Mura产生原因解读

mura产生原理Mura产生原理Mura是指液晶显示器中出现的亮度不均匀现象，即屏幕上出现了黑暗或亮度不一致的区域。

这种现象通常是由于液晶显示器制造过程中的不完美或外部环境因素引起的。

下面将从液晶显示器的结构、液晶分子排列和电场作用等方面介绍Mura产生的原理。

液晶显示器是由多个液晶单元组成的，每个液晶单元包含一个液晶分子层和两个电极。

液晶分子层是一种有机化合物，具有一定的电介质特性。

当外加电场作用于液晶单元时，液晶分子会发生排列，从而改变光的传播方式，实现图像的显示。

然而，由于制造过程中的一些影响因素，液晶显示器中的液晶分子排列不可避免地会出现一定程度的不均匀性。

这就是导致Mura现象的一个重要因素。

液晶分子排列的不均匀性主要表现为以下几个方面：1. 液晶分子方向不一致：液晶分子在不同区域的方向可能存在微小的差异，导致光的传播方向也不一致，从而在屏幕上形成亮暗不均的区域。

2. 液晶分子排列密度不均匀：液晶分子排列的密度不均匀也会导致光的传播方式不同。

在某些区域，液晶分子排列较为紧密，光的透过率较低，而在其他区域，液晶分子排列较为疏松，光的透过率较高，从而形成明暗差异。

3. 液晶分子层厚度不一致：液晶分子层的厚度不一致也会导致Mura现象的出现。

液晶分子层厚度的不均匀性会引起光的相位差，进而影响光的干涉和衍射效应，使得屏幕上出现光强不均的现象。

除了液晶分子排列的不均匀性，Mura现象还受到其他因素的影响，例如背光源的不均匀性、温度的变化等。

背光源的不均匀性会导致液晶显示器的亮度不一致，从而形成Mura现象。

而温度的变化会引起液晶分子的扭曲和展开，进而影响液晶分子的排列和光的传播。

为了解决Mura现象，制造商会采取一些措施。

例如，通过优化液晶分子的配方和制造工艺，减小液晶分子的方向和密度的不均匀性。

此外，还可以通过改进背光源的设计和温控系统，减少背光源和温度对Mura现象的影响。

总结起来，Mura现象是液晶显示器中常见的一种亮度不均匀现象。

第３３卷㊀第６期２０１８年６月㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀C h i n e s e J o u r n a l o fL i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a ys ㊀㊀㊀㊀㊀V o l ．３３㊀N o ．６㊀J u n ．２０１８㊀㊀收稿日期:２０１８Ｇ０１Ｇ０８;修订日期:２０１８Ｇ０２Ｇ２７．㊀㊀∗通信联系人,E Ｇm a i l :y a n gd e b o ＠b o e ．c o m．c n 文章编号:１００７Ｇ２７８０(２０１８)０６Ｇ０４６９Ｇ０６R u b b i n g Mu r a 产生机理及改善研究杨德波∗,王云志,陶㊀雄,李㊀伟,钟㊀野,罗㊀春(重庆京东方光电科技有限公司,重庆４００７１４)摘要:R u b b i n g M u r a 是以接触式摩擦工艺生产T F T _L C D 产品时常见的顽固缺陷,尤其在HA D S 产品上不良发生率更高.本文对R u b b i n g Mu r a 产生的原因及机理进行分析,发现该不良由T F T 基板上的源极线(S o u r c eD a t a ,S D )附近的R u b b i n g 弱区漏光引起.研究了R u b b i n g 强度(N i p 值)㊁R u b b i n g 布型号㊁R u b b i n g 布寿命㊁黑矩阵(B l a c k M a t r i x ,B M )加宽和S D 减薄对HA D S 产品的R u b b i n g M u r a 的影响,选择最优的工艺条件,R u b b i n g M u r a 的不良发生率由２．４％降至０％,改善效果明显.关㊀键㊀词:R u b b i n g M u r a ;HA D S 产品;R u b b i n g 弱区;工艺条件中图分类号:T N １４１．９㊀㊀文献标识码:A㊀㊀d o i :１０．３７８８/Y J Y X S ２０１８３３０６．０４６９P r i n c i p l e a n d i m p r o v e m e n t r e s e a r c ho f r u b b i n g Mu r a Y A N G D e Ｇb o ∗,WA N G Y u n Ｇz h i ,T A O X i o n g,L IW e i ,Z HO N G Y e ,L U O C h u n (C h o n g q i n g B O EO p t o e l e c t r o n i sT e c h n o l o g y C O ．,L T D ,C h o n g q i n g ４００７１４,C h i n a )A b s t r a c t :R u b b i n g M u r a i sac o mm o nd e f e c t i nt h e p r o d u c t i o no fT F T _L C D w i t hc o n t a c tr u b b i n gp r o c e s s ,e s p e c i a l l y i n t h e h i g h a d v a n c e d s u p e r d i m e n s i o n s w i t c h (H A D S )p r o d u c t i o n ．T h i s p a pe r a n a Ｇl y z e s t h e c a u s e s a n d m e c h a n i s m of t h eR u b b i ng M u r a ,a n df i n d s th a ti t i sc a u s e db y t h e l e a k a geo f l i g h t f r o mt h ew e a kz o n eo f r u b b i n g n e a r t h eS o u r c eD a t a (S D )．F u r t h e ra n a l y s i sh a sb e e nd o n eb y c o m p a r i n g t h e r u b b i n g s t r e n g t h (N i p v a l u e ),r u b b i n g c l o t h m o d e l ,r u b b i n g cl o t hl i f e ,b l a c k m a t r i x (B M )w i d e n i n g a n dS D t h i n n i n g ．T h e r a t i o o f r u b b i n g Mu r a h a s b e e n r e d u c e d f r o m２．４％t o ０％u n d e r t h em o s t o p t i m a l p r o c e s s c o n d i t i o n ,a n d t h e e f f e c t o f t h e i m pr o v e m e n t s i s q u i t e o b v i o u s ．K e y wo r d s :r u b b i n g M u r a ;s u p e r d i m e n s i o n s w i t c h p r o d u c t i o n ;w e a k z o n e o f r u b b i n g ;p r o c e s s c o n d i Ｇt i o n s１㊀引㊀㊀言㊀㊀T F T ＧL C D 光配向工艺正在逐步兴起,但以接触式摩擦的R u b b i n g 工艺仍为目前主要的配向工艺[１].摩擦工艺(R u b b i n g)是利用摩擦布表面绒毛对配向膜表面进行梳理,在配向膜上形成分子级的沿摩擦方向的沟道,一方面使液晶排列具有预倾角,另一方面使配向膜具有配向液晶的能力[２].H A D S 产品在接触式摩擦的R u b b i n g 工艺中易产生细条纹状不良的R u b b i n g Mu r a .M u r a 一词源于日语[３],M u r a 多指显示屏点灯时. All Rights Reserved.显示亮度和色度不均一的不良现象,随着显示器行业的快速发展,人们对显示器的要求也越来越高,面板制造企业对M u r a 等不良的检查也越来越严格[[４Ｇ８].本文针对１３．３i n (１i n ＝２．５４c m )H A D S 量产品出现的R u b b i n g Mu r a 从点灯现象开始确认,经过对位确认㊁移屏等多种测试及分析,发现了R u b b i n g Mu r a 产生的原因,最后基于机理分析验证了R u b b i n g 强度㊁R u b b i n g 布型号㊁R u b b i n g 布寿命㊁黑矩阵(B l a c kM a t r i x ,B M )加宽和S D 减薄对１３．３HA D S 产品的R u b b i n g M u r a 的影响,得出了最优的量产工艺条件,有效防止了R u b b i n g Mu r a 的发生,同时对于其它产品的R u b b i n g M u r a 分析及改善提供了方向.２㊀现象及机理分析２．１㊀现象R u b b i n g Mu r a 为背光和L ０画面下可见的垂直方向竖纹,整个p a n e l 均有发生,目镜下亚像素边缘一侧漏光,如图１和图２所示.图１㊀R u b b i n g Mu r a 点灯现象F i g ．１㊀L i g h t i n gp h e n o m e n o no fR u b b i n g Mu ra 图２㊀R ub b i n g Mu r a 目镜现象F i g ．２㊀E y e p i e c e p h e n o m e n o no fR u b b i n g Mu r a ２．２㊀原因分析常见的亚像素边缘漏光产生的原因有很多,如:对位偏差过大㊁膜层段差过大㊁边缘场效应等.T F T 和C F 对位偏差太大后T F T 侧的金属线无法被C F 侧的B M 遮挡而导致像素周边漏光;C F 或T F T 侧段差过大,R u b b i n g 工艺过程中弱区部分的配向膜未能得到有效配向而导致像素边缘的液晶分子偏转紊乱,进而在背光或者L ０画面下出现漏光不良;边缘场效应即I T O 边缘与公共电极重叠会产生边缘电场,像素边缘的横向电场会影响像素周边液晶分子的正常偏转而产生漏光不良.２．２．１㊀对位分析１３．３i nH A D S 产品的对位精度为ʃ５ ５μm ,选取不同G l a s s 的不良样品１５P c s 在显微镜下读取表征对位精度的V e r n i e rk e y (V K )值,所读数值如表１所示,其中X １㊁X ２㊁Y １㊁Y ２㊁Y ３和Y ４所表示的位置如图３所示.表１㊀不良样品的V e r n i e r k e yT a b ．１㊀V e r n i e r k e y o f b a d s a m pl e s 样品编号Y １Y ２Y ３Y ４X １X ２１０．５１１１－１－１２－１－１－１－０．５－１－０．５３－０．５－１－１．５－１．５－１０４－１－１－２．５－２０．５０．５５－１－１－１．５－１．５００６－１－１－１．５－１．５００７－０．５－１－１．５－１１．５１８－２－１．５－２－２１０．５９１－０．５１．５１－１－０．５１０－１－１－１．５－２－１－０．５１１－１．５－１－０．５－０．５－１－１１２０－１００１．５０．５１３０１００．５０．５１１４－１．５－０．５－２－２００１５０１００１０．５从表１中数据可看出１５个不良样品的X 向和Y 向的V K 值均在对位精度范围内.说明像０７４㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３３卷㊀. All Rights Reserved.图３㊀V e r n i e r k e y所在的位置示意图F i g．３㊀L o c a t i o nm a p o fV e r n i e r k e y素边缘漏光与对位没有相关性.２．２．２㊀移屏分析将不良屏四周的封框胶割开,然后用力将T F T侧玻璃与C F侧玻璃相对移动一定的距离后在背光下观察,如图４所示.从图４中可看出,漏光位置随着T F T侧移动,并且漏光位置均在T F T侧S D线附近,分布规律即从R u b b i n g 方向看漏光侧为R u b b i n g辊的下坡区,说明该不良的亚像素边缘漏光与R u b b i n g辊的下坡区相关.图４㊀R u b b i n g M u r a移屏现象F i g．４㊀S h i f t s c r e e n p h e n o m e n o no fR u b b i n g M u r a ２．２．３㊀R u b b i n g M u r a产生机理T F T基板经过A r r a y工艺后由于制作了很多线路,基板表面各层段差的存在无法做到绝对的平坦[９],如图５所示在S D线位置有凸起,凸起的地方按R u b b i n g方向可分为上坡区和下坡区,相比上坡区,下坡区能得到布毛摩擦的能力较低,从而使该区域的配向膜得不到有效的配向,进而产生液晶配向紊乱,由于H A D S产品为常黑模式,L０点灯时正常区域的液晶不发生偏转,所以在背光或L０画面下液晶配向紊乱的下坡区便产生漏光.图５㊀上坡区和下坡区示意图F i g．５㊀S c h e m a t i c o f u p h i l l a n dd o w n h i l l a r e a s３㊀改善措施及效果从R u b b i n g M u r a产生的机理得知,弱区改善是改善R u b b i n g M u r a的总体方向,为此本文从R u b b i n g强度㊁R u b b i n g布型号㊁R u b b i n g布寿命㊁B M加宽和S D减薄４个方面进行试验,寻找出最优的量产工艺条件.以发生不良屏的数量与投入数量的比值作为评价R u b b i n g M u r a的发生率,检测标准为L０画面可见细条竖纹㊁左右视角不反转且目镜下S D弱区有漏光判定为R u b b i n g M u r a.目前的量产条件为:N i P值是１２．５mm㊁R u b b i n g布型号是５３１８㊁R u b b i n g布寿命２００㊁B M宽度是７．５μm㊁S D厚度是３００n m .图６㊀R u b b i n g设备的结构和N i p值示意图F i g．６㊀S c h e m a t i co fR u b b i n g d e v i c es t r u c t u r ea n dN i p v a l u e３．１㊀摩擦强度对R u b b i n g M u r a的影响R u b b i n g工艺中,R u b b i n g布与玻璃基板接触的两个端点之间的距离L即为N i p值,如图６所１７４第６期㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀杨德波,等:R u b b i n g M u r a产生机理及改善研究. All Rights Reserved.示,N i p 值大小可反应摩擦强度,N i p 值越大,摩擦辊下压量越大,R u b b i n g 强度也越大.本实验采用N i p 值为１２．５mm ㊁１３．５mm ㊁１４．５mm ,其他工艺条件采用量产条件制备液晶屏.模组检出结果如表２所示.表２㊀N i P 值与R u b b i n g Mu r a 发生率T a b ．２㊀R a t i oo fR u b b i n g M u r a v sN i PV a l u e N i p 值/mm 投入数量/P c s M u r a 发生率/％１２．５５７６０２．４７１３．５５７６０１．５１１４．５５７６０１．１１从表２中数据可知:N i P 值越大,R u b b i n g 布的压入量越大,S D 弱区被削弱,R u b b i n g Mu r a 发生率降低,但N i P 值大到一定程度时也会产生R u b b i n g 相关的其他不良,当N i P 值增大到１４ ５mm 时出现由摩擦造成了３．７％的竖线,原因为摩擦强度太大造成部分布毛受损,从而导致P I 膜面异常,点灯现象L ０画面左右视角反转,S D 弱区无漏光现象,与R u b b i n g M u r a 现象和原因不一样.选择N i P 值为１３．５mm 时R u b b i n g M u r a 发生率由２．４７％降到１．５１％,同时又无R u b b i n g 相关的其他不良产生.３．２㊀R u b b i n g 布寿命对R u b b i n g Mu r a 的影响本实验在N i P 值为１３．５mm 且其他工艺条件采取量产条件下制备液晶屏,选择一条R u b b i n g 线进行R u b b i n g C l o t h 寿命２００管控,A 辊和B 辊的布寿命对应玻璃的R u b b i n g M u r a 发生率如图７所示.(a)A 辊(a )Ar o l l e r从图７中可看出,A 辊和B 辊所制备的T F T玻璃的R u b b i n g M u r a 发生率均随着R u b b i n g布(b )B 辊(b )Br o l l e r图７㊀C l o t h 寿命与R u b b i n g Mu r a 发生率F i g ．７㊀R a t i oo fR u b b i n g Mu r a v s c l o t h l i f e 寿命的增加而增加,R u b b i n g 布寿命的增加,R u b b i n g 布的绒毛磨损越大,对于T F T 侧弱区的配向膜的配向能力减弱,当R u b b i n g 布寿命小于８０时,R u b b i n g M u r a 平均发生率为１．２６％,而当其寿命大于８０时,不良的平均发生率则达到了２．９７％.３．３㊀R u b b i n g 布型号对R u b b i n g Mu r a 的影响本实验在N i P 值为１３．５mm 和R u b b i n g 布寿命管控８０,其它条件采用量产条件,选择５３１８㊁７０１８和T １１６三种不同密度的尼龙布制备液晶屏,这三种布的密度大小排序为５３１８＜７０１８＜T １１６,模组检出结果如表３所示.表３㊀布型号与R u b b i n g M u r a 发生率T a b ．３㊀R a t i oo fR u b b i n g M u r a v sC l o t hm o d e l 布型号投入数量/P c s M u r a 发生率/％５３１８５７６０１．２１７０１８５７６００．５４T １１６５７６００．２８从表３可知:R u b b i n g Mu r a 发生率随着R u b b i n g 布密度的增大而降低.布毛密度越大,弱区越容易被摩擦接触,不良发生率也随之降低,高密度的T １１６不良率已降至０．１８％,同时也无相关的其他不良出现.３．４㊀B M 宽度对R u b b i n g Mu r a 的影响本实验在N i P 值为１３．５mm ㊁布寿命管控８０和布型号采用T １１６,其它条件采用量产条件下,制备B M 宽度为７．５μm ㊁８．０μm 和８．３μm 的液晶屏,模组检出结果如表４所示.２７４㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３３卷㊀. All Rights Reserved.表４㊀B M 宽度与R u b b i n g Mu r a 发生率T a b ．４㊀R a t i oo fR u b b i n g M u r a v sB M w i d t h B M C D /μm 投入数量/P c s M u r a 发生率/％７．５５７６００．２８８．０５７６００．１５８．３５７６００．０６从表４可知,R u b b i n g Mu r a 发生率随着B M 宽度的增加而降低,加宽至８．３μm 后R u b b i n gM u r a 发生率降至０．０６％,由于工艺条件及透过率限制,B M 加宽至８．３μm 已接近工艺管控上限,但仍具备量产性且透过率也在规格范围内,同时也无相关的其他不良出现.３．５㊀S D 减薄对R u b b i n g Mu r a 的影响本实验在N i P 值为１３．５m m ㊁布寿命管控８０㊁布型号采用T １１６和B M 加宽至８．３μm ,其它条件采用量产条件制备S D 线厚度为２００n m 和３００n m 进行液晶屏的制备,模组检出结果如表５所示.从表５可知,在摩擦强度㊁布寿命㊁布型号和B M 宽度最优条件下S D 减薄至２００n m 后,R u b b i n g 表５㊀S D 减薄与R u b b i n g Mu r a 发生率T a b ．５㊀R a t i oo fR u b b i n g M u r a v sS Dt h i n n i n g S D 厚度/n m 投入数量/P c s M u r a 发生率/％３００７６８００．０６２００７６８００M u r a 发生率可降至０.台阶高度的降低,使得R u b b i n g 弱区缩小,进一步降低了弱区配向紊乱导致漏光发生几率.S D 减薄一方面信赖性评价结果无异常,也无相关的其他不良出现,另一方面还能降低生产成本.４㊀结㊀论R u b b i n g Mu r a 因T F T 侧S D 线下坡区配向膜未能得到有效配向导致该区域的液晶配向异常而产生漏光,以上试验表明,优化摩擦强度㊁布毛型号㊁源极线厚度和黑矩阵宽度可以有效改善R u b b i n g Mu r a ,且优化后的工艺条件既具有量产性又同时降低了生产成本.参㊀考㊀文㊀献:[１]㊀张龙,陈霖东,江桥,等．非接触式配向工艺(光配向工艺)Z a r aP a r t i c l e 不良产生机理分析及改善方向研究[J ]．电子世界,２０１７(１１):１１７Ｇ１１９．Z HA N GL ,C H E NLD ,J I A N G Q ,e t a l ．P r i n c i p l e a n d i m p r o v i n g r e s e a r c ho f Z a r aP a r t i c l e o f n o n Ｇc o n t a c t r u b b i n g p r o c e s s (P h o t o ＧA l i gn m e n t p r o c e s s )[J ]．E l e c t r o n i c sW o r l d ,２０１７(１１):１１７Ｇ１１９．(i nC h i n e s e )[２]㊀申智源．T F T ＧL C D 技术:结构㊁原理及制造技术[M ]．北京:电子工业出版社,２０１２．S H E NZY．T F T ＧL C D T e c h n o l o g y :S t r u c t u r e ,P r i n c i p l e a n d M a n u f a c t u r i n g T e c h n i qu e s [M ]．B e i j i n g :P u b l i s h Ｇi n g H o u s e o fE l e c t r o n i c s I n d u s t r y,２０１２．(i nC h i n e s e )[３]㊀张鹏,马婷婷,杨叶花,等．液晶显示器M u r a 缺陷及测量方法浅析[J ]．电子测试,２０１７(６):５０Ｇ５２．Z HA N GP ,MATT ,Y A N GY H ,e t a l ．M u r a d e f e c t a n dm e a s u r e m e n tm e t h o d o f l i q u i d c r y s t a l d i s p l a y [J ]．E l e c Ｇt r o n i cT e s t ,２０１７(６):５０Ｇ５２．(i nC h i n e s e)[４]㊀Z HA N G W ,S O N GSH ,L I J ,e t a l ．A n a l y s i s o f r u b b i n g M u r a i n f r i n g e f i e l ds w i t c h i n g l i q u i dc r y s t a l d i s p l a y [J ]．S I DS y m p o s i u m D i g e s t o f T e c h n i c a lP a pe r s ,２０１３,４４(１):１１２２Ｇ１１２５．[５]㊀高荣荣,姚成宜,叶超前,等．关于T N 型T F T ＧL C D 中周边M u r a 的分析与改善[J ]．电子世界,２０１４(１８):１６０．G A O R R ,Y A OCY ,Y ECQ ,e t a l ．A n a l y s i s a n d i m p r o v e m e n t o f E d g eM u r a i nT Nt y peT F T –L C D [J ]．E l e c Ｇt r o n i c sW o r l d ,２０１４(１８):１６０．(i nC h i n e s e)[６]㊀石天雷,杨国波,刘亮,等．O D F 工艺用封框胶的研究[J ]．光电子技术,２０１１,３１(３):２１１Ｇ２１４．S H ITL ,Y A N GGB ,L I UL ,e t a l ．T h e r e s e a r c h o f s e a l a n t u s e d i nO D F p r o c e s s [J ]．O p t o e l e c t r o n i cT e c h n o l o g y ,２０１１,３１(３):２１１Ｇ２１４．(i nC h i n e s e)[７]㊀毕昕,丁汉．T F T ＧL C D M u r a 缺陷机器视觉检测方法[J ]．机械工程学报,２０１０,４６(１２):１３Ｇ１９．B IX ,D I N G H．M a c h i n e v i s i o n i n s p e c t i o nm e t h o d o fM u r a d e f e c t f o rT F T ＧLCD [J ]．J o u r n a l o f M e c h a n i c a lE n gi Ｇ３７４第６期㊀㊀㊀㊀㊀㊀㊀杨德波,等:R u b b i n gM u r a 产生机理及改善研究. All Rights Reserved.４７４㊀㊀㊀㊀液晶与显示㊀㊀㊀㊀㊀㊀第３３卷㊀n e e r i n g,２０１０,４６(１２):１３Ｇ１９．(i nC h i n e s e)[８]㊀T S A I J Z,C HA N GRS,L I T Y．D e t e c t i o n o f g a p M u r a i nT F TL C D s b y t h e i n t e r f e r e n c e p a t t e r n a n d i m a g e s e n s i n g m e t h o d[J]．I E E E T r a n s a c t i o n s o nI n s t r u m e n t a t i o na n d M e a s u r e m e n t,２０１３,６２(１１):３０８７Ｇ３０９２．[９]㊀桑胜光,车晓盼,王嘉黎,等．高P P IA D S产品白M u r a不良产生原理及改善研究[J]．液晶与显示,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．S A N GSG,C H EXP,WA N GJL,e t a l．P r i n c i p l e a n d i m p r o v i n g r e s e a r c ho fw h i t em u r a d e f e c t i nh i g hP P IA D Sp r o d u c t[J]．C h i n e s eJ o u r n a l o f L i q u i dC r y s t a l s a n dD i s p l a y s,２０１６,３１(５):４３５Ｇ４４１．(i nC h i n e s e)作者简介:杨德波(１９８９－),男,贵州遵义人,硕士,中级工程师,主要从事液晶显示面板的产品良率监管㊁不良解析及改善工作.EＧm a i l:y a n g d e b o＠b o e．c o m．c n. All Rights Reserved.。

面板斜纹Mura不良分析及改善对策研究摘要：所谓的斜纹Mura为面板通电后，在不同区域显示灰度不一致的斜条纹，通过分析本文中的内容可以看出,主要是因为氧化铟锡ITO2 孔层线宽CD偏大导致条纹Mura，加上佳能曝光机月牙形状机构，面板在治具上点亮后宏观表现为斜纹Mura。

鉴于此，本文就斜纹Mura不良分析及改善对策展开探讨，以期为相关工作起到参考作用｡关键词：面板驱动；斜纹Mura；ITO2 CD；穿透率1.不良现象分析1.1 面板驱动原理简介面板驱动电路由LC驱动模块+TFT开关模块进行驱动通电显示。

通过给MOS管栅极Gate施加一定的正电压后，栅极Gate吸引电子形成导通沟道，再给MOS管源极S通以负电压提供电子流入。

当电子通过导通沟道达到漏极D时，整个MOS管处于工作状态，即可提供Cs液晶电容进行充放电，Cs液晶电容放电过程中极板间形成电势差，即可驱动面板内的液晶分子水平旋转排列，从而驱动像素显示。

如图1：图1 图2 不良现象1.2 斜纹Mura不良原因分析本文所述的斜纹Mura为面板通电后白灰画面下发黑，呈斜纹形状，显示程度大于客户要求ND1.0，ND Filter滤光片，为通过彩色滤光片后穿透率，ND越小，穿透率越大。

如图:2：2.斜纹Mura产生原因分析2.1．扫描电子显微镜观察曝光是利用高能量UV光做曝光光源，透过光罩使光束局部通过透光区至光阻上，使得光阻之感光剂产生分解或聚合图形转移首重线宽转移，一般要求分辨率线宽CD越低越好。

不良面板剖面后，在扫描电子显微镜SEM下观察剖面区域,发现不良区域曝光后ITO2 CD实做比设计值偏大0.5um（实做：2.5~2.6um，设计：2.1um）｡从电场角度确认：当CD&Space（CD间距）有偏差时，ITO2与ITO1两电级电压差产生的水平电场受影响，液晶偏转的角度受限，从而导致光学穿透率下降，进而产生亮暗不均现象，即斜纹Mura。

液晶显示行业里的mura是什么，Mura是由什么引起？mura本来是一个日本字, 随着日本的液晶显示器在世界各地的发展, 这个字在显示器界就变成一个全世界都可以通的文字。

mura？是什么？简单来说mura是指显示器亮度不均匀, 造成各种痕迹的现象。

为什么会有Mura产生？其实，Mura产生的主要原因就是视觉上对于感受到的光源有不同的频率响应而感觉到颜色的差异。

一、CF制程膜厚因为膜厚的Coating不均，会导致产生色不均之现象。

Coating在涂布时如果喷嘴有阻塞的情况，即会造成Vertical Mura。

二、TFT制程Over LapTFT的主要构成为层与层之间的相互交叠，若某一层在制作过程中发生偏移就会产生异常，可能影响TFT的特性而造成Mura。

三、LCD制程Cell GapCell Gap不均，会造成偏高或偏低阶的Mura现象。

Spacerspacer散布的均匀性及spacer本身原材料的均匀性都有可能影响Mura的产生。

Roller因机台Roller的压力过大或是轮子上沾附异物，造成面板经过滚轮后而产生丸状或条状Mura。

Stage因机台Stage吸力过大而造成吸附后形成Stage Mura ，或Stage 的平整度不佳当经过制程机台后，亦有可能产生相关性的Mura。

四、LCM制程Roller因机台Roller的压力过大或是滚轮上沾附异物，造成面板经过滚轮后而产生丸状或条状Mura。

Vacuum因Stage吸力过大而造成吸附后形成StageMura。

Black-Light：B/L本身膜材不良或其他来料造成异常亦会形成Mura现象，通常以交叉验证等方式确认背光是否有异常现象。

五、偏光片偏光片本身来料不良，造成偏贴后形成Mura，通常更换偏光板后即OK。

六、人为因素因拿取Panel方式不当，手指按压到面板的力量过大，易造成丸状Mura。

Mura怎么判定？Mura的判定通常于百分之五十Gary Pattern书面判定，其Judge的方式可采用Limit Sample or ND Filter.。

mura补偿原理
MURA是指液晶面板在制造过程中所产生的不均匀性，导致
显示屏在显示画面时出现不均匀的亮度、色彩等现象。

MURA补偿原理是通过调整液晶显示面板的电压和光栅结构，以消除或减小MURA现象的方法。

MURA补偿原理主要包括以下几个方面：
1.电压分配补偿：根据液晶面板上各个像素单元的电压特性，
对电压进行精确分配，以消除不同区域之间的亮度差异。

通过调整电压曲线，使得所有像素单元的亮度尽量趋于一致。

2.光栅结构调整补偿：通过调整液晶分子的排列方式和光栅结构，使得光线在液晶面板上的传输更加均匀。

这样可以减小或消除因光线传输不均匀而导致的MURA现象。

3.背光源调整补偿：背光源是液晶显示屏的主要光源，其均匀
性直接影响显示效果。

通过调整背光源的亮度、色温等参数，以达到均匀照明液晶面板的效果。

通过以上方法的组合应用，可以有效地减小或消除MURA现象，提高液晶显示屏的显示品质。

彩色滤光片外观 Mura简介摘要：彩色滤光片（Color Filter）是LCD液晶显示器的重要部件之一，其生产过程中外观Mura管控是品质质量管控的重要环节。

本文针对彩色滤光片外观mura的形貌、产生原因分析及处理对策简单介绍，本文介绍只针对Macro设备（宏观检查机）内不同光源下肉眼观察外观不良，可以对显示行业或者半导体行业的外观品质管控提供参考借鉴。

关键词：彩色滤光片；外观MURA前言：彩色滤光片是LCD颜色产生的重要部件，通过光的三原色（RGB）加法混合原理显示颜色。

三原色叠加能形成1670万种色彩，色彩有三种特性：明亮、色度、彩度。

本文介绍的mura则对明亮度有很大的影响，外观mura指的是显示器亮度不均、造成各种痕迹的现象。

Mura的产生影响CF的品质及客户的满意度。

文章主要介绍四种外观不良：点状、线状、膜面污染及镀膜色差。

一、点状Mura下面简单介绍五类CF场内常见的点状mura。

一、Stage Pin MURA一般是设备机台上有异物导致，整面大板位置固定，常见设备是涂布机和曝光机，如果是连续发生和涂布机Stage关联较大，而曝光机Stage上异物产生点状MURA不良会呈奇偶分布，背白灯光下可见，绿灯下观察形态似山丘，随着光源移动光晕会呈现大小变化；设备平台上沾附异物灰尘或者清洁作业时带入或者异常基板流片是带入等。

二、Lift Pin MURA常见设备有VCD和HPCP，呈现片间差异性，上白灯和上钠灯光源下外观检查可见，呈圆点状有规律等间距排布，存在设备单元集中性，主要原因是光阻未固化前VCD真空和HP预烘烤对玻璃基板造成影响。

三、手指纹mura一般是显影机腔室内显影液滴落导致，分布无规律，macro外观上白、上钠、绿灯、手持荧光灯均可见发亮不规则状或者类似拇指按压状。

四、背污mura一般是基板在传输过程中与滚轮摩擦产生的不良。

常见设备有显影机和清洗机。

绿灯下可见发亮。

五、光阻残MURA 导致光阻残出现的设备比较多且不规则、位置也不固定。