k)
' x 2 2 h 2 k x k y k z2 ( ) 2 mt ml
1 1 ma ma m 1 ' 2 令k ( ) k x , k y ( ) 2 k y , k z' ( a ) 2 k z mt mt ml
2 2 mn l
dZ V
1 * 2 ) V (2mn ( E EC ) 2 dE 2 2 3 3
Ec
100h 2
2 8 mn l
1 Z0 V
EC * n
g ( E )dE
3 2
3
EC
V (2m ) 2 ( E EC ) 3 2 2 3 1000 3L3
费米能级
费米函数
1 E EF 1 e k 0T
玻尔兹曼分布函数
E EF
1.5k0T 4k0T 10k0T
f E EF k0T
0.182 0.018
0.223 0.0183
4.54 10 5
4.54 10 5
4. 画出-78oC、室温(27 oC) 、500 oC 三个温度下的费米分布函数曲线,并进行比较。
1 90% 1 ED EF 1 e 2 k 0T n 1 1 N D 1016 : D 0.42%成立 E D EC 0.21 0.16 ND 1 0.026 1 0.026 1 e 1 e 2 2
N D 1018 : nD ND nD ND 1 1 1 e 0.026 2 1
0.037
nD ND
30%不成立
80%10%不成立 0.023 1 0.026 1 e 2 ' (2) 求出硅中施主在室温下全部电离的上限 2N E D ( D )e D (未电离施主占总电离杂质数的百分比) NC koT 10% 0.1N C 0.026 2 N D 0.05 e , ND e 2.5 1017 / cm 3 N C 0.026 2
2 Eg 2 koT 1 0.67 2 k 0 300
(3)ni ( N c N v ) e
1
室温:ni (1.05 10 3.9 10 ) e
19 18 2 18 17
1.7 1013 / cm 3 1.98 10 7 / cm 3 ND 1 2e
1
在E ~ E dE空间的状态数等于k空间所包含的 状态数。 即d z g (k ' ) Vk ' g (k ' ) 4k ' dk 2(m m m ) 13 2 1 dz ' t t l ( E Ec ) 2 V g (E) 4 2 dE h 对于si导带底在100个方向,有六个对称的旋转椭球, 锗在( 111 )方向有四个,
10. 以施主杂质电离 90%作为强电离的标准,求掺砷的 n 型锗在 300K 时,以杂质电 离为主的饱和区掺杂质的浓度范围。
10.解 As的电离能E D 0.0127eV , N C 1.05 1019 / cm 3 室温300 K以下,As 杂质全部电离的掺杂上限 D 2N D E exp( D ) NC k 0T 2N D 0.0127 exp NC 0.026
3 1 2m n g ( E ) sg ( E ) 4 ( 2 ) 2 ( E E c ) 2 V h ' mn s 2 3 3 2
m m
2 t l
1
3
3. 当 E-EF 为 1.5k0T,4k0T, 10k0T 时,分别用费米分布函数和玻耳兹曼分布函数计算 电子占据各该能级的概率。
9.解假设杂质全部由强电离区的E F E F E c k 0T ln N C 2.8 1019 / cm 3 ND , T 300 K时, 10 3 NC ni 1.5 10 / cm ND , Ni
或E F Ei k 0T ln
1016 E c 0.21eV 2.8 1019 1018 N D 1018 / cm 3 ; E F E c 0.026 ln E c 0.087eV 2.8 1019 1019 N D 1019 / cm 3 ; E F E c 0.026 ln E c 0.0.27eV 2.8 1019 (2) EC E D 0.05eV施主杂质全部电离标准为90%,10%占据施主 N D 1016 / cm 3 ; E F E c 0.026 ln nD ND 或 1 是否 10% 1 ED EF 1 e 2 k 0T
' ' N( C 77 K) 3 T N( T C 300 K) ' NC NC (
77 3 77 3 ) 1.05 1019 ( ) 1.37 1018 / cm 3 300 300
' NV NV (
77 3 77 3 ) 3.9 1018 ( ) 5.08 1017 / cm 3 300 300
6. 计算硅在-78 oC,27 oC,300 oC 时的本征费米能级,假定它在禁带中间合理 吗?
Si的本征费米能级, Si : mn 1.08m0 , m p 0.59m0
E EV 3kT m p E F Ei C ln 2 4 mn 当T1 195K时,kT1 0.016eV , 3kT 0.59m0 ln 0.0072eV 4 1.08m0
5. 利用表 3-2 中的 m*n,m*p 数值,计算硅、锗、砷化镓在室温下的 NC , NV 以及本征载
流子的浓度。
3 2koTmn 2 N 2 ( ) C 2 h 2koTm p 32 5 N v 2( ) h2 Eg 1 2 koT 2 n i ( N c N v ) e Ge : mn 0.56m0 ; m p o.37 m0 ; E g 0.67ev si : mn 1.08m0 ; m p o.59m0 ; E g 1.12ev Ga As : mn 0.068m0 ; m p o.47 m0 ; E g 1.428ev
第三章习题和答案
1. 计算能量在 E=Ec 到 E E C 解:
1 * 2 ) V (2mn 2 g (E) ( E E ) C 2 2 3 dZ g ( E )dE 3
100 2 之间单位体积中的量子态数。 2 2m * nL
单位体积内的量子态数Z 0
Ec 100 2
3kT 0.59 ln 0.012eV 4 1.08 3kT 0.59 当T2 573K时,kT3 0.0497eV , ln 0.022eV 4 1.08 当T2 300 K时,kT2 0.026eV ,
所以假设本征费米能级在禁带中间合理,特别是温度不太高的情况下。 7. ①在室温下,锗的有效态密度 Nc=1.051019cm-3,NV=3.91018cm-3,试求锗的载 流子有效质量 m*n m*p。计算 77K 时的 NC 和 NV。 已知 300K 时,Eg=0.67eV。77k
N
N D n0 (1 2e
E D no 0.01 1017 ) 1017 (1 2e ) 1.17 1017 / cm 3 koT N C 0.067 1.37 1018