破坏臭氧层物质清单
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[破坏臭氧层的物质有哪几种?]
国际组织《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》及其该《议定书修正》规定了15种氯氟烷烃(CFCs)、 3种哈龙、40种含氢氯氟烷烃(HCFCs)、34种含氢溴氟烷烃(HBFCs)、四氯化碳(CCl4)、甲基氯仿(CH3CCl3)和甲基溴(CH3Br)为控制使用的消耗臭氧层物质,也称受控物质,破坏臭氧层的物质有哪几种?。
氯氟烷烃(CFCs)。
此类化合物自1928年人类首次合成后被以多种方式使用,冰箱、空调制冷剂、气雾剂制品中的推进剂(CFC11、CFC12)、生产靠垫和垫子的软发泡剂、印刷线路板和其它设备的清洗剂等。
含氢氯氟烷烃(HCFC),法学论文《破坏臭氧层的物质有哪几种?》。
◆分享好文◆此类物质是CFCs的一种过渡性替代品,HCFC因为含有H,使得它在底层大气易于分解,对O3层的破坏能力低于CFCs,但长期和大量使用对O3层危害也很大。
在工程和生产中作为溶剂的四氯化碳(CCl4)和甲基氯仿(CH3CCl3)同样具有很大的破坏O3层的潜值,所以也被列为受控物质。
溴氟烷烃主要是哈龙:哈龙1211(CF2BrCl)、哈龙1310(CF3Br)、哈龙2420(C2F4Br2),这些物质一般用作特殊场合的灭火剂。
此类物质对臭氧层最具破坏性,比CFCs高3~10倍,1994年发达国家已经停止这3种哈龙的生产。
近年来,主要用于土壤熏蒸和检疫的另一种破坏臭氧层的含溴化合物即甲基溴(CH3Br)引起了人们的重视,它也被列为受控物质。
破坏臭氧层的物质有哪几种?。
厦门市站胜研发科技有限公司
臭氧破坏以及温室气体排放源清单
注1:GHG--(Greenhouse Gas, GHG)或称温室效应气体;是指大气中那些吸收和重新放出红外辐射的自然和人为的气态成分,包括对太阳短波辐射透明(吸收极少)、对长波辐射有强烈吸收作用的二氧化碳、甲烷、一氧化碳、氟氯烃及臭氧等30余种气体。
《京都议定书》中规定的六种温室气体包括如下:二氧化碳(CO2);甲烷(CH 4);氧化亚氮(N 2O);氢氟碳化物(HFCS);全氟化碳(PFCS);六氟化硫(SF6)。
注2:根据<蒙特利尔议定书>和<维也纳公约>可能改变臭氧层的化学和物理特性的物质包括:甲烷(CH4 )、一氧化碳(CO)、非甲烷烃类物种、氧化亚氮(N2O)、氮氧化物(NOx)、完全卤化链烷、部分卤化链烷。
消耗臭氧层的物质有哪些
消耗臭氧层物质(ODS)主要来源于人工合成的一些含有卤族元素的化合物,它们是造成平流层臭氧损耗的最重要因素,这些造成臭氧层破坏的化合物统称为臭氧层损耗物质。
目前的臭氧层损耗物质包括:1、氟氯化碳和哈龙,主要是氟利昂CFC-11、CFC-12等和哈龙Halon-1211、Halon-1301、Halon-2402;2、其他全卤化氟氯化碳,如CFC-13、CFC-111等10种化合物;3、四氯化碳和甲基氯仿;4、氟氯烃类,如HCFC-21、HCFC-22等共74种;5、甲基溴。
在臭氧层的研究和保护过程中,特别受到关注的是氟利昂和哈龙类化合物。
科学研究发现,这些物质在对流层中不发生光分解作用,也基本不在对流层被氧化,由于难溶于水,也不易被降水去除。
因此这些臭氧损耗物质的大气寿命相当长。
科学研究表明,氟利昂类物质也是温室气体,它们吸收红外辐射的能力比二氧化碳要强得多,因此具有破坏臭氧层和影响全球气候变化的双重效应。
国际组织《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》及其该《议定书修正》规定了15种氯氟烷烃(CFCs)、 3种哈龙、40种含氢氯氟烷烃(HCFCs)、34种含氢溴氟烷烃(HBFCs)、四氯化碳(CCl4)、甲基氯仿(CH3CCl3)和甲基溴
(CH3Br)为控制使⽤的消耗臭氧层物质,也称受控物质。
氯氟烷烃(CFCs)。
此类化合物⾃1928年⼈类⾸次合成后被以多种⽅式使⽤,冰箱、空调制冷剂、⽓雾剂制品中的推进剂(CFC11、CFC12)、⽣产靠垫和垫⼦的软发泡剂、印刷线路板和其它设备的清洗剂等。
含氢氯氟烷烃(HCFC)。
此类物质是CFCs的⼀种过渡性替代品,HCFC因为含有H,使得它在底层⼤⽓易于分解,对O3层的破坏能⼒低于CFCs,但长期和⼤量使⽤对O3层危害也很⼤。
在⼯程和⽣产中作为溶剂的四氯化碳(CCl4)和甲基氯仿(CH3CCl3)同样具有很⼤的破坏O3层的潜值,所以也被列为受控物质。
溴氟烷烃主要是哈龙:哈龙1211(CF2BrCl)、哈龙1310(CF3Br)、哈龙2420(C2F4Br2),这些物质⼀般⽤作特殊场合的灭⽕剂。
此类物质对臭氧层破坏性,⽐CFCs⾼3~10倍,1994年发达国家已经停⽌这3种哈龙的⽣产。
近年来,主要⽤于⼟壤熏蒸和检疫的另⼀种破坏臭氧层的含溴化合物即甲基溴(CH3Br)引起了⼈们的重视,它也被列为受控物质。
招商局物流集团上海奉贤有限公司破坏臭氧层物质清单序号物质名称通常涉及范围我公司使用范围1.碳化物二氧化碳(C02)空气2.C0(一氧化碳) /3.甲烷(CH4)4.非甲烷烃类物种/5.氮化物氧化亚氮(N2O) /6.氮氧化物(NOx) /7.氢物质氢(H2) 空气8.水水(H2○)生活区编制:狄新华审核:破坏臭氧层物质特性(a) 碳物质一氧化碳(CO)一氧化碳的重要来源是自然界和人类,据认为对对流层的光化过程有重要的直接作用,对平流层的光化过程则有间接作用。
二氧化碳(CO2)二氧化碳的重要来源是自然界和人类,通过影响大气的热构造而影响到平流层的臭氧。
甲烷(CH4)甲烷来自自然界和人类。
对平流层和对流层的臭氧都有影响。
非甲烷烃类物种非甲烷烃类物种含有许多化学物质,来自自然界和人类,对对流层的光化过程有直接作用,对平流层光化过程则有间接作用。
(b) 氮物质氧化亚氮(N2O)氧化亚氮主要来自自然界,不过人类来源也变得愈来愈重要。
氧化亚氮是平流层NOx的主要来源,NOx对于平流层臭氧充裕的控制有重要作用。
氮氧化物(NOx)NOx的地平面来源,只对对流层的光化过程有直接的重要作用,对平流层的光化过程则有间接作用,而接近对流层顶的NOx注射可能对上对流层和平流层的臭氧直接引起变化。
(c) 氢物质氢(H2)氢是来自自然界和人类,对平流层的光化过程的作用不大。
水(H2○)水来自自然界,对平流层和对流层的光化过程都有重要作用。
平流层水蒸气的本地来源包括甲烷的氧化以及较小程度上氢的氧化。
什么是ODCs/臭氧层破坏物质ODCs检测消耗物质列表 Ozone Depleting Substances(ODS) List中文名称 English Name CAS NO.氟氯碳化物 / CFCs (Chlorofluorocarbons)Group I碳化物-11 Chlorofluorocarbon-11 000075-69-4氟氯碳化物-12 Chlorofluorocarbon-12 000075-71-8氟氯碳化物-113 Chlorofluorocarbon-113 000076-13-1氟氯碳化物-114 Chlorofluorocarbon-114 000076-14-2氟氯碳化物-115 Chlorofluorocarbon-115 000076-15-3 Group III氟氯碳化物-13 Chlorofluorocarbon-13 000075-72-9氟氯碳化物-111 Chlorofluorocarbon-111 000354-56-3氟氯碳化物-112 Chlorofluorocarbon-112 000076-12-0氟氯碳化物-211 Chlorofluorocarbon-211 000422-78-6氟氯碳化物-212 Chlorofluorocarbon-212 003182-26-1氟氯碳化物-213 Chlorofluorocarbon-213 002354-06-5氟氯碳化物-214 Chlorofluorocarbon-214 029255-31-0氟氯碳化物-215 Chlorofluorocarbon-215 004259-43-2氟氯碳化物-216 Chlorofluorocarbon-216 000661-97-2氟氯碳化物-217 Chlorofluorocarbon-217 000422-86-6氯化碳氢化物 / CHCs (Chlorinate hydrocarbon)1,1,1,2-四氯乙烷 1,1,1,2-Tetrachloroethane 000630-20-6 1,1,1-三氯乙烷 1,1,1-Trichloroethane 000071-55-61,1,2,2-四氯乙烷 1,1,2,2-Tetrachloroethane 000079-34-5 1,1,2-三氯乙烷 1,1,2-Trichloroethane 000079-00-51,1-二氯乙烷 1,1-Dichloroethane 000075-34-31,1-二氯乙烯 1,1-Dichloroethene 000075-35-41,1-二氯丙烯 1,1-Dichloropropene 000563-58-61,2,3-三氯丙烷 1,2,3-Trichloropropane 000096-18-41,2-二氯乙烷 1,2-Dichloroethane 000107-06-21,2-二氯丙烷 1,2-Dichloropropane 000078-87-51,3-二氯丙烷 1,3-Dichloropropane 000142-28-92,2-二氯丙烷 2,2-Dichloropropane 000594-20-7四氯甲烷(四氯化碳) Carbon tetrachloride 000056-23-5氯乙烷 Chloroethane 000075-00-3氯仿 Chloroform 000067-66-3氯甲烷 Chloromethane 000074-87-3顺-1,2-二氯乙烯 cis-1,2-Dichloroethene 000156-59-2顺-1,3-二氯丙烯 cis-1,3-Dichloropropene 010061-01-5六氯丁二烯 Hexachlorobutadiene 000087-68-3二氯甲烷 Dichloromethane 000075-09-2四氯乙烯 Tetrachloroethene 000127-18-4反-1,2-二氯乙烯 trans-1,2-Dichloroethene 000156-60-5反-1,3-二氯丙烯 trans-1,3-Dichloropropene 010061-02-6三氯乙烯 Trichloroethylene 000079-01-6 24项哈龙(Halons)哈龙-1211 Halon-1211 000353-59-3哈龙-1301 Halon-1301 000075-63-8哈龙-2402 Halon-2402 000124-73-2不完全卤化氟溴化物 / HBFCs (Hydrobromofluorocarbons) 34项不完全卤化氟溴化物-21B2 HBFC-21B2 (CHFBr2) 001868-53-7 不完全卤化氟溴化物-22B1 HBFC-22B1 (CHF2Br) 001511-62-2 不完全卤化氟溴化物-31B1 HBFC-31B1 (CH2FBr) 000373-52-4 不完全卤化氟溴化物-121B4 HBFC-121B4 (C2HFBr4)不完全卤化氟溴化物-122B3 HBFC-122B3 (C2HF2Br3)不完全卤化氟溴化物-123B2 HBFC-123B2 (C2HF3Br2)不完全卤化氟溴化物-124B1 HBFC-124B1 (C2HF4Br)不完全卤化氟溴化物-131B3 HBFC)-131B3不完全卤化氟溴化物-132B2 HBFC-132B2 (C2H2F2Br2)不完全卤化氟溴化物-133B1 HBFC-133B1 (C2H2F3Br)不完全卤化氟溴化物-141B2 HBFC-141B2 (C2H3FBr2)不完全卤化氟溴化物-142B1 HBFC-142B1 (C2H3F2Br)不完全卤化氟溴化物-151B1 HBFC-151B1 (C2H4FBr)不完全卤化氟溴化物-221B6 HBFC-221B6 (C3HFBr6)不完全卤化氟溴化物-222B5 HBFC-222B5 (C3HF2Br5)不完全卤化氟溴化物-223B4 HBFC-223B4 (C3HF3Br4)不完全卤化氟溴化物-224B3 HBFC-224B3 (C3HF4Br3)不完全卤化氟溴化物-225B2 HBFC-225B2 (C3HF5Br2)不完全卤化氟溴化物-226B1 HBFC-226B1 (C3HF6Br)不完全卤化氟溴化物-231B5 HBFC-231B5 (C3H2FBr5)不完全卤化氟溴化物-232B4 HBFC-232B4 (C3H2F2Br4)不完全卤化氟溴化物-233B3 HBFC-233B3 (C3H2F3Br3)不完全卤化氟溴化物-234B2 HBFC-234B2 (C3H2F4Br2)不完全卤化氟溴化物-235B1 HBFC-235B1 (C3H2F5Br)不完全卤化氟溴化物-241B4 HBFC-241B4 (C3H3FBr4)不完全卤化氟溴化物-242B3 HBFC-242B3 (C3H3F2Br3)不完全卤化氟溴化物-243B2 HBFC-243B2 (C3H3F3Br2)不完全卤化氟溴化物-244B1 HBFC-244B1 (C3H3F4Br)不完全卤化氟溴化物-251B3 HBFC-251B3 (C3H4FBr3)不完全卤化氟溴化物-252B2 HBFC-252B2 (C3H4F2Br2)不完全卤化氟溴化物-253B1 HBFC-253B1 (C3H4F3Br)不完全卤化氟溴化物-261B2 HBFC-261B2 (C3H5FBr2)不完全卤化氟溴化物-262B1 HBFC-262B1 (C3H5F2Br)不完全卤化氟溴化物-271B1 HBFC-271B1 (C3H6FBr)氟氯氢碳化物 / HCFCs (Hydrochlorofluorocarbons) 34项氟氯氢碳化物-21 HCFC-21 000075-43-4氟氯氢碳化物-22 HCFC-22 000075-45-6氟氯氢碳化物-31 HCFC-31 000593-70-4氟氯氢碳化物-121 HCFC-121 000354-14-3氟氯氢碳化物-122 HCFC-122 000354-21-2氟氯氢碳化物-123 HCFC-123 000306-83-2氟氯氢碳化物-124 HCFC-124 002837-89-0氟氯氢碳化物-131 HCFC-131 000359-28-4氟氯氢碳化物-132b HCFC-132b 001649-08-7氟氯氢碳化物-133a HCFC-133a 000075-88-7氟氯氢碳化物-141b HCFC-141b 001717-00-6氟氯氢碳化物-142b HCFC-142b 000075-68-3氟氯氢碳化物-221 HCFC-221 000422-26-4氟氯氢碳化物-222 HCFC-222 000422-49-1氟氯氢碳化物-223 HCFC-223 000422-52-6氟氯氢碳化物-224 HCFC-224 000422-54-8氟氯氢碳化物-225ca HCFC-225ca 000422-56-0氟氯氢碳化物-225cb HCFC-225cb 000507-55-1氟氯氢碳化物-226 HCFC-226 000431-87-8氟氯氢碳化物-231 HCFC-231 000421-94-3氟氯氢碳化物-232 HCFC-232 000460-89-9氟氯氢碳化物-233 HCFC-233 007125-84-0氟氯氢碳化物-234 HCFC-234 000425-94-5氟氯氢碳化物-235 HCFC-235 000460-92-4氟氯氢碳化物-241 HCFC-241 000666-27-3氟氯氢碳化物-242 HCFC-242 000460-69-3氟氯氢碳化物-243 HCFC-243 000460-69-5氟氯氢碳化物-244 HCFC-244氟氯氢碳化物-251 HCFC-251 000421-41-0氟氯氢碳化物-252 HCFC-252 000819-00-1氟氯氢碳化物-253 HCFC-253 000460-35-3氟氯氢碳化物-261 HCFC-261 000420-97-3氟氯氢碳化物-262 HCFC-262 000420-99-5氟氯氢碳化物-271 HCFC-271 000430-55-7氢氟碳化物 / HFCs (Hydrofluorocarbon) 16项氢氟碳化物-23 HFC-23 (CHF3) 000075-46-7氢氟碳化物-32 HFC-32 (CH2F2) 000075-10-5氢氟碳化物-41 HFC-41 (CH3F) 000593-53-3氢氟碳化物-43-10mee HFC-43-10mee (C5H2F10)氢氟碳化物-125 HFC-125 (C2HF5)氢氟碳化物-134 HFC-134 (C2H2F4)氢氟碳化物-134a HFC-134a (CH2FCF3) 000811-97-2 氢氟碳化物-143 HFC-143 (CH3F3)氢氟碳化物-143a HFC-143a (CH3F3)氢氟碳化物-152a HFC-152a (C2H4F2) 000075-37-6 氢氟碳化物-227ea HFC-227ea (C3HF7) 000431-89-0氢氟碳化物-236fa HFC-236fa (C3H2F6) HFC-236fa (C3H2F6)氢氟碳化物-236ea HFC-236ea (C3H2F6) 000431-63-0氢氟碳化物-245ca HFC-245ca (C3H3F5)氢氟碳化物-245fa HFC-245fa (C3H3F5)氢氟碳化物-365mfc HFC-365mfc (C4H5F5)全氟碳化物 / PFCs (Perfluorocarbon) 13项四氟甲烷 F14 000075-73-0六氟乙烷 Fluorocarbon 116 000076-16-4八氟丙烷 Freon 218 000076-19-7十氟丁烷 Decafluorobutane 000355-25-9八氟环丁烷 Freon C318 000115-25-3全氟-1-丁烯 Perfluor-1-butene 000357-26-6全氟异丁烯 perfluorisobutene 000382-21-81,4-二氢八氟丁烷 1,4-dihydrooctafluorobutane 000377-36-62-全氟甲基丁烷 nonafluor-2- (trifluoromethyl)butane 000594-91-2 全氟戊烷 perfluoro-n-pentane 000678-26-22-全氟甲基戊烷 2-perfluoromethylpentane 000355-04-4全氟己烷 perfluorohexane 000355-42-0溴甲烷 Bromomethane 000074-83-9。
1.臭氧层遭到破坏的主要原因是氯氟碳化合物。
氯氟烃是一种人工合成的含有氯和氟的碳氢化合物,它在30年代早期被发现并被广泛应用。
2.氟里昂是造成臭氧层损害的首要气体。
氟利昂是含氟和氢气的二元化合物,是一种无色、有刺激性气味的气体。
氟化氢是破坏臭氧层的催化剂,具有极高的破坏性。
当氟氯烃悬浮在空中时,会因为太阳的紫外线而分解释放出氯原子。
这种氯离子具有很强的活性,通常会和其他物质结合。
所以,一旦接触到臭氧,就会发生化学反应。
3.氮氧化物、二氧化硫、悬浮微粒是造成臭氧层损害的三大罪魁祸首。
消耗臭氧层(ODS)物质清单类别物质异构体数目ODP值*备注代码化学式化学名称第一类全氯氟烃(又称氯氟化碳)CFC-11 CFCl3三氯一氟甲烷主要用途为制冷剂、发泡剂、清洗剂等。
按《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》(以下简称《议定书》)规定,自2010年1月1日起,除特殊用途外,全面禁止生产和使用。
CFC-12 CF2Cl2二氯二氟甲烷 1CFC-113 C2F3Cl31,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷0.8CFC-114 C2F4Cl21,2-二氯-1,1,2,2,-四氟乙烷1CFC-115 C2F5Cl 一氯五氟乙烷0.6CFC-13 CF3Cl 一氯三氟甲烷 1CFC-111 C2FCl5五氯一氟乙烷 1CFC-112 C2F2Cl4四氯二氟乙烷 1CFC-211 C3FCl7七氯一氟丙烷 1CFC-212 C3F2Cl6六氯二氟丙烷 1第一类全氯氟烃(又称氯氟化碳)CFC-213 C3F3Cl5五氯三氟丙烷 1 主要用途为制冷剂、发泡剂、清洗剂等。
按《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》(以下简称《议定书》)规定,自2010年1月1日起,除特殊用途外,全面禁止生产和使用。
CFC-214 C3F4Cl4四氯四氟丙烷 1CFC-215 C3F5Cl3三氯五氟丙烷 1CFC-216 C3F6Cl2二氯六氟丙烷 1CFC-217 C3F7Cl 一氯七氟丙烷 1第二类哈龙(哈龙-1211) CF2BrCl一溴一氯二氟甲烷3主要用途为灭火剂。
按《议定书》规定,自2010年1月1日起,除特殊用途外,全面禁止生产和使用。
(哈龙-1301) CF3Br 一溴三氟甲烷10(哈龙-2402) C2F4Br2二溴四氟乙烷 6第三类四氯化碳CCl4四氯化碳 1.1主要用途为加工助剂、清洗剂和试剂等。
按《议定书》规定,自2010年1月1日起,除特殊用途外,全面禁止生产和使用。
第四类甲基氯仿**C2H3Cl31,1,1-三氯乙烷(非1,1,2-三氯乙烷)又称甲基氯仿0.1主要用途为清洗剂、溶剂。
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破坏臭氧层物质清单
序号物质名称通常涉及范围我公司使用范
围
坐垫、床垫、汽车内饰、绝热建筑管材、板材等; 汽车、办公室 1. CFC-11 板材发泡剂; 透平式制冷机用制冷剂; 烟丝膨
胀剂; PU 软泡; 箱式PU 软泡
PS 片材、PE 网管、棒等; 制冷剂; 其它空调设办公室 2. CFC-12
备、冷冻冷藏和运输; 冷藏设备用制冷剂; PS/PE
挤出泡沫
清洗剂冷气机 3. CFC-113
低温制冷设备冷气机 4. CFC-114 氯物质(完
食品冻结设备全卤化链5. CFC-115 ,
烷) 电子医疗用低温设备 6. CFC-13 ,
清洗剂 7. 四氯化碳CTC ,
1,1,1-三氯乙烷(甲基氯清洗剂 8. ,
仿,TCA)
HCFC-22 9. ,
HCFC-141b 10. ,
灭火系统生产 11. 哈龙哈龙1301 ,
灭火器生产、灭火系统生产 12. 哈龙1211 ,
CH3Br 13. 溴物质 ,
空气 14. 二氧化碳(C02)
15. C0(一氧化碳) ,
灯泡部 16. 甲烷(CH4) 碳化物
17. 非甲烷烃类物种 ,
18. 氮化物氧化亚氮(N2O) ,
19. 氮氧化物(NOx) ,
20. CH3Cl ,
CHF2Cl(CFC,22) 21. , 氯物质(部
分卤化链CH3CCl3 22. , 烷) CHFCl2(CFC,21) 23. ,
空气 24. 氢物质氢(H2)
生活区 25. 水水(H2?)
编制: 审核:
破坏臭氧层物质特性
(a) 碳物质
一氧化碳(CO)
一氧化碳的重要来源是自然界和人类,据认为对对流层的光化过程有重要的直接作用,对平流层的光化过程则有间接作用。
二氧化碳(CO2)
二氧化碳的重要来源是自然界和人类,通过影响大气的热构造而影响到平流层的臭氧。
甲烷(CH4)
甲烷来自自然界和人类。
对平流层和对流层的臭氧都有影响。
非甲烷烃类物种
非甲烷烃类物种含有许多化学物质,来自自然界和人类,对对流层的光化过程有直接作用,对平流层光化过程则有间接作用。
(b) 氮物质
氧化亚氮(N2O)
氧化亚氮主要来自自然界,不过人类来源也变得愈来愈重要。
氧化亚氮是平流层NOx的主要来源,NOx对于平流层臭氧充裕的控制有重要作用。
氮氧化物(NOx)
NOx的地平面来源,只对对流层的光化过程有直接的重要作用,对平流层的光化过程则有间接作用,而接近对流层顶的NOx注射可能对上对流层和平流层的臭氧直接引起变化。
(c) 氯物质
完全卤化链烷,例如CCl4,CFCl3(CFC,ll),CF2Cl2(CFC,12),
C2F3Cl3(CFC,113),C2F4Cl2(CFC,114)
完全卤化链烷来自人类,是ClOx的一个来源,对臭氧的光化过程有重要作用,尤其是在海拔30一50公里区域。
部分卤化链烷,例如CH3Cl,CHF2Cl(CFC,22),CH3CCl3,CHFCl2(CFC,21) CH3Cl来自自然界,而上列其他部分卤化链烷则来自人类。
这些气体也是平流层ClOx的来源。
(d) 溴物质
全部卤化链烷,例如CF3Br这些气体来自人类,是BrOx的来源,其作用类似ClOx。
(e) 氢物质
氢(H2)
氢是来自自然界和人类,对平流层的光化过程的作用不大。
水(H2?)
水来自自然界,对平流层和对流层的光化过程都有重要作用。
平流层水蒸气的本地来源包括甲烷的氧化以及较小程度上氢的氧化。