发射区:掺 杂浓度较高
集电区:面 积较大
便于收集电子
C
集电极
B
基极
P N+ P++ E
发射极
基区:较薄,掺 杂浓度低
发射区:掺 杂浓度较高
集成电路中双极型NPN晶体管的截面图
E
C
N P N
B
均匀基区晶体管:基区掺杂为均匀分布。少子在基区主要
作扩散运动,又称为扩散晶体管。 缓变基区晶体管:基区掺杂近似为指数分布,少子在基区 主要作漂移运动,又称为漂移晶体管。
B
ICBO
RB EB
IBE
ICE N P N IE
E
24
IC=ICE+ICBO ICE C
IB=IBE -ICBOIBE
B IB
ICBO
RB EB
IBE
ICE N P N IE
EC
E
25
以 PNP 管为例。忽略势垒区产生复合电流, 处于放大状态 的晶体管内部的各电流成分如下图所示
C
B
IC IE
N+
P
0
NE(x)
NB(x)
xje xjc
NC
N
0 xje xjc
x
3.1.2 偏压与工作状态
加在各 PN 结上的电压为 C
C
集电极
集电结
VBE VB VE , VBC VB VC VEB VE VB , VCB VC VB
BJT是非线性元件,其工 作特性与其工作模式有关
IB
I E I pE I nE , I B I nE I nr , I C I pC I pE I pr I E I nE I nr