光学薄膜透、反射率的常用测量方法

反射率测试原理反射率测试是一种广泛应用于材料科学、光学工程等领域的实验方法，用于测量材料对光的反射能力。

反射率是材料表面反射光线的能力的度量，通常用百分比来表示。

在实际应用中，了解材料的反射率可以帮助我们更好地设计光学元件、改善材料的光学性能等。

反射率测试的原理基于光的物理特性。

当光线照射到一个材料表面时，一部分光线会被材料吸收，一部分光线会穿透材料，而另一部分光线会被材料表面反射。

反射率即为被材料表面反射的光线占入射光总能量的比例。

为了测量材料的反射率，通常会使用反射率测试仪器。

这些仪器可以通过不同的方法来测量反射率，其中最常见的方法是比较法和绝对法。

比较法是一种相对的测量方法，即将待测材料表面与标准参考样品表面相比较，通过比较两者的反射光强度来确定待测材料的反射率。

这种方法简单易行，适用于快速测量反射率。

绝对法则是一种更精确的测量方法，需要使用精密的仪器来测量反射光线的强度，并结合材料的光学参数来计算出精确的反射率数值。

虽然这种方法较为复杂，但可以得到更准确的反射率数据。

除了测量材料的总体反射率外，有时还需要考虑材料在不同波长下的反射率。

这就涉及到光谱反射率测试，通过在不同波长范围内测量材料的反射率，可以了解材料在不同光谱范围内的光学性能。

在实际应用中，反射率测试在许多领域都有重要的应用价值。

例如，在太阳能电池领域，了解太阳能电池材料的反射率可以帮助提高太阳能电池的光电转换效率；在激光加工领域，通过测量材料的反射率可以调整激光加工参数，提高加工质量；在光学涂层设计中，了解不同材料的反射率可以帮助设计出更具优势的光学涂层等。

反射率测试原理基于光的物理特性，通过测量材料对光的反射能力来确定材料的反射率。

不同的测量方法可以应用于不同场景下，帮助人们更好地了解材料的光学性能，实现更多的应用。

偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究薄膜技术的发展及其应用薄膜是一种较特殊的物质形态，其在厚度这一特定方向上尺寸较小，仅是微观可测的物理量，并且在厚度方向上由于表面、界面的存在，使物质的连续性发生中断，由此使得薄膜材料产生了与块状材料具有不同的性能。

也可以解释为，由于成膜的过程中晶体取向、晶粒大小、杂质浓度、成份的均匀性、基底材料、温度以及清洁度等因素的影响，使得薄膜的物理性能与块状材料的物理性能在诸多方面不同。

这引起了诸多科研工作者们较为浓厚的研究兴趣并使之得到更为广泛的应用。

二十世纪70年代以来，薄膜技术得到空前的发展，无论在学术研究上还是在工业应用中都取得了较丰硕的成果。

薄膜技术及薄膜材料已成为当代真空技术及材料科学研究中最活跃的领域之一，并在新科学技术革命中，具有举足轻重的地位。

薄膜技术涉及的范围比较广，其中包括物理气相沉积、化学气相沉积成膜技术，以离子束刻蚀为代表的微细加工技术，成膜、刻蚀过程的监控技术，以及薄膜分析、评价与检测技术等。

目前，薄膜技术在电子元器件、集成光学、电子技术、红外技术、激光技术、航天技术和光学仪器等许多领域均得到了极为广泛的应用，不仅成为了一门独立的应用技术，而且成为了材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。

许多国家对薄膜材料和薄膜技术的研究开发极为重视，称之为“腾飞的薄膜产业”，并且每年均要举行多次国际会议。

最早应用薄膜技术的领域要算光学领域，早在1817年夫琅禾费就用酸蚀方法制成了光学上的减反射膜。

1930年，由于真空蒸发设备出现使薄膜大量地应用于光学领域。

近代的彩色电视、彩色摄影机、太阳能电池、激光器、集成光学等均离不开薄膜技术，大部分光学仪器或光电装置也均离不开光学薄膜。

利用薄膜的光学性能，可改变元件反射率、吸收率与透射率，实现光束分束、并束、分色、偏振、位相调整等，使某光谱带通或阻滞等。

薄膜技术应用领域很广泛，由于高精尖的制造技术、跨学科的综合设计与严格科学的实际应用，使薄膜技术应用在高新技术领域、信息、生物、航空、航天、新能源等前沿领域中显示越来越重要的地位。

光学薄膜基础知识介绍光学薄膜是一种具有特定光学性质的薄膜材料，通常由多个不同折射率的材料层次交替排列组成。

它以其特殊的折射、反射、透射等光学性质，在光学领域中得到广泛应用。

下面将介绍光学薄膜的基础知识。

一、光学薄膜的分类1.反射膜：反射膜是一种具有高反射特性的光学薄膜，适用于折射率较高的材料上，如金属、半导体、绝缘体等。

2.透射膜：透射膜是一种具有高透射特性的光学薄膜，适用于折射率较低的材料上，如玻璃、塑料等。

二、光学薄膜的制备方法1.蒸镀法：蒸镀法是最常用的制备光学薄膜的方法之一、它通过将所需材料加热至一定温度，使其蒸发或升华，并在基板上形成薄膜。

2.溅射法：溅射法是另一种常用的光学薄膜制备方法。

它通过在真空环境中，使用离子束或电子束激活靶材料，并将其溅射到基板上形成薄膜。

3.化学气相沉积法：化学气相沉积法是一种以气体化学反应为基础的制备光学薄膜的方法。

它通过将反应气体通入反应室中，在基板表面沉积出所需的材料薄膜。

三、光学薄膜的性质和应用1.折射率：光学薄膜的折射率是指光线在薄膜中传播时的折射程度，决定了光的传播速度和路径。

根据折射率的不同，可以制备出不同属性的光学薄膜，如透明薄膜、反射薄膜等。

2.反射率：光学薄膜的反射率是指光线在薄膜表面发生反射的程度，决定了光的反射效果。

反射薄膜广泛应用于光学镜片、反光镜、光器件等领域。

3.透射率：光学薄膜的透射率是指光线透过薄膜并达到基板的程度，决定了光的透射效果。

透射薄膜常用于光学滤波器、镜片涂层、光学器件等领域。

四、光学薄膜的设计与优化光学薄膜的设计与优化是制备高性能光学薄膜的关键。

根据所需的光学性质，可以通过调节不同层次的材料及其厚度，来达到特定的光学效果。

常用的设计方法包括正向设计、反向设计、全息设计等。

通过有效的设计与优化，可以实现特定波长的高反射、高透射、全反射等特性，满足不同光学器件的需求。

总结：光学薄膜是一种具有特殊光学性质的材料，广泛应用于光学领域中。

紫外可见分光光度计（UV-Vis分光光度计）是一种用途广泛的光学仪器，可用于测量物质对紫外和可见光的吸收和反射率。

在材料科学和化学领域，紫外可见分光光度计被广泛应用于测试薄膜的反射率。

本文将探讨紫外可见分光光度计测试薄膜反射率的原理。

1. 紫外可见分光光度计紫外可见分光光度计是一种利用分光仪原理，测量材料吸收或透射光的仪器。

它可以在紫外、可见光范围内测量样品对特定波长光的吸收或反射率。

2. 薄膜反射率测试薄膜反射率是指薄膜表面对入射光的反射能力。

通常使用紫外可见分光光度计来测试薄膜在不同波长下的反射率，以评估薄膜的光学性能。

3. 反射率测试原理在使用紫外可见分光光度计测试薄膜反射率时，通常会将薄膜样品固定在样品舱中，然后利用分光光度计发出特定波长的光，经过样品后被探测器检测。

根据探测器接收到的光强，计算出薄膜在该波长下的反射率。

4. 正弦光束法一种常用的测试薄膜反射率的方法是正弦光束法。

该方法通过调节入射角度和光路长度，使得探测器能够测量薄膜在不同入射角度下的反射率。

这样可以得到薄膜在不同波长和入射角度下的反射率曲线。

5. 测量注意事项在进行薄膜反射率测试时，需要注意样品的制备和处理，确保样品表面平整、无气泡和杂质。

另外，还需要校准仪器，选择合适的波长范围和入射角度，以获得准确的反射率数据。

6. 应用领域薄膜反射率测试在光学材料、太阳能电池、涂料、光学薄膜等领域都有广泛应用。

通过测试薄膜的反射率，可以评估其光学性能，为材料研发和生产提供重要的数据支持。

在紫外可见分光光度计测试薄膜的反射率原理中，正弦光束法是一种常用的测试方法，通过调节入射角度和光路长度，测量薄膜在不同入射角度下的反射率，得到反射率曲线。

在进行测试时，需要注意样品制备和处理，以及仪器的校准和参数选择，以获得准确的反射率数据。

薄膜反射率测试在光学材料、太阳能电池、涂料等领域的应用价值巨大，为材料研发和生产提供重要的数据支持。

紫外可见分光光度计在测试薄膜反射率时，除了使用正弦光束法外，还可以采用其他方法进行测试，例如准直束法、全反射法、矢量法等。

光学薄膜技术答案
光学薄膜技术是一种通过在材料表面上沉积一层或多层薄膜，
以改变光的传播和反射特性的技术。

以下是对光学薄膜技术的详细
解释：
1. 薄膜材料选择：光学薄膜技术使用的薄膜材料通常是具有特
定光学性质的材料，如二氧化硅（SiO2）、二氧化钛（TiO2）等。

选择合适的材料取决于所需的光学特性和应用。

2. 薄膜沉积方法：光学薄膜可以通过多种方法进行沉积，包括
物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、溅射沉积等。

每种
方法都有其独特的优点和适用范围。

3. 薄膜设计和优化：在设计光学薄膜时，需要考虑所需的光学
性能，如透过率、反射率、折射率等。

通过调整薄膜的结构和厚度，可以实现特定的光学效果。

优化薄膜设计可以通过计算机模拟和实
验验证来实现。

4. 薄膜应用：光学薄膜技术在很多领域都有广泛的应用，包括
光学镜片、滤光片、反射镜、光学涂层等。

光学薄膜可以改善光学
仪器的性能，提高光学系统的效率和精确度。

5. 薄膜性能测试：对光学薄膜的性能进行测试是确保其质量和
性能的重要步骤。

常用的测试方法包括透过率测量、反射率测量、
折射率测量等。

这些测试可以通过使用专业的光学测量仪器来完成。

总而言之，光学薄膜技术是一种通过在材料表面上沉积特定薄
膜来改变光的传播和反射特性的技术。

它涉及薄膜材料选择、沉积
方法、设计和优化、应用以及性能测试等方面。

这项技术在光学领
域有着广泛的应用，并为光学仪器和系统的性能提供了重要的改进
和优化。

物理实验技术使用中如何进行光学薄膜实验物理实验技术是物理学研究中不可或缺的一部分，而光学薄膜实验则是其中一种重要的实验方法。

本文将从实验的目的、实验所需材料和仪器以及实验步骤等方面进行探讨。

光学薄膜实验的目的是通过对薄膜的光学性质进行研究，从而获得有关光学薄膜的一些重要参数。

例如，我们可以通过实验了解薄膜的反射率、透射率、相位厚度等指标。

这些参数不仅对于理论研究有重要意义，也在实际应用中具有广泛的应用价值。

在进行光学薄膜实验之前，首先需要准备一些实验所需的材料和仪器。

在材料方面，我们通常会使用具有一定折射率的基片，如玻璃片。

同时，还需要制备相应的薄膜样品，可以使用不同材料进行制备，如二氧化硅、氮化硅等。

至于仪器方面，实验室通常会配备光学光谱仪、反射率测量装置、透射率测试设备等。

具体的实验步骤可以分为多个环节，首先是薄膜样品的制备。

在实验中，可以选择蒸镀法、溅射法、磁控溅射法等不同的制备方法。

薄膜的制备过程需要控制好温度、压力和沉积速率等参数，以确保获得满足实验要求的薄膜。

制备好薄膜样品之后，接下来是样品的表征和测试。

我们可以使用光学光谱仪对薄膜的光学性质进行测量，得到反射谱、透射谱等数据。

在测量过程中，我们通常会控制入射光的角度和波长等参数，并记录相应的数据。

通过对这些数据的分析与处理，我们可以得出薄膜的光学参数。

除了常规的光学性质测试，我们还可以通过其他一些实验手段来研究薄膜的特性。

例如，我们可以使用椭偏仪来测量薄膜的偏振特性，以及对光的旋光度进行测量。

这些实验手段的应用可以进一步拓展对薄膜性质的研究深度和广度。

总的来说，光学薄膜实验是一种重要的物理实验技术，可以为我们提供大量有关薄膜性质的有用信息。

通过合理选择实验材料和仪器，并按照一定的实验步骤进行操作，我们可以准确有效地得到所需的实验数据。

这些数据可以进一步加深对光学薄膜性质的理解，也为相关研究和应用提供了必要的支持。

光学薄膜实验作为一种常见的物理实验技术，具有广泛的研究领域和应用前景。

薄膜透过率反射率计算公式薄膜透过率和反射率计算公式。

在光学领域中，薄膜的透过率和反射率是非常重要的参数，它们可以用来描述光在薄膜上的传播和反射情况。

薄膜透过率和反射率的计算公式可以帮助我们更好地理解光在薄膜上的行为，从而应用于各种光学器件的设计和制造中。

薄膜透过率和反射率的计算公式可以通过薄膜的折射率、厚度以及入射光的波长来确定。

在本文中，我们将介绍薄膜透过率和反射率的计算公式，并讨论它们在实际应用中的意义。

薄膜透过率的计算公式可以表示为：\[ T = \frac{4 n_1 n_2}{(n_1 + n_2)^2} \times\frac{\sin^2(\theta_2)}{\sin^2(\theta_1 + \theta_2)} \]其中，T表示透过率，\( n_1 \)和\( n_2 \)分别表示薄膜的上、下介质的折射率，\( \theta_1 \)和\( \theta_2 \)分别表示入射角和折射角。

薄膜反射率的计算公式可以表示为：\[ R = \frac{(n_1 n_2)^2}{(n_1 + n_2)^2} \times\frac{\sin^2(\theta_2)}{\sin^2(\theta_1 + \theta_2)} \]其中，R表示反射率，\( n_1 \)和\( n_2 \)分别表示薄膜的上、下介质的折射率，\( \theta_1 \)和\( \theta_2 \)分别表示入射角和折射角。

通过这两个公式，我们可以计算出薄膜在不同入射角和波长下的透过率和反射率。

这些参数对于光学器件的设计和性能评估非常重要，例如在太阳能电池板、光学镜片、滤光片等器件中的应用。

在实际应用中，薄膜的材料、厚度、折射率等参数都会对透过率和反射率产生影响。

因此，我们需要根据具体的薄膜材料和结构来确定透过率和反射率的计算公式，并进行相应的实验验证。

除了上述的计算公式，我们还可以通过薄膜的光学特性参数来确定透过率和反射率，例如透射系数和反射系数。

实验3.1 椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率一、引言椭圆偏振测量法，简称椭偏光法，是测量研究介质表面界面或薄膜光学特性的一种重要光学方法。

它是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面，由观察反射光或透射光的偏振状态的变化来推知样品的光学特性，例如薄膜的厚度，材料的复折射率等。

这种测量方法的优点是测量精度非常高，而且对样品是非破坏性的，它可以测量出薄膜厚度约0.1 nm的变化。

因此。

可以用于表面界面的研究，也可用于准单原子层开始的薄膜生长过程的实时自动监测。

椭偏光法的应用范围广泛，自然界中普遍存在着各种各样的界面和薄膜，人工制备薄膜的种类也越来越多，因此椭偏光法应用于物理、化学、表面科学、材料科学、生物科学以及有关光学、微电子、机械、冶金和生物医学等领域中。

在材料科学中椭偏测量常用来测量各种功能介质薄膜、硅上超薄氧化层以及超薄异质层生长的实时监控、溅射刻蚀过程的实时监控等。

自1945年罗中(A. Rothen)描述了用以测量薄膜表面光学性质的椭偏仪以来，随着科学技术的迅速发展，椭偏光法发展很快，椭偏仪的制造水平也不断提高，特别是使用计算机处理复杂繁冗的椭偏测量数据后使测量快捷简便了许多。

二、实验目的1. 了解椭偏光测量原理和实验方法。

2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。

3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率，以及硅的消光系数和复折射率。

三、实验原理本实验介绍反射型椭偏光测量方法。

其基本原理是用一束椭偏光照射到薄膜样品上，光在介质膜的交界面发生多次的反射和折射，反射光的振幅和位相将发生变化，这些变化与薄膜的厚度和光学参数（折射率、消光系数等）有关，因此，只要测出反射偏振状态的变化，就可以推出膜厚和折射率等。

1. 椭圆偏振方程图1所示为均匀、各向同性的薄膜系统，它有两个平行的界面。

介质1通常是折射率为n 1的空气，介质2是一层厚度为d 的复折射率为n 2的薄膜，均匀地附在复折射率为n 3的衬底材料上。

φ1为光的入射角，φ2和φ3分别为薄膜中和衬底中的折射角。

光学薄膜透反射率的常用测量方法
1.透射法
透射法是一种常见的测量光学薄膜透反射率的方法。

它利用透射光的强度对薄膜进行测量。

首先，将薄膜样品放置于光源前方，透过光源照射到样品上，然后测量透射光的强度。

通过与样品前后的基板透射光强度进行比较，就可以得到薄膜透射率的信息。

2.反射法
反射法是另一种常用的测量光学薄膜透反射率的方法。

它利用薄膜反射光的强度进行测量。

首先，将薄膜样品放置在光源前方，让光照射到样品上，然后测量反射光的强度。

通过与空气或基板的反射光进行比较，就可以得到薄膜透射率的信息。

3.光谱透射法
光谱透射法是测量光学薄膜透反射率的一种精确方法。

它利用的是薄膜样品的透射光谱特征。

首先，将薄膜样品置于光源前方，然后使用光谱仪测量透射光的光谱特征。

通过分析透射光的波长和强度信息，就可以得到薄膜的透反射特性。

4.激光参比法
激光参比法是测量光学薄膜透反射率的一种高精度测量方法。

它利用激光器作为参比光源。

首先，将激光光束通过参比光路照射到参比探测器上，同时将激光光束通过薄膜样品照射到样品探测器上。

通过比较参比探测器和样品探测器接收到的光信号，就可以得到薄膜的透反射率。

除了以上四种常用的测量方法外，还存在其他一些用于测量光学薄膜透反射率的方法，例如自脉冲法、透微量测量法等。

每种方法都有其适用的场合和特点，根据具体的需求选择合适的测量方法是至关重要的。

总的来说，测量光学薄膜透反射率的常用方法有透射法、反射法、光谱透射法、激光参比法等。

一、椭圆偏振测量法椭圆偏振测量法早在1930年就已经产生，只因当时计算机技术的限制，以至进展缓慢。

该方法的工作原理是基于经典的电磁理论。

利用椭圆偏振测量法在已知基底折射率n s 的情况下，可以测定膜层的厚度d 和折射率n f 。

椭圆偏振测量的原理如下：若有一平行的单色光以0φ角入射到膜层上，则复振幅反射系数pr∧，sr∧，由下式给出p i e pr i e p r p r i e p r p r p r δδδ=-+-+=∧)2211/()221( s i e r i e sr s r i e s r s r s s r δδδ=-+-+=∧)2211/()221( 式中p r 1，p r 2，s r 1及s r 2是空气与膜的界面及膜与基板的界面的P 分量和s 分量的菲涅耳反射系数，它们的大小与n f 、n s 、及0φ有关。

φλπδcos )/2(d n f =，是薄膜的相位厚度，p δ和s δ是p 分量和s 分量的反射相位。

薄膜的椭圆函数∆=-==i e tg s p i e s r p r s r p r ϕδδρ)(//式中 s r p r tg /=ϕ s p δδ-=∆根据上述分析可知，椭圆函数ρ是n 0、n f 、n s 、0φ、d 及λ的函数，即),,,,,(),(00λφρϕρρd n n n s f =∆=在一般情况下，除n f 和d 未知外，其它均为已知，所以只要确定了ϕ和∆，就可解出n f 和d 。

实现椭圆偏振测量的装置有消光型和光度型的。

消光型是根据椭圆偏振光可以补偿成直线偏振光的原理，而光度型的不利用补偿原理而以测量光线强度为基础，配合计算机分析、得到ϕ和∆。

这种方法具有原子层级的灵敏度，并有非破坏性、非扰动性、高灵敏度和高精度等诸多优点。

故自这一技术产生以来，人们就在这一领域进行了大量的研究，且发展迅速。

一方面，测量仪器已从早期的单波长椭偏仪发展到了后来的多波长和连续波长的椭偏仪；另一方面，被测量的对象也日趋复杂化。

15光学薄膜透反射率的常用测量方法光学薄膜的透射率和反射率是衡量薄膜光学性能的重要参数，也是对薄膜性能进行研究和验证的主要手段之一、在实际应用中，有许多方法可以测量薄膜的透射率和反射率，下面将介绍一些常用的测量方法。

1.光谱分析法：光谱分析法是一种非常常用的测量薄膜透射率和反射率的方法。

该方法主要基于薄膜对不同波长的光的吸收、透射和反射特性。

通过使用光谱仪或分光光度计，可以测量材料在特定波长范围内的透射谱和反射谱，从而得到透射率和反射率。

此外，可以利用菲涅尔方程对薄膜的透射谱和反射谱进行定量理论分析和拟合，获得更精确的透射率和反射率值。

2.自动反射光源法：自动反射光源法是一种使用反射系数标准来测量薄膜透射率和反射率的方法。

该方法基于功率透射谱与功率反射谱之间的关系，通过利用一个已知反射率的标准样品作为参考，测量待测样品和标准样品的功率透射谱和功率反射谱，并计算得到反射系数，进而得到透射率和反射率。

3.变光角反射法：变光角反射法是测量薄膜透射率和反射率的常用方法之一、该方法基于光线在薄膜表面的反射特性，在改变入射角度时，测量反射光的强度，并根据反射率与入射角度之间的关系计算得到透射率和反射率。

4.光谱椭偏反射法：光谱椭偏反射法是一种测量薄膜透射率和反射率的非常灵敏和精确的方法。

该方法使用椭偏光测量技术，通过测量左旋和右旋椭偏光的反射光强度，并进行衍射计算，可以获得薄膜的透射率和反射率。

5.反射折射光谱法：反射折射光谱法在测量薄膜透射率和反射率时也是常用的方法之一、该方法主要通过光束的反射和折射，测量入射光和折射光之间的干涉效应来计算透射率和反射率。

通过利用反射波和透射波之间的干涉现象，可以得到薄膜的透射率和反射率。

总结而言，透射率和反射率是衡量光学薄膜性能的重要指标，有许多不同的测量方法可供选择，每种方法都有其适用的范围和优点。

在实际应用中，可以根据不同的需求和实验条件选择合适的方法进行测量，并结合其他表征技术对薄膜的光学性能进行全面研究和分析。

15光学薄膜透反射率的常用测量方法光学薄膜透射和反射率的测量是光学薄膜研究中的重要工作，能够帮助我们了解薄膜材料的光学性能和性质。

下面将介绍15种常用的光学薄膜透、反射率测量方法。

1.直接测量法：该方法使用光谱仪或光度计测量光源经过薄膜时的光强，从而计算得到透射率和反射率。

2.单波长法：使用一定波长的单色光源通过薄膜后测量透射光强和反射光强，计算透射率和反射率。

3.双波长法：使用两个不同波长的光源，通过测量透射和反射光强计算得到透射率和反射率，可以校正一些测量误差。

4.应用光栅的光谱测量法：通过应用光栅光谱仪，由不同波长的光分光成光谱，然后测量透射和反射光谱，进而得到透射率和反射率。

5.旋转增强全反射法：该方法通过控制入射角度和设置增强物，测量透射光强，然后计算出透射率和反射率。

6.衰减全反射法：该方法使用光强减弱过程中的反射光强和透射光强测量透射率和反射率。

7.光谱拟合法：根据测量得到的透射和反射光谱，利用模型拟合的方法计算透射率和反射率。

8.搭桥法：通过将样品与标准样品搭桥并测量透射光强，计算出透射率和反射率。

9.工作曲线法：在已知标准薄膜透射光强-透射率-反射率关系的基础上，通过测量得到的透射光强计算出透射率和反射率。

10.工作标准法：在已知标准薄膜的透、反射率的基础上，测量样品和标准样品的透、反射光强，从而计算出透射率和反射率。

11.多点法：通过在样品表面选取多个点测量透射光强，然后计算平均透射率和反射率。

12.自激法：通过调节激发电流或电压，使样品上光与流过薄膜的载流子相互作用，测量薄膜透射光强，计算透射率。

13.面板法：将样品放在凸透镜或凹镜之间，通过观察得到的同心圆环（若干阶圆环）测量透射和反射光强，计算出透射率和反射率。

14.四端法：通过在样品两端附加两个感应线圈，将交流信号注入样品，然后根据测得的电磁感应强度计算透射率和反射率。

15.利用传递矩阵法：通过测量样品和背板的透射和反射光强，并利用传递矩阵计算透射率和反射率。