3.位相计算
( N1 N 2 )d 2
2
Cd ( 1 2 )
1 2
Cd ( 1 2 )
光弹性原理(Photoelasity)
平面光弹性
1. 平面应力试件的暂时双折射效应
•不受力时试件呈现光学各向同性 •受力后试件呈现暂时光学各向异性 •卸载后试件再呈现光学各向同性
光弹性原理(Photoelasity)
光弹条纹的观察和判读
1.整数级等差线的观测(暗场)
奇 点 力学特征 点的图象 特征 加载时邻 域图象特 征 各向同性点 源 点 汇 点
1 2 0
永久性黑点 条 纹 向 该点聚集
1 2
永久性黑点 条 纹 向 该点聚集
1 2 max 1 2 min
cos exp i 2 sin exp i 2
光弹性原理(Photoelasity)
Ax Ay A
右 旋
y x 2
E x 滞后 E y 2
A exp i y 2 A exp i y
圆偏振光光路
a)两偏振片的轴一致,两四分之一波片的快轴与快轴重合,暗场; b)两偏振片的轴一致,两四分之一波片的快轴与慢轴重合,明场; c)两偏振片的轴垂直,两两四分之一波片的快轴与慢轴重合,暗场; d)两偏振片的轴垂直,两四分之一波片的快轴与快轴重合,明场.
光弹性原理(Photoelasity)
1.再现原始像光强: 单曝光:
双曝光:
全息光弹(Holo— hotoelasticty):
双模型法: a) 用人工双折射材料试件得到主应力差分布。 b) 用光学 各向 同性 材料 试件 做全 息双 曝光可 得到 主应 力和 等 值线(等和线),再现光强为: