过程控制第二章比例积分微分控制和其调节过程
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过程控制仪表及控制系统课后习题答案(林德杰)2(总18页)--本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--lxc第一章思考题与习题1-2 图为温度控制系统,试画出系统的框图,简述其工作原理;指出被控过程、被控参数和控制参数。
解:乙炔发生器中电石与冷水相遇产生乙炔气体并释放出热量。
当电石加入时,内部温度上升,温度检测器检测温度变化与给定值比较,偏差信号送到控制器对偏差信号进行运算,将控制作用于调节阀,调节冷水的流量,使乙炔发生器中的温度到达给定值。
系统框图如下:被控过程:乙炔发生器被控参数:乙炔发生器内温度控制参数:冷水流量1-3 常用过程控制系统可分为哪几类答:过程控制系统主要分为三类:1. 反馈控制系统:反馈控制系统是根据被控参数与给定值的偏差进行控制的,最终达到或消除或减小偏差的目的,偏差值是控制的依据。
它是最常用、最基本的过程控制系统。
2.前馈控制系统:前馈控制系统是根据扰动量的大小进行控制的,扰动是控制的依据。
由于没有被控量的反馈,所以是一种开环控制系统。
由于是开环系统,无法检查控制效果,故不能单独应用。
3. 前馈-反馈控制系统:前馈控制的主要优点是能够迅速及时的克服主要扰动对被控量的影响,而前馈—反馈控制利用反馈控制克服其他扰动,能够是被控量迅速而准确地稳定在给定值上,提高控制系统的控制质量。
3-4 过程控制系统过渡过程的质量指标包括哪些内容它们的定义是什么哪些是静态指标哪些是动态质量指标答:1. 余差(静态偏差)e :余差是指系统过渡过程结束以后,被控参数新的稳定值y(∞)与给定值c 之差。
它是一个静态指标,对定值控制系统。
希望余差越小越好。
2. 衰减比n:衰减比是衡量过渡过程稳定性的一个动态质量指标,它等于振荡过程的第一个波的振幅与第二个波的振幅之比,即:n <1系统是不稳定的,是发散振荡;n=1,系统也是不稳定的,是等幅振荡;n >1,系统是稳定的,若n=4,系统为4:1的衰减振荡,是比较理想的。
作 业第二章:2-6某水槽如题图2-1所示。
其中A 1为槽的截面积,R 1、R 2均为线性水阻,Q i 为流入量,Q 1和Q 2为流出量要求:(1)写出以水位h 1为输出量,Q i 为输入量的对象动态方程;(2)写出对象的传递函数G(s)并指出其增益K 和时间常数T 的数值。
图2-1解:1)平衡状态: 02010Q Q Q i +=2)当非平衡时: i i i Q Q Q ∆+=0;1011Q Q Q ∆+=;2022Q Q Q ∆+= 质量守恒:211Q Q Q dthd A i ∆-∆-∆=∆ 对应每个阀门,线性水阻:11R h Q ∆=∆;22R h Q ∆=∆ 动态方程:i Q R hR h dt h d A ∆=∆+∆+∆2113) 传递函数:)()()11(211s Q s H R R S A i =++1)11(1)()()(211+=++==Ts KR R S A s Q s H s G i这里:21121212111111R R A T R R R R R R K +=+=+=;2Q112-7建立三容体系统h 3与控制量u 之间的动态方程和传递数,见题图2-2。
解:如图为三个单链单容对像模型。
被控参考△h 3的动态方程: 3233Q Q dt h d c ∆-∆=∆;22R h Q ∆=∆;33R hQ ∆=∆; 2122Q Q dt h d c ∆-∆=∆;11R hQ ∆=∆ 111Q Q dth d c i ∆-∆=∆ u K Q i ∆=∆ 得多容体动态方程:uKR h dth d c R c R c R dt h d c c R R c c R R c c R R dt h d c c c R R R ∆=∆+∆+++∆+++∆333332211232313132322121333321321)()(传递函数:322133)()()(a s a s a s Ks U s H s G +++==; 这里:32132133213213321321332211232132131313232212111;c c c R R R kR K c c c R R R a c c c R R R c R c R c R a c c c R R R c c R R c c R R c c R R a ==++=++=2-8已知题图2-3中气罐的容积为V ,入口处气体压力,P 1和气罐 内气体温度T 均为常数。
⾃动控制原理第⼆章复习总结(第⼆版)第⼆章过程装备控制基础本章内容:简单过程控制系统的设计复杂控制系统的结构、特点及应⽤。
第⼀节被控对象的特性⼀、被控对象的数学描述(⼀)单容液位对象1.有⾃衡特性的单容对象2.⽆⾃衡特性的单容对象(⼆)双容液位对象1.典型结构:双容⽔槽如图2-5所⽰。
图2-5 双容液位对象图2-6 ⼆阶对象特性曲线2.平衡关系:⽔槽1的动态平衡关系为:3.⼆阶被控对象:1222122221)(Q K h dt dh T T dt h d T T ?=+++式(2-18)就是描述图2-5所⽰双容⽔槽被控对象的⼆阶微分⽅程式。
称⼆阶被控对象。
⼆、被控对象的特性参数(⼀)放⼤系数K(⼜称静态增益)(⼆)时间常数T(三)滞后时间τ(1).传递滞后τ0(或纯滞后):(2).容量滞后τc可知τ=τ0+τc。
三、对象特性的实验测定对象特性的求取⽅法通常有两种:1.数学⽅法2.实验测定法(⼀)响应曲线法:(⼆)脉冲响应法第⼆节单回路控制系统定义:(⼜称简单控制系统),是指由⼀个被控对象、⼀个检测元件及变送器、⼀个调节器和⼀个执⾏器所构成的闭合系统。
⼀、单回路控制系统的设计设计步骤:1.了解被控对象2.了解被控对象的动静态特性及⼯艺过程、设备等3.确定控制⽅案4.整定调节器的参数(⼀)被控变量的选择(⼆)操纵变量的选择(三)检测变送环节的影响(四)执⾏器的影响⼆、调节器的调节规律1.概念调节器的输出信号随输⼊信号变化的规律。
2.类型位式、⽐例、积分、微分。
(⼀)位式调节规律1.双位调节2.具有中间区的双位调节3.其他三位或更多位的调节。
(⼆)⽐例调节规律(P )1.⽐例放⼤倍数(K )2.⽐例度δ3.⽐例度对过渡过程的影响(如图2-24所⽰)4.调节作⽤⽐例调节能较为迅速地克服⼲扰的影响,使系统很快地稳定下来。
通常适⽤于⼲扰少扰动幅度⼩、符合变化不⼤、滞后较⼩或者控制精度要求不⾼的场合。
(三)⽐例积分调节规律(PI )1.积分调节规律(I )(1)概念:调节器输出信号的变化量与输⼊偏差的积分成正⽐==?t I t I dt t e T dt t e K t u 00)(1)()(式中:K I 为积分速度,T I 为积分时间。
第二章比例积分微分控制及其调节过程比例积分微分控制及其调节过程是控制工程中常用的一种控制方法,本文将介绍其基本概念、原理与调节过程。
1.比例积分微分控制的概念比例积分微分控制是一种基于反馈原理的控制方法。
它通过将被控对象的输出值与期望值之间的差异进行计算,并根据计算结果来调节控制器的输出信号,从而使被控对象的输出值趋于期望值。
在比例积分微分控制中,主要有三个调节参数:比例参数(Kp)、积分参数(Ti)和微分参数(Td)。
比例参数表示控制器输出的增益,积分参数表示控制器对偏差的累积处理,微分参数表示控制器对偏差变化率的处理。
2.比例积分微分控制的原理比例积分微分控制的原理可以用以下公式表示:u(t) = Kp * e(t) + Ki * ∫e(t) dt + Kd * de(t)/dt其中,u(t)表示控制器的输出信号,e(t)表示被控对象输出值与期望值的差异,Ki、Kd分别表示积分和微分参数。
比例控制项Kp*e(t)用来根据当前差异进行有限调整,即根据误差大小决定控制器输出的大小。
当误差较大时,比例控制项的影响较大,能够快速调整输出信号,使被控对象尽快趋于期望值。
积分控制项Ki * ∫e(t) dt用来累积误差的信息,即在一段时间内积累误差值,并加大对误差的修正力度。
积分项主要用于调节系统的静态误差,当系统存在静态误差时会积累一定量的误差,通过积分项可以消除这部分误差,使系统更加准确。
微分控制项Kd * de(t)/dt用来预测误差的变化趋势,即通过对误差的变化率进行检测和调整,可以提前对误差进行修正,从而提高系统的响应速度和稳定性。
3.比例积分微分控制的调节过程比例积分微分控制的调节过程主要包括以下几个步骤:(1)初始化控制器参数:设置比例参数Kp、积分参数Ti和微分参数Td的初值,并将控制器的输出信号初始化为0。
(2)测量被控对象的输出值:通过传感器等测量设备获取被控对象的输出值。
(3)计算误差:将被控对象的输出值与期望值进行比较,计算误差e(t)。