常用的镀膜材料参数

望远镜镜片镀膜工艺参数望远镜镜片镀膜工艺参数概述望远镜的性能取决于各个部件的设计与制造，其中镜片的质量和性能尤为重要。

为了提高镜片的光传输效率，减少反射和散射，人们通常对镜片进行镀膜处理。

镜片镀膜工艺参数是影响镜片性能的关键因素之一。

本文将就望远镜镜片镀膜的工艺参数进行全面评估，并探讨其对镜片性能的影响。

工艺参数1. 膜层材料选择：在望远镜镜片镀膜过程中，选择合适的膜层材料将直接影响到反射率和抗散射性能。

一般来说，金属（如铝）和氟化物（如氟化镁）是常用于光学镜片镀膜的材料。

金属膜具有较高的反射率，适用于镀膜反射镜；而氟化物膜则具有较低的反射率和良好的耐久性。

2. 膜层厚度：膜层的厚度决定了镜片的反射率和透过率。

通常情况下，较薄的膜层具有更低的反射率，但也会导致更高的散射。

相反，较厚的膜层具有更高的反射率，但也会减少透过率。

在选择镀膜厚度时需要权衡反射率和透过率之间的平衡。

3. 反射率波段：望远镜的工作波段决定了镜片镀膜的反射率要求。

对于可见光望远镜，通常要求在可见光波段内具有较低的反射率。

而对于红外望远镜，需要在红外波段内具有较高的透过率。

在确定望远镜的工作波段后，选择合适的材料和设计反射率成为非常重要的任务。

4. 镀膜层数：望远镜镜片的镀膜层数也是影响其性能的重要参数。

膜层数的增加可以显著改善镜片的透过率和反射率，但也会导致光束的相位差增加，从而降低成像质量。

在确定镀膜层数时需要综合考虑成像质量和光传输效率。

5. 衬底材料：衬底材料对镜片镀膜的性能也有一定影响。

一般情况下，选择光学衬底材料应满足一定的折射率、热稳定性和机械强度要求。

常用的衬底材料有玻璃、硅和纳米晶硅等。

影响因素及优化1. 光学参数优化：对于望远镜的镜片镀膜，光学参数的优化是关键。

通过精确的设计和计算，可以确定合适的膜层材料、厚度和层数，以提高镜片的透过率和反射率。

还需考虑镜片的颜色和多层膜之间的相位差等因素。

2. 设备优化：镀膜设备的性能和稳定性也是影响镜片镀膜效果的重要因素。

04
镀膜玻璃的力学性能
硬度
总结词
硬度是镀膜玻璃的重要性能参数之一，它决 定了玻璃的抗划痕和抗磨损能力。
详细描述
镀膜玻璃的硬度取决于其制造工艺和表面涂 层技术。硬度较高的镀膜玻璃能够更好地抵 抗划痕和磨损，保持长期的外观效果和使用 寿命。硬度的测试方法通常采用摩氏硬度计 进行测量，其数值越高，表示玻璃的硬度越 大。
THANKS
感谢观看
详细描述
镀膜玻璃的透光性取决于膜层的厚度和材料性质。较薄的膜层通常具有较高的透光率，使光线 能够更好地透过玻璃。透光率越高，玻璃的清晰度就越好，视野也更加清晰。
反射性
总结词
镀膜玻璃的反射性是指光线在玻璃表面反射的能力。
详细描述
镀膜玻璃的反射性能主要取决于膜层的反射率和表面粗糙度。高反射率的膜层可 以将光线有效地反射，减少光的透过，从而减少光线的热量进入室内。这种特性 使得镀膜玻璃在炎热的夏季能够有效地阻挡阳光，降低室内温度。
详细描述
镀膜玻璃的隔热性能主要得益于其表面的镀膜层。该镀膜层能够反射大部分太阳光，减少太阳光的透 射，从而降低室内温度。此外，镀膜玻璃还可以有效阻挡室内的热量向室外传递，保持室内凉爽。
耐热性
总结词
镀膜玻璃的耐热性是指其承受高温的能 力。
VS
详细描述
优质的镀膜玻璃具有良好的耐热性，能够 在较高的温度下保持稳定。这使得镀膜玻 璃在炎热的夏季或阳光直射下仍能保持良 好的性能和外观。此外，其耐热性还使其 适用于厨房、浴室等高温环境。
吸收性
总结词
镀膜玻璃的吸收性是指光线被玻璃吸收的能力。
详细描述
镀膜玻璃的吸收性能与膜层的材料有关。某些膜层可以吸收部分光线，减少光 的透过和反射。吸收性能对于控制光的透过和反射具有重要意义，可以影响玻 璃的整体光学性能。

镀膜玻璃的节能特性及其参数一、概述现代建筑，不论是商厦还是住宅，都趋向于大面积采光。

但是，普通透明玻璃对太阳能辐射和远红外热辐射没有控制，其面积越大，夏季进入室内的热量越多，冬季室内散失的热量越多。

为此，必须对玻璃表面进行处理，于是产生了有节能功能的镀膜玻璃。

早期的镀膜玻璃主要是热反射镀膜玻璃（或称阳光控制膜玻璃），其作用是限制太阳能辐射直接进入室内。

用于建筑幕墙玻璃时，除具有亮丽的外观装饰效果外，还可降低冷气设备的运行费用。

但这种玻璃与普通玻璃一样，会吸收远红外热辐射而使其自身的温度升高，最终仍有相当部分的热能透过了玻璃，其隔热性能也受到了极大的限制。

选用什么材料？采用何种工艺镀膜才能有效地阻挡远红外热辐射？研究的结果诞生了低辐射镀膜玻璃（简称Low-E玻璃）。

这种玻璃的最大特点是将远红外热辐射反射出去，使其不能透过玻璃从而起到节能隔热的作用。

因此，目前世界上公认Low-E 玻璃是最理想的窗玻璃材料。

Low-E玻璃在国外已有近二十年的使用历史，我国因受到设备和生产工艺技术方面限制，同时也因节能观念的落后而起步较晚。

可喜的是，自南玻集团于1997年推出Low-E玻璃并在全国范围内大力推介后，目前已为众多设计师和用户所认同并采用。

规模化采用Low-E玻璃时代已经到来，这必将对我国的建筑节能材料应用产生影响并作出贡献。

关于镀膜玻璃，包括LOW-E玻璃的节能特性，已有许多文章或专著论述过，在大多数文章或企业的产品介绍中都列出了完整的参数，但理解这些参数须具备一定的专业知识。

对用户来说更关心的是：哪些参数与节能性直接相关？怎样才能区别不同玻璃之间节能性的优劣？如何根据这些参数选择适用的玻璃？本文拟深入浅出地回答这些问题。

二、热能的形式及窗玻璃组件的传热1、自然环境中的热能自然环境中的热能主要是太阳辐射能，其能量的98%分布在0.3至3µm波长之间。

除了太阳直接辐射的能量外（能量分布在），还存在着大量的远红外线热辐射能，其能量分布在3至40µm 波长之间。

涂层厚度： 12-20nm
涂层硬度： 测试条件：使用7H三菱铅笔，1KG压力，摩擦速度60次/分钟，摩擦行程40mm，摩 擦次数1次 表面无划痕
人工汗液
摩擦测试仪
摩擦测试仪
AR抗（减）反射增透膜简介
• AR膜又称减反射膜又称增透膜，
• 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元 件的透光量。
AF镀膜产品应用领域：
手机、平板、车载、电视、LED等玻璃显示屏
AF生产工艺简介
真空蒸镀：在真空条件下，采用一定的加 热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并 使之气化，粒子飞至基材表面凝聚成膜的 工艺方法。
真空溅镀：利用辉光放电将氩气(Ar)离子 撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积 在基板表面形成薄膜。
AG防炫膜简介
AG镀膜产品特性： 1、反射红外线：降低红外线在玻璃表面的通透率来减少入室红外线光； 2、增强透光率：在反射红外线光线的同时增强其他光源的透过，不影响室内采 光效果 3、防眩光：将光源发出的光通过漫反射改变反射强光对观察者的视觉刺激
AG镀膜产品应用领域： 1、手机、车载导航、电子黑板、电视屏幕、电脑屏幕、精密仪器仪表屏幕、医 疗设备窗口、液晶显示器视窗、电子产品视窗、笔记本触板、无线鼠标触板等； 2、高级画廊和美术馆的名贵字画的镜框，使字画和图片长期保存，永不褪色； 3、博物馆、档案馆等贵重文物保护。
• 减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技 术中重要的研究课题.
• 在很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。 就拿一 个由18块透镜组成的35mm的自动变焦的照相机来说，假定每个玻璃和空气的界 面有4%的反射，没有增透的镜头光透过率为27%，镀有一层膜（剩余的反射为 1.3%）的镜头光透过率为66%，镀多层膜（剩余的反射为0.5%）的为85%。

azo靶材镀膜参数摘要：一、什么是azo 靶材镀膜二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类2.镀膜厚度3.沉积速率4.镀膜质量5.应用领域正文：一、什么是azo 靶材镀膜azo 靶材镀膜是一种用于制造电子器件的特殊薄膜，其主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO）。

这种材料具有良好的导电性和透明性，广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。

通过在基材上镀覆azo 靶材，可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。

二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类：azo 靶材的主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO），它们的比例决定了靶材的性能。

通常情况下，FeO 和ZnO 的比例为9:1。

2.镀膜厚度：镀膜厚度是影响器件性能的关键参数。

过薄的镀膜会导致器件性能下降，而过厚的镀膜则会增加器件的成本。

因此，在生产过程中需要精确控制镀膜厚度。

3.沉积速率：沉积速率决定了镀膜的生产效率。

提高沉积速率可以缩短生产周期，降低生产成本。

但同时，过高的沉积速率可能会影响镀膜的质量。

4.镀膜质量：镀膜质量是衡量azo 靶材镀膜性能的重要指标。

高质量的镀膜可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。

5.应用领域：azo 靶材镀膜广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。

随着科技的不断发展，azo 靶材镀膜的应用领域还将不断拓展。

总之，azo 靶材镀膜是一种重要的电子材料，其性能和质量对器件的性能和可靠性具有重要影响。

镀膜玻璃的节能特性及其参数一、概述现代建筑，不论是商厦还是住宅，都趋向于大面积采光。

但是，普通透明玻璃对太阳能辐射和远红外热辐射没有控制，其面积越大，夏季进入室内的热量越多，冬季室内散失的热量越多。

为此，必须对玻璃表面进行处理，于是产生了有节能功能的镀膜玻璃。

早期的镀膜玻璃主要是热反射镀膜玻璃（或称阳光控制膜玻璃），其作用是限制太阳能辐射直接进入室内。

用于建筑幕墙玻璃时，除具有亮丽的外观装饰效果外，还可降低冷气设备的运行费用。

但这种玻璃与普通玻璃一样，会吸收远红外热辐射而使其自身的温度升高，最终仍有相当部分的热能透过了玻璃，其隔热性能也受到了极大的限制。

选用什么材料？采用何种工艺镀膜才能有效地阻挡远红外热辐射？研究的结果诞生了低辐射镀膜玻璃（简称Low-E玻璃）。

这种玻璃的最大特点是将远红外热辐射反射出去，使其不能透过玻璃从而起到节能隔热的作用。

因此，目前世界上公认Low-E 玻璃是最理想的窗玻璃材料。

Low-E玻璃在国外已有近二十年的使用历史，我国因受到设备和生产工艺技术方面限制，同时也因节能观念的落后而起步较晚。

可喜的是，自南玻集团于1997年推出Low-E玻璃并在全国范围内大力推介后，目前已为众多设计师和用户所认同并采用。

规模化采用Low-E玻璃时代已经到来，这必将对我国的建筑节能材料应用产生影响并作出贡献。

关于镀膜玻璃，包括LOW-E玻璃的节能特性，已有许多文章或专著论述过，在大多数文章或企业的产品介绍中都列出了完整的参数，但理解这些参数须具备一定的专业知识。

对用户来说更关心的是：哪些参数与节能性直接相关？怎样才能区别不同玻璃之间节能性的优劣？如何根据这些参数选择适用的玻璃？本文拟深入浅出地回答这些问题。

二、热能的形式及窗玻璃组件的传热1、自然环境中的热能自然环境中的热能主要是太阳辐射能，其能量的98%分布在0.3至3µm波长之间。

除了太阳直接辐射的能量外（能量分布在），还存在着大量的远红外线热辐射能，其能量分布在3至40µm 波长之间。

碳化硅镀膜工艺一、引言1. 背景介绍：碳化硅在电子器件中的应用2. 碳化硅镀膜的重要性：提高器件性能、降低成本3. 论文目的：详细介绍碳化硅镀膜工艺二、碳化硅材料特性1. 物理性质：晶格结构、离子扩散、能带结构2. 化学性质：化学键、表面反应、腐蚀 resistance三、碳化硅镀膜工艺1. 化学气相沉积（CVD）：原理、设备、过程参数2. 物理气相沉积（PVD）：原理、设备、过程参数3. 激光喷涂（LSP）：原理、设备、过程参数4. 溶胶-凝胶法（SG法）：原理、设备、过程参数5. 原子层沉积（ALD）：原理、设备、过程参数6. 磁控溅射（MCV）：原理、设备、过程参数四、碳化硅镀膜性能评估1. 厚度均匀性：测量方法、评估指标2. 硬度：测量方法、评估指标3. 耐腐蚀性：测量方法、评估指标4. 电子迁移率：测量方法、评估指标5. 热稳定性：测量方法、评估指标五、碳化硅镀膜在电子器件中的应用1. 肖特基二极管2. 场效应晶体管3. 发光二极管4. 太阳能电池5. 功率放大器六、结论与展望1. 碳化硅镀膜工艺的发展趋势2. 面临的挑战与解决方案3. 碳化硅镀膜在电子器件中的未来应用前景1. 背景介绍：碳化硅在电子器件中的应用碳化硅(SiC)是一种宽禁带半导体材料,具有高电子迁移率、高热导率和高抗热冲击能力,因此在电子器件中具有广泛的应用前景。

其中,碳化硅镀膜工艺是一种重要的制备碳化硅薄膜的方法,可以提高碳化硅器件的性能。

碳化硅在电子器件中的应用主要包括高温电力电子器件、功率器件、光电子器件和微电子器件等。

高温电力电子器件需要在高温环境下工作,因此需要使用具有高热导率和耐热冲击能力的材料。

碳化硅具有这些特性,因此被广泛应用于高温电力电子器件中。

功率器件需要具有高电子迁移率和低噪声特性,碳化硅在这方面也表现优异。

光电子器件需要具有高光响应率和低损耗特性,碳化硅在这方面也是优秀的材料。

微电子器件需要具有高精度和高可靠性的特性,碳化硅也在这方面有着广泛的应用。

ITO薄膜电学性能优异，但是在近红外区透过率较低，这意味着ITO作为电极不能有效利用 太阳能，而AZO薄膜在近红外区透过率很高,但电学性能和ITO相比相差较大。
• 如果做TCO的综合比较，可以用导电率与吸收系数的比——σ/ɑ作为指标，这个比值越大越好，其中ɑ=4πK/λ， 是光的衰减系数或吸收系数，K：消光系数；λ：波长；
AZO 窗口层制备过程中过高的衬底加热温度会破坏CdS 缓冲层，影响电池性能。
这两个参数对于薄膜的导电性和透过率影响较大，需要 平衡考虑。
镀膜工艺
三. TCO溅射工艺
不同氧分压下TCO膜层的透光 率曲线： ✓AZO有效掺杂：Al3+替位 Zn2+ ✓掺杂效果依赖于膜层中的不 同相：若Al被氧化成Al2O3则 整体电阻率升高
• （2）AZO(45nm，Al含量2%)/Ag(9nm)/AZO(45nm，Al含量2%)夹层结构与AZO（100nm，Al含量2%）对 比。
五. 结论
AZO（Al掺杂：1wt%，1000nm），方阻10ohm/sq以内，光透过80%以上。 （1）ITO（Sn掺杂：10wt%） ：HIT膜厚80-110nm（偏蓝色），GSE膜厚500nm？（ITO一般不用这么厚）；
镀膜工艺
镀膜工艺 ➢载流子迁移率：
ԏ:弛豫时间（载流子两次散射之间的时间） m*：载流子有效质量 ➢提升载流子迁移率： 1，降低m*：取决于TCO材料本身 2，增加ԏ：与薄膜的微观结构有关，可通过工艺控制
镀膜工艺 载流子迁移率：
提高载流子迁移率建议： ✓降低载流子浓度 ✓增大晶粒尺寸 ✓减少晶粒边界势垒（晶粒边界钝化） ✓减少补偿度（减少杂质浓度） ✓减少高价离子数量（如氧空位）
二. 各类主要TCO材料对比

镀膜参数acc全文共四篇示例，供读者参考第一篇示例：随着科技的不断发展，人们对于镀膜技术的需求也越来越高。

镀膜技术可以有效地改善材料的性能，增加材料的耐磨、耐腐蚀等特性，从而提升材料的使用寿命和性能。

而在进行镀膜过程中，镀膜参数acc（atomic concentration control）的选择对于镀膜效果至关重要。

acc参数是指在镀膜过程中，对于特定元素的原子浓度控制。

正确的acc参数可以使得镀膜均匀、致密，并具有良好的附着力，从而达到预期的性能。

在进行镀膜过程时，acc参数的选择与调整需要根据不同的材料种类、镀膜方法和要求而有所差异。

常见的acc参数包括镀膜时间、镀膜温度、镀膜精度等。

在选择时，需要根据镀膜的具体要求和材料特性进行综合考虑。

下面我们将重点介绍一些常用的acc参数及其在镀膜过程中的重要性。

镀膜时间是影响镀膜质量的重要参数之一。

镀膜时间过短会导致镀层太薄，附着力不足，无法有效地改善材料性能；而镀膜时间过长则会使得镀层厚度过厚，容易出现开裂、剥落等问题。

在进行镀膜时，合理控制镀膜时间是至关重要的。

acc参数的选择需根据材料的特性和所需镀层厚度进行调整，以确保镀层质量和性能。

镀膜温度也是影响镀膜效果的重要参数之一。

合适的温度可以提高镀层的致密性和均匀性，从而提高镀层的抗腐蚀性能和耐磨性。

镀膜温度过高会导致材料烧结、晶粒长大等问题，降低镀层的性能；而温度过低则会影响镀层的成型速度和均匀性。

在进行镀膜过程时，合理控制镀膜温度是至关重要的。

除了上述的常用acc参数外，还有一些其他的影响镀膜效果的因素，比如镀层材料的选择、镀层结构的设计等。

在进行镀膜过程中，需要综合考虑这些因素，选择合适的acc参数，才能得到最佳的镀膜效果。

第二篇示例：镀膜参数(acc)是指在镀膜过程中控制涂覆物质厚度和均匀性的关键参数。

镀膜是一种重要的表面处理工艺，通过在基材表面涂覆一层特定材料，可以改变基材的性能和外观，增加其耐腐蚀性、硬度和光泽度。

TFT-LCD特点 TFT的引入使产品的显示容量显著提高： 可以在VGA、XVGA等模式下工作 用于笔记本电脑的显示屏 需要在玻璃基片上制作数量庞大的TFT
多次镀膜和多次光刻 生产工序很多，必须极严格控制质量
3-4
第三讲 ITO玻璃及基本参数
第三讲
ITO玻璃的基本参数
① 尺寸及尺寸公差
规格 1.1mm 0.7mm 0.55mm 0.50mm 0.4mm 长宽 ±0.2mm ±0.2mm ±0.2mm ±0.2mm ±0.2mm 厚度 ±0.05mm ±0.05mm ±0.05mm ±0.05mm ±0.05mm 垂直度 L ≤0.10% ≤0.10% ≤0.10% ≤0.10% ≤0.10%
180°~ 270°
STN -LCD特点 扭曲角度的增加，使下列性能得到改善： 显示对比度提高 显示容量增加 视角变宽
对电阻相当敏感，基片需要抛光 高容量显示要求ITO的电阻低，膜要厚
3-3
第二讲
ITO玻璃简介
TFT-LCD
TFT=Thin Film Transistor 薄膜晶体管 每一个点阵都由薄膜晶体管来控制
● 透明 ● 导电
应用范围
● 易酸刻蚀
● 耐碱腐蚀
液晶显示、触摸屏、电子纸、 有机发光二极管、太阳能电池、 抗静电膜、EMI屏蔽膜、光学 镀膜、红外反射膜等。
缺点——铟在地壳中含量少：0.049 ppm （百万分之一） 全球预估铟储量仅5万吨，其中可开采的占50% 。中国是
主要产出国，保有储量为13014吨。
2. 产品表面存在难以洗净的污迹 光刻胶涂不匀，电极开路 3. 面电阻过大 4. 膜厚不匀 5. 玻璃平整度不良 6. 没镀SiO2膜 施加于液晶层的有效电压降低 酸刻控制难度变大 出现彩虹 字肥、扩散、鬼影

光学镀膜材料的应用及工艺（一）光学镀膜材料的分类（二）1、从化学组成上，薄膜材料可分为：氧化物类：Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等氟化物类：MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等其它化合物类：ZnS、ZnSe、PbTe等金属（合金）类：Al、Cr、Ti、Ag、Al-Ti、Ni-Cr等2、从材料功能分，镀膜材料可分为：（1）光介质材料：起传输光线的作用。

这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位，使光线按预定要求传输，也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。

（2）光功能材料：这种材料在外场（力、声、热、电、磁和光）的作用下，光学性质会发生变化，因此可作为探测、保护和能量转换的材料（如AgCl2,WO3等）。

（二）光学镀膜材料的特点从化学结构上看，固体材料（薄膜）中存在着以下键力： 1. 离子键：离子晶体中，每个离子被一定数量的异号离子所包围，离子晶体中作用力较大，所以离子键很牢固，这就决定了离子晶体具有熔点高、沸点高和硬度大、强度高的特点； 2. 共价键：主要通过同质原子贡献电子构成的极性或非极性双原子偶化学键。

共价键在气体分子结构中较为普遍，如H2,Cl2,CCl4等。

金属键中也常出现不同程度的共价键力；3. 原子键：（或金属键）：原子键也十分牢固，这类键组成的化合物（Si，SiC及氮化物）也具有硬度高、强度大和熔点高的特点； 4. 分子键（或范德华键）：把原子联结成分子的力相当大，而分子之间的键又十分弱（MgCl2等），因此，这类键组成的化合物具有熔点低，强度低的特点。

实际上，固体化合物中化合键的组成是组合型的，就是说一种化合物中原子或分子的结合力并不是纯粹由单一键连结的，往往是以上几种键交互作用的。

（三）由于化学键的特性，决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点：（1）氧化物膜料大都是双电荷（或多电荷）的离子型晶体结构，因此，决定了氧化物膜料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度。

ITO的发展之路
1.高透光率 2.极低的面电阻及高透过率 3.超平坦透明导电膜 4.在塑料基本成膜（室温成膜） 5.靶材的回收再利用
掺锡氧化铟（即Indium Tin Oxide, 简称ITO）材料是一种n型半
导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率，In2O3里掺 入Sn后，Sn元素可以代替In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形 式存在，因为In2O3中的In元素是三价，形成SnO2时将贡献一 个电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，形成 1020 至1021cm-3的载流子浓度和10至 30cm2/vs的迁移率。这 个机理提供了在10-4Ω.cm数量级的低薄膜电阻率，所以ITO薄 膜具有半导体的导电性能。 ITO是一种宽能带薄膜材料，其 带隙为3.5-4.3ev。紫外光区产生禁带的励起吸收阈值为 3.75ev，相当于330nm的波长，因此紫外光区ITO薄膜的光穿透 率极低。同时近红外区由于载流子的等离子体振动现象而产生 反射，所以近红外区ITO薄膜的光透过率也是很低的，但可见 光区ITO薄膜的透过率非常好.同时ITO还具有高的机械硬度和 化学稳定性。
致了膜具有较强的化学和机械特性
a) 耐碱性 镀层在温度为60±2℃, 浓度为10%的氢氧化钠(分析纯)溶液中浸泡5分钟, ITO 膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。 b) 耐酸性 在25±2℃, 6%盐酸(分析纯)溶液中浸泡2分钟, ITO膜的方电阻与浸泡前的方电 阻相比不得超过110%。 c) 耐溶剂性能 将镀膜玻璃放入丙酮(分析纯)、无水乙醇(分析纯) 中浸泡5分钟后，ITO膜的方 电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。 d）热稳定性:在空气中经30分钟300±5℃（触摸屏用ITO玻璃是在200±5℃）高 温后，ITO膜的方阻的变化率小于300% e）附着力: 用3M胶带粘在玻璃表面迅速撕开,ITO层无明显开裂现象 f）摩擦力 在1KG条件下用橡片摩擦ITO层表面1000次,无明显开裂现象.,

• 表示各种玻璃构件对太阳能辐射热的遮蔽 系数。其值为太阳能总透射比与3mm厚的 普通平板玻璃的太阳能总透射比的比值
• 一般地Sc=G/0.889 • 遮阳系数越小，则该试样玻璃的遮阳效果
越好
6 颜色
• 颜色可分为彩色和非彩色两大类。颜色是 彩色和非彩色的总称。
• 非彩色是指白色、黑色和各种深浅不同的 灰色。白黑系列由白色渐渐变成浅灰、中 灰、深灰到黑色。白色、黑色、和灰色它 们都是中性色。
• 销售接单时的可为与不可为：
• 因为设备及膜系的限制，并不是所有的颜 色及性能我们都可以达到的。比如深绿色 的LOW-E行业内都较难调出来，普遍采用 绿玻原片来做，蓝色就相对容易一些。
• 还有一个有些客户要求较高的可见光透过 率同时又要有较低的G值或遮阳系数，这两 者是相互矛盾的，因为一般情况下透过率 高则相应地G值或遮阳系数也高。
全一样，有时甚至有很大的差异。反射率越大则 玻璃看起来越亮。但反射率太高了会造成光污染， 一般来说在30%以上算是比较高的了。
3、U值或K值
• U值或K值称传热系数，其值是由于室内外温差， 单位时间内透过玻璃单位面积获得或损失的热量 的数值，其单位为W/m2.k。用英制表示，其单位 为BTU/小时.英尺2.F。英制单位U值乘以5.678的 转换系数得到公制单位U 值。传热系数越低，说 明玻璃的保温隔热性能越好。按照测试条件不同， 其值又分冬季和夏季两种，但两个值相差不大。 单片普通玻璃的传热系数约为5.8W/m2K， 单片 Low-E约为3.3W/m2K；普通6C+12A+6C中空玻 璃约为2.8W/m2K ，6LOW-E+12A+6C中空玻璃 约为1.7~1.8。
• LOW-E膜辐射率较低，隔热性能好。但可见光透过率高， Sc值也高，遮阳效果差，适用于北方严寒地区

磁控溅射镀cr参数-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述部分：磁控溅射镀Cr技术是一种常用的表面处理工艺，通过在真空环境下利用外加电场或磁场，将Cr靶材溅射到基板表面，形成均匀、致密的薄膜覆盖层。

这种工艺可以改善材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性能，广泛应用于电子、汽车、航空航天等领域。

本文旨在探讨磁控溅射镀Cr工艺中关键的参数设定，分析影响这些参数的因素，探讨确定最佳参数的方法，并总结磁控溅射镀Cr的优势和发展前景。

随着市场对高性能、高质量产品的需求不断增加，磁控溅射镀Cr 技术的应用也将更加广泛。

因此，正确设定磁控溅射镀Cr参数的重要性也越发凸显。

1.2 文章结构文章结构部分将会介绍本文的整体组织架构，主要包括引言、正文和结论三个部分。

引言部分将概述磁控溅射镀Cr技术的背景和重要性，结合文章的目的和结构进行介绍。

正文部分将详细介绍磁控溅射镀Cr工艺、影响磁控溅射镀Cr参数的因素以及确定最佳参数的方法。

结论部分将总结磁控溅射镀Cr的优势，探讨其发展前景，并强调参数设置的重要性。

通过这样的结构，读者可以清晰地了解本文的主要内容和论点，使得文章的逻辑性和连贯性得到更好的体现。

1.3 目的本文的目的在于深入探讨磁控溅射镀Cr的工艺特点，分析影响磁控溅射镀Cr参数的各种因素，探讨确定最佳磁控溅射镀Cr参数的方法，以及总结磁控溅射镀Cr的优势和展望其发展前景。

通过对磁控溅射镀Cr过程进行深入分析和研究，旨在为相关领域的研究和实践提供理论指导和实用建议，提高磁控溅射镀Cr技术的应用效率和产品质量，推动其在材料表面处理领域的广泛应用。

同时，强调磁控溅射镀Cr参数的重要性，为相关研究工作者和工程师提供参考和借鉴，促进该技术的不断创新和完善。

2.正文2.1 磁控溅射镀Cr工艺磁控溅射镀Cr是一种常用的表面处理工艺，通过在真空环境中利用磁场控制溅射材料，将Cr（铬）等金属材料沉积到基材表面，形成一层均匀的薄膜。

这种工艺可以使得镀层具有良好的硬度、耐磨性和抗腐蚀性能，广泛应用于电子、光学、机械等领域。

望远镜镜片镀膜工艺参数望远镜镜片镀膜工艺参数的重要性及优化方法1. 引言望远镜是人类观测天空中宏观宇宙的重要工具之一，其中镜片镀膜工艺是决定其观测效果的关键环节。

本文将以望远镜镜片镀膜工艺参数为主题，探讨其在望远镜制造中的重要性以及优化方法。

2. 望远镜镜片镀膜的作用镀膜是将一层或多层光学薄膜涂覆在光学元件表面的工艺。

对于望远镜中的镜片，镀膜有以下作用：（1）提高透过率：透过率是指镜片对特定波长的光线透射的百分比。

镀膜可以使镜片的透过率大大提高，从而提高望远镜的观测效果。

（2）减少反射：反射是指镜片对光线反射的现象。

镀膜能够减少镜片的反射率，使得观测到的图像更加清晰、细致。

（3）增强耐磨性：镀膜还可以提高镜片的耐磨性，使其在使用过程中不易划伤或磨损，延长了望远镜的使用寿命。

3. 望远镜镜片镀膜工艺参数在进行镜片镀膜时，有几个关键的工艺参数需要考虑：（1）膜层厚度：膜层厚度是指镀膜薄膜在镜片表面的厚度。

不同的波长光线需要不同厚度的薄膜来达到最佳的透过率和反射效果。

（2）反射率：反射率是指镜片对光线反射的百分比。

一般来说，望远镜镜片的反射率应尽量低，从而提高观测图像的清晰度。

（3）镀膜波段：镀膜波段是指镀膜薄膜可以透过的光谱范围。

不同的望远镜需要在不同的波段进行观测，因此镀膜波段的选择也十分重要。

（4）镀膜材料：常用的镀膜材料包括氧化物、氟化物等。

不同材料有不同的特性，因此镜片镀膜材料的选择也对观测效果产生影响。

4. 优化望远镜镜片镀膜工艺参数的方法（1）精确控制膜层厚度：通过合理设定镀膜设备中的参数，如镀膜速率、时间等，可以使得膜层厚度达到预期值，从而优化镀膜效果。

（2）优化反射率和透过率：通过选择合适的镀膜材料和调整镀膜波段，可以使得镜片的反射率和透过率达到最佳效果。

（3）周期性检测和补镀：镜片镀膜有一定的使用寿命，随着时间的推移，膜层可能会发生老化、磨损等现象。

定期进行检测，并进行必要的补镀工作，可以保持镜片的良好观测性能。

光学镀膜工艺指导
汇报人：XX 2024-01-23
目录
• 光学镀膜概述 • 光学镀膜材料与特性 • 光学镀膜工艺流程 • 关键设备与技术参数 • 质量控制与检测标准 • 环境保护、安全操作规范及故障排除
01
光学镀膜概述
定义与分类
定义
光学镀膜是在光学元件表面涂覆 一层或多层薄膜，以改变其光学 性能的技术。
眼镜行业
用于制造太阳镜、偏光镜、护目 镜等，以提高镜片的透光度、减 少反射和眩光。
光通信技术
用于制造光纤通信系统中的光学 元件，如光纤连接器、光分路器 等，以提高光信号的传输效率和 稳定性。
02
光学镀膜材料与特性
常用光学镀膜材料
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氧化物材料
如二氧化硅（SiO2）、二氧化钛（TiO2）等， 具有高透过率、低吸收等特性，常用于减反射膜 和增透膜。
03
光学镀膜工艺流程
前处理与准备工作
基片清洗
确保基片表面无尘埃、油污和其他杂 质，常采用超声波清洗、化学清洗等 方法。
基片干燥
环境准备
确保镀膜室内环境洁净，控制温度、 湿度等参数，为镀膜过程提供稳定的 环境条件。
将清洗后的基片进行干燥处理，防止 水分对镀膜过程的影响。
镀膜方法介绍
物理气相沉积（PVD）
01
利用物理方法将材料从源蒸发或溅射到基片表面，形成薄膜。
常见的方法有真空蒸发、溅射镀膜等。
化学气相沉积（CVD）
02
通过化学反应在基片表面生成薄膜。这种方法可以在较低的温
度下进行，并且生成的薄膜具有优良的性能。
溶胶-凝胶法
03
将溶胶涂抹在基片表面，通过热处理等方法使其凝胶化，形成
薄膜。这种方法适用于制备多组分氧化物薄膜等。

镀膜参数 acc
镀膜参数包括多个方面，以下列举了一些常见的镀膜参数：
1. 镀膜材料：不同的镀膜材料具有不同的折射率、透光范围、蒸发温度等参数。

例如，常用的镀膜材料有氧化铈、氟化铈、氧化镁等，它们具有不同的折射率和透光范围。

2. 镀膜工艺：镀膜工艺的不同也会影响镀膜参数。

例如，溶胶-凝胶法制备镀膜玻璃需要对环境的温度、湿度进行控制，镀膜室的温度控制在
20℃±5℃，湿度控制在50%±5%。

3. 镀膜室洁净度：镀膜室的洁净度也会影响镀膜参数。

例如，洁净度为10万级的镀膜室可以提供更好的洁净度，有利于提高镀膜质量。

4. 表干速度：表干速度是影响镀膜质量的一个重要工艺参数。

表干速度太快可能导致膜层没有流平的时间，而表干时间太长可能导致进固化炉时出现边部膜层收缩。

因此，需要根据具体情况选择合适的表干速度。

总的来说，镀膜参数包括多个方面，需要根据具体情况进行选择和控制，以达到最佳的镀膜效果。