《RENA前后清洗》PPT课件

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RENA前后清洗

三、RENA Intex前清洗（酸制绒）工艺
RENA清洗设备注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
1.RENA前清洗工序的目的：
去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤）清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl）形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O = HNO2
3.放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道，下一批则放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项：正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点:
(l)绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可进

RENA设备培训教材

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2．F8 Rinse1：水清洗1。下图是在自动状态下抓拍的。 • • • • • • • 2.1 Mode man：手动操作模式 2.2 Fill DI：充水 2.3 Draining: 排放 2.4 Star process: 循环开始 2.5 Stop :停止 2.6 Auto：自动模式充水时注意，是先从Rinse 3充，然后通过溢流管道到 Rinse 2，再到 Rinse 1.
调用补液模式下的子菜单
调用温度曲线下的子菜单调用过程监控下的子菜单调用诊断模式下的子菜单关闭报警声音调出报警详情和提示
• •
F9 service服务模式： 1.F9 inputs digital 数字量输入
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2.F8 inputs analog 模拟量输入
•
3.F7 outputs digital 数字量输出
•
3. F7 Alkaline: 碱槽
– – – – – – –
– –
Mode Manual 手动模式 Filling Di 充纯水 Filling chemie 充碱液 Rinsing 水清洗 Draining 排放 Star circulation 循环启动 Star Etching 刻蚀开始（当有片子走过时， RENA会自动按照设定值补液） Stop 停止 Mode Auto 自动模式
密码：Administrator 密码：process 密码：service
• • •
功能键介绍
Mode off 轻易不要点，模式关闭后，药液会自动排掉
•
模式关闭
。
• • •
手动模式服务模式自动模式

养老护理员培训-清洁卫生PPT幻灯片课件

48
操作步骤及Leabharlann 点携用物至床边，核对后解释
关好门窗，用屏风遮挡病人
松床尾盖被，将病人身体移向床缘面盆内倒入热水将小毛巾叠成手套状，包在手上，为病人擦浴
整理床单位，清理用物
49
擦浴顺序
洗脸及颈部眼（内眦向外眦）额部
面部耳后
颏下
上身双上肢胸腹部后颈
鼻翼颈部背部
下肢双下肢
脚部
会阴部
•
霉菌感染
• （4）0.1%醋酸溶液
•
绿脓杆菌感染者
8
用物准备患者准备环境准备护士准备
操作前准备
水杯治及疗漱盘内口备液： •球治毛、疗巾镊碗子：、生止理血盐钳水棉
•弯盘：压舌板、纱布、吸水管 •棉签、石蜡油、手电筒。 •必要时备开口器
9
10
实施
• 1、准备病人：侧卧或头偏向一侧 • 2、润滑口角：凡士林或液体石蜡 • 3、吸水漱口： • 4、擦洗： • （1）咬合上下齿：左外侧面，由内向门齿
6
中级为特殊老人清洁口腔p109
• 1、（1）特殊老人：长期卧床、病情危重、生活不能自理的老人
• （2）目的：预防口腔内局部炎症、溃疡、口臭及其他并发症。
7
2、常用漱口溶液及适应症
• （1）生理盐水
•
清洁口腔、预防感染
• （2）1%-3%双氧水
•
口腔细菌感染、有出血者
• （3）1%-4%碳酸氢钠溶液
35
评估
（五）皮肤的完整性（六）皮肤的感觉（七）皮肤的清洁度
36
（一）会阴部护理
概念
包括清洁会阴及其周围部分，可在沐浴时进行。
37

外阴擦洗和阴道灌洗PPT课件

注意保暖
操作过程中注意为患者保暖，防止受凉。
观察病情
操作过程中密切观察患者的病情变化及反应，如有异常及时处理。
健康教育
向患者及家属讲解外阴擦洗和阴道灌洗的重要性及日常护理知识，提高患者自我保健能力。
06
并发症预防与处理
并发症类型及原因
感染
由于操作不当或器械污染等原因，可能导致外阴、阴道感染，出现红肿、疼痛、分泌物异常等症
摆好体位
协助患者取仰卧位，双腿屈膝外展，臀下垫治疗巾。
擦洗外阴
戴一次性手套，用温开水浸湿棉球，按照由上至下、由内向外的顺序擦洗外阴部，每擦洗一处更换一个棉球，直至擦洗干净。
阴道灌洗流程
准备物品
阴道灌洗器、灌洗液、温开水、一次性手套等。
摆好体位
协助患者取膀胱截石位，臀下垫治疗巾。
解释操作
向患者解释阴道灌洗的目的、方法和注意事项，取得患者配合。
物品无菌。
温和操作
在擦洗或灌洗过程中，动作应轻柔、温和，避免用力过猛或使用刺激性强的清洁剂。
个体化方案
根据患者的具体情况选择合适的消毒液、润滑剂和灌洗液，避免使用可能引起过敏反应的成分。
定期评估
定期对患者的外阴、阴道状况进行评估，及时发现并处理潜
在的问题。
处理方法与步骤
感染处理
一旦发生感染，应立即停止擦洗或灌洗操作，并根据感染类型选择合适的抗生素进行治疗。同时，保持外阴清洁干燥，避免进一步感染。
灌洗阴道
戴一次性手套，将灌洗液倒入灌洗器中，排尽空气后轻轻插入阴道内，缓慢注入灌洗液，同时用棉球擦洗阴道壁，直至灌洗干净。
操作规范与注意事项
操作前评估
评估患者的病情、意识状态、合作程度及外阴部情况。

rena-技术员培训

MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切换 FILLING----给冷水机加自来水（冷水机上有液位显示） DRAINING----冷水机排水（自来水）‘
冷水机状态
9）RENA传动功能
RENA传动功能
传动状态(3个)
同时控制3 个传动
10）RENA剂量瓶
下图为刻蚀槽添加桶画面三个液位传感器,低于低液位传感器或高于高液位传感器机器都会报警, 低于中液位传感器并且高于低液位传感器系统开始加液, 加液时添加桶上方的气动阀打开(颜色变为绿色)。
刻蚀槽(HF、HNO3、H2SO4)刻蚀目的： 1. 去除硅片周边及背面P-N结，减少漏电流。 2. 去除在扩形成的磷硅玻璃，较少光的反射，降低
接触电阻。
扩散中磷硅玻璃的形成： 4 POCl3 + 3 O2 = 2 P2O5 + 6 Cl2 在较高的温度的时候， P2O5作为磷源与Si发生了如下反应： 2 P2O5 +5 Si = 5 SiO2 + 4 P 所以去磷硅玻璃清洗实质上就是去除硅片表面的SiO2。
清洗设备培训
目录
• 第一部分：RENA清洗机设备概况 • 第二部分：单晶清洗机设备概况 • 第三部分：RENA管路图 • 第四部分：RENA电路图 • 第五部分：RENA机械原理 • 第六部分：西门子 PLC
第一部分 RENA清洗机设备概况
1.1 RENA清洗机的组件 • • • •
• • •
1.1.1 RENA整机
1.1.1 RENA整机
注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。

《清洗rena》PPT课件

Rinsing源自2OK+O3HH2
cleaning
Rinsing
SiF4HF+
Bath
2HF=
HR2inSsiinFg6
SiO2 + 4HF = SiF4 + 2H2O
SiFK4OH+ HF= H2SiF6
HF
Drying
总结起来，刻n+ S蚀i 反应分成两步P：SG
n+ Si
n+ Si
1.硝酸/亚硝酸（HNO2）将硅氧化成二氧化硅（主要是亚硝酸将硅氧化）。
制作疏水表面
陷光原理图
设备简介
设备名称：InOxside 全称：Inline Edge Isolation and Oxide Etch Machine 中文含义：在线边缘隔离和氧化物刻蚀机（在线湿法刻蚀机&二次
清洗机）
InOxside的主要功能：去磷硅玻璃边缘刻蚀去金属离子
InTex各槽体的功能
查看相应部分的传感器工作状态擦拭传感器调节传感器
无液
有液
常见的报警
安全槽泄露报警（上料滚轮会停止）查看相应安全槽的状况无液：调试传感器有液：找出并解决故障，用吸酸车清理液体
冷却系统降至循环的最低温度以下或死机报警（上料滚轮停止）处理措施：重新启动启动冷冻机冷冻机开启步骤:开机时选择intex HT →Enter →factrgdefault
去PSG、去边缘
3Si+4HN去O除3+残1余8H的F酸=3H2SiF6+4NO+8H2O
Edge isolation +
Phosphor glass
HF、HNO3、etcHh2inSgO4

RENA设备工艺介绍

4
设备运行过程中碱洗槽的干燥运行保护
碱液罐碱液是否不够
5
设备工作过程中酸洗槽高温报警
查看冷却系统是否正常
6
第一道滚轮不转其他滚轮运行正常
查看滚轮感应器是否正常
感应器出错
40
RENA开机工艺准备工作：
开机前工艺人员必须确保所有的化学用液在规定范围之内，各槽参数正常，即 RENA机主界面全部是绿色的情况下方能正常运行。
15
RENA手动模式状态详解：
16
RENA刻蚀槽界面介绍：
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的自动手动切换 PT FILLING DI----储液槽加纯水 PT FILLING CHEMIE----储液槽加化学药品 SYSTERM RINSING----整个系统(包括外槽内槽储液槽)用纯水清洗
进入服务模式按扭进入手动模式按扭工艺文件进入手动添加界面
曲线图
进入报警信息界面取消蜂鸣取消报警
14
RENA主界面详细说明7:
各添加桶状态冷水机状态储液箱状态
集中供液是否READY
机器内化学品排放是否READY
储液箱进口温度储液箱设定温度储液箱实际温度冷水机内自来水的电导率
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工艺技术人员对RENA机的工作内容及要求
对于RENA机，工艺技术人员最主要的工作就是要保证片子出来后符合工艺参数要求在这边主要的一个工作内容包括以下几点： 1：保证RENA机各槽溶液的一个及时准确的更换，每个班必须记录下当天所换药品，以确保下个班工艺能及时准确的了解。（一般换碱液工艺人员控制在40分钟之内，更换蚀刻槽液体控制在3~4小时，更换HF酸控制在2~3小时）

基础护理学第五章患者的清洁卫生PPT课件

患者准备转至对侧，取出污中单、污大单，同法整理后移枕于床头中部，协助患者平卧
放平床上支架，进行口腔护理，洗脸，洗手，帮助患者梳头协助患者翻身，检查皮肤受压情况、按摩、叩背放平床上支架，进行口腔护理，洗脸，洗手，帮助患者梳头
护士准备解释、取体位、围毛巾、铺橡胶单
备齐用物携至床旁，酌情关门窗，遮挡患者患者心理状态、理解合作程度。使患者清洁舒适，预防压疮及肺炎等并发症，保持病室的整洁。患者头皮完整度及头发营养状况。
评价
患者头发清洁，感觉舒适，个人形象良好。操作时动作轻柔，保证患者安全，正确运用
节力原则。护患沟通有效，保护患者的自尊，满足患者
身心需要。
第三节皮肤护理
一般患者口腔护理用物避免局部组织长期受压
皮肤清洁卫生评估操作轻巧敏捷，符合节力原则。
仍需解除压迫，应尽量保持局部清洁、干燥。床上洗头、床上擦浴的注意事项有哪些？进行口腔护理时应怎样选择漱口液？核对、移开床旁桌、椅、移开枕头至远侧
备齐用物携至床旁，协助患者漱口（口腔护理），洗脸，洗手。操作轻巧敏捷，符合节力原则。根据卧位不同，受压点不同，好发部位也不同
大水泡用无菌注射器抽出水泡内的液体，不操作轻巧敏捷，符合节力原则。
备水、洗脸、颈部、擦洗两上肢、擦洗胸腹部、背部、擦洗下肢、会阴部、泡洗双脚、需要时修剪指、趾甲、梳头、更换床单，骨突部位用50％乙醇按摩，防止压疮的发生一般患者的口腔护理实施
一般患者口腔护理用物此期护理原则是去除坏死组织，促进肉芽组织生长，保持引流通畅，促进愈合。患者及家属了解口腔清洁方面的知识及技能。
除去污垢、头皮屑，使患者清洁、舒适、美转至对侧，取出污中单、污大单，同法整理后移枕于床头中部，协助患者平卧

RENA清洗员工培训

工序一次清洗二次清洗重新制绒返工片减薄量控制范围 4.3±0.3µm 0.9±0.2µm 1.5µm~2.5µm
返工片挑选
控制点工序类型油污、微晶片一次清洗上料台二次清洗膜未去干净每片标示为“膜未去干净”、返回 PECVD 通知工艺人员确认检查频次每片异常片处理挑出后集中处理处理流程通知工艺人员和质量人员确认
外围设施
纯水：电阻率≥15M .cm、压力≥3bar 循环冷却水：温度≤18℃，进出水压差≥3 bar 压缩空气：压力≥6 bar
设备设施
风刀压力： ≥ 150 Nm3/ h 漂洗槽进水流量： ≥ 600L/h
工艺要求
•
上料 1、手套戴法：内层汗布手套 + 外层乳胶手套更换频率：每一小时需更换手套，出入车间更换手套 2、将不同片源、不同批次、不同厚度的硅片区分开来，并分别开流程卡(流程卡上注明以上所有信息)。 3 3、制绒槽新换液的第一个班，要在流程卡上注明“新换液”字样，有利于PECVD “ ” PECVD 调整工艺。 4、上料过程中如发现有油污片、发亮片、微晶片(片源有“微晶片”说明的除外)等异常情况，需挑出集中处理并告知工艺员。 5、将缺角、隐裂等不合格硅片挑出，退库。
各槽换液频率
•
制绒(一次清洗)
类型 156多晶 125多晶制绒槽 30±5万片 45±5万片碱洗槽每班交接班时每班交接班时酸洗槽每天夜班结束时每天夜班结束时漂洗槽每班交接班换液每班交接班换液
•
注：生产如需停产≥24小时，所有槽内溶液应排掉，并清洗干净。刻蚀(二次清洗)
类型 156多晶 125多晶制绒槽 140±10万片 140±10万片碱洗槽每班交接班时每班交接班时酸洗槽每天夜班结束时每天夜班结束时漂洗槽每班交接班换液每班交接班换液

第一节清洁护理PPT课件

24
2、对于指/趾甲过硬，可先在温水中浸泡 10－15分钟，软化后再进行修剪。
25
第四节头发护理
26
一床上梳头
27
【1目的】
■按摩头皮，促进血液循环。 ■除去污垢、皮屑和脱落的头发。 ■使病员舒适、美观。
【2用物准备】
■梳一把、毛巾一条
28
【3 操作步骤】核对解释→安置体位→头下垫毛巾→梳
形
垫
洗发
用物准备
＊治疗车上备橡胶马蹄形垫或自制马蹄形卷＊治疗盘内置橡胶单、毛巾、浴巾、眼罩、棉球、别针、洗发液、梳子等
＊水壶(内盛40~45℃水)、量杯、污水桶
操作流程
核对解释→移开桌椅→安置体位→放置垫槽→保护耳眼→洗净头发→擦干梳发→整理记录
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二、头发护理技术
注意事项操作中观察病情变化,如有异常应停止操作掌握室温与水温,避免病人着凉或烫伤防止水流入眼及耳内,保护衣领和床单揉搓力量适中,避免头皮抓伤或疼痛病情危重,身体虚弱者不宜洗发
避免局部组织长期受压
◆ 定时翻身,解除局部组织持续受压:间歇性解除压力是有效预防压疮的主要措施。一般每2h翻身一次,必要时1h翻身一次, 建立翻身记录卡。翻身时避免拖拉推。
◆ 保护骨隆突处，支持身体空隙处: 将病人体位安置妥当后,在身体空隙处垫软枕、海绵垫。需要时垫海绵垫褥气垫褥、水褥等。
发不当而引起。避免用力梳。
30
头发健康与保养（知识拓展）
即定期洗发每日梳发2～3次,每次5分钟
洗发自然晾干，束发不要过紧烫染发不宜过多，经常按摩头皮
营养均衡，睡眠充足生活规律，心情舒畅
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二、床上洗发
马蹄
目的

学习课件第十一章-病人清洁的护理ppt课件

背部按摩
2019/8/30
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（一）淋浴或盆浴
适用于：能自行完成沐浴过程的病人
目的
1.去除皮肤污垢。 2.促进皮肤血液循环，预防并发症。 3.放松肌肉。 4.观察和了解病情。
2019/8/30
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（一）淋浴或盆浴
计划
实施
1. 护士准备 2. 病人准备 3. 用物准备 4. 环境准备
1.核对解释 2.送入浴室 3.协助沐浴（时间） 4.观察记录
2019/8/30
14
常用漱口水溶液
名称
作用
生理盐水
清洁口腔，预防感染
朵贝尔溶液
轻微抑菌，除臭
1﹪－3﹪过氧化氢溶液遇有机物放新生氧，抗菌除臭
0.02﹪呋喃西林溶液清洁口腔，广谱抗菌
2﹪－3﹪硼酸溶液
酸性防腐剂，抑菌
1﹪－4﹪碳酸氢钠溶液碱性药物，用真菌感染
0.1﹪醋酸溶液
用于铜绿假单胞菌感染
2019/8/30
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二、头发护理
头发护理
（一）床上梳发
去除头皮屑及污垢；刺激头部血液循环；使病人舒适、美观。
2019/8/30
（二）床上洗发
去除头皮屑及污物，清洁头发；按摩头皮；使病人舒适、美观。
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（一）床上梳发
计划
实施
1. 护士准备 2. 病人准备 3. 用物准备
治疗盘 4. 环境准备
1
口腔卫生指导
口腔卫生习惯清洁用具选择指导正确刷牙牙线剔牙发
2
义齿清洁护理
软毛刷刷洗，冷水冲净，昏迷病人白天佩戴晚上取下置于冷开水中
3
牙龈保健
按摩法轻敲
口部周围，顺时针9次，逆时针9次，按摩牙龈，先上后下，从左到右

rena清洗制绒设备培训

Hot air system 热风系统
General information / 概述
InTex Purpose: washing the speck and etch a suede on the surface of the wafers. /目的: 清洗硅片表面的污渍，并在硅片表面刻蚀出绒面。 InOxSide Purpose : remove the phosphor glass and the phosphor endowed silicon film from the bottom surface and the edges of the wafers. /目的 : 去除硅片表面的磷硅玻璃；去掉背面及四周的P-N结。
Button bar / 按钮栏
Sign off from the System / 从系统中退出 Help file for currently visible main screen / 当前界面的帮助文件 User management / 用户管理 To the main screen media supplies / 进入材料供应界面 Back from media supplies / 从材料供应界面返回主界面 Return back to the main screen from all other screens / 从其他界面返回主界面
Button bar / 按钮栏
•
Operation modes of the machine / 机器的操作模式 1.Mode Off / Off 模式 The background color of the status display is blue. The module is switched off and no outputs are switched on./该模式下状态的背景颜色是蓝色，所有模块是关闭的，没有任何输出。 2. Mode Manual / 手动模式 The background color of the status display is yellow. The module is in the manual mode. /该模式下状态的背景颜色是黄色，模块处于手动模式。 3.Mode Service / 维护模式 The background color of the status display is red. The module is in the service mode. /该模式下状态的背景颜色是红色，模块处于维护模式。 4.Mode Auto / 自动模式 The background color of the status display is green . The module is in the automatic operation mode. /该模式下状态的背景颜色是绿色，模块处于自动模式。

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当入射光入射到一定角度的斜面，光会反射到另
一角度的斜面形成二次吸收或者多次吸收，从而增加
吸收率。
腐蚀深度在4.4± 0.4µm 时，制绒后的硅片表面反射率要一般在20%~25%之间，此时得到的电性能较好。
腐蚀深度与电性能间的关系
在绒面硅片上制成PN结太阳电池，它有以下特点: (l)绒面电池比光面电池的反射损失小，如果再加减反射膜，其反射率可进一步降低。 (2)入射光在光锥表面多次折射，改变了入射光在硅中的前进方向，不仅延长了光程，增加了对红外光子的吸收，而且有较多的光子在靠近PN结附近产生光生载流子，从而增加了光生载流子的收集几率。 (3)在同样尺寸的基片上，绒面电池的PN结面积比光面大得多，因而可以提高短路电流，转换效率也有相应提高。 (4)绒面也带来了一些缺点:一是工艺要求提高了；二是由于它减反射的无选择性，不能产生电子空穴对的有害
同时，由于在扩散过程中氧的通入，在硅片表面形成一层二氧化硅，在高温下POCl3与O2形成的P2O5，部分P原子进入Si取代部分晶格上的Si原子形成n型半导体，部分则留在了SiO2中形成PSG。
后清洗的目的就是进行湿法刻蚀和去除PSG。
2.湿法刻蚀原理: 利用HNO3和HF的混合液体对扩散后硅片下表面和边缘进行腐蚀
➢ 前清洗到扩散的产品时间: 最长不能超过4小时,时间过长硅片会污染氧化，到扩散污染炉管,从而影响后面的电性能及效率
后清洗工艺培训
1.后清洗的目与原理
扩散过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路。此短路通道等效于降低并联电阻。
2.制造太阳能电池的基本工艺流程
前清洗（制绒）扩散制结
后清洗（刻边/去PSG） PECVD 镀减反膜
丝网印刷 /烧结/测试
二、前清洗（制绒）
1.制绒工艺的分类：
制绒按工艺不同可分为碱制绒和酸制绒：利用碱溶液对单晶硅不同晶面有不同的腐蚀速率
（各向异性腐蚀），经过腐蚀、在表面会出现以形成的锥体密布表面（金字塔状），称为表面织构化。
4.前清洗换药规程
5. 前清洗工序工艺要求
➢ 片子表面5S控制不容许用手摸片子的表片，要勤换手套，避免扩散后出现脏片。
➢ 称重 1.每批片子的腐蚀深度都要检测，不允许编造数据，搞混批次等。 2.要求每批测量4片。 3.放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5道，下一批则放在2.4道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
3. 酸制绒工艺涉及的反应方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 2NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 Si + HNO2 → SiO2 + NO +H2O HNO3 + NO + H2O →HNO2
2.设备构造
前清洗工艺步骤：制绒→碱洗 →酸洗→吹干
RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽，此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath
Dryer1
Rinse1
Alkaline Rinse
Rinse2
Acidic Rinse
Rinse3
Dryer2
➢ 制绒槽液面的注意事项：正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立即通知工艺人员。
➢ 产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
,去除边缘的N型硅,使得硅片的上下表面相互绝缘。
边缘刻蚀原理反应方程式： 3Si + 4HNO3+18HF =3H2 [SiF6] + 4NO2 + 8H2O
3.刻蚀中容易产生的问题及检测方法：
1.刻蚀不足：边缘漏电，Rsh下降，严重可导致失效检测方法：测绝缘电阻
2.过刻：正面金属栅线与P型硅接触，造成短路检测方法：称重及目测
但是对于多晶硅，由于晶体排列方式杂乱，如果利用碱液，无法进行腐蚀得到多凹坑的表面结构，也能起到良好的陷光作用。
单晶硅片碱制绒绒面形状多晶硅片酸制绒绒面形状
2. 陷光原理：
光在光滑半导体薄片表面上的反射、折射和透射
陷光原理图
三、前清洗（酸制绒）工艺
清洗设备注：前、后清洗设备外观相同，内部构造和作用原理稍有不同
1. 前清洗工序的目的：
➢去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） ➢清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） ➢形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率。
Etch bath：制绒槽，用于制绒。所用溶液为HF+HNO3 ，作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。
Alkaline Rinse：碱洗槽。所用溶液为KOH，作用： 1. 对形成的多孔硅表面进行清洗； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。 Acidic Rinse：酸洗槽。所用溶液为HCl+HF，作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除
前后清洗工艺培训
一、什么是太阳能电池
1.太阳能电池的原理
太阳电池是利用光生伏特效应，把光能直接转换成电能的一种器件。
它的工作原理可以概括成下面几个主要过程：第一，必须有光的照射，可以是单色光，太阳光或我们测试用的模拟太阳光源。第二，光子注入到半导体后，激发出电子—空穴对。这些电子空穴对必须有足够的寿命保证不会

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