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光栅精密位移测量技术发展综述光栅精密位移测量技术是一种利用光栅原理进行精密位移测量的技术。
光栅是一种经过光学加工产生的具有一定周期的光学结构，由透光区和不透光区组成。
在应用中，通过将光线以一定的入射角度照射到光栅上，经过光栅的作用后，透射或反射出的光线将被分裂成不同的光束，形成一定的光衍射图案。
根据光衍射图案特征的变化，可以实现对被测量体位移的测量。
第一阶段：光栅发展初期（20世纪60年代至70年代）在20世纪60年代至70年代，光栅技术刚刚开始被应用于位移测量领域。
当时的光栅仅能实现粗略的位移测量，测量范围有限。
此时的光栅精密位移测量技术主要应用于科学研究领域。
第二阶段：数字式光栅技术发展（20世纪80年代至90年代）在20世纪80年代至90年代，随着集成电路技术的进步，数字式光栅技术开始被广泛应用于光栅精密位移测量领域。
数字式光栅通过将光栅的周期结构映射到一系列二进制码上，实现了对位移的数字化处理。
这种技术具有高测量精度、高信号稳定性、高分辨率等优势，被广泛应用于工业自动化等领域。
第三阶段：干涉式光栅技术发展（20世纪90年代至今）在20世纪90年代以后，干涉式光栅技术开始逐渐替代数字式光栅技术，成为光栅精密位移测量技术的主流。
干涉式光栅通过利用光的干涉现象，实现对位移的精密测量。
与数字式光栅相比，干涉式光栅具有更高的分辨率、更高的测量精度和更强的环境适应能力。
随着光学材料和检测技术的不断发展，光栅精密位移测量技术不断改进和创新。
例如，基于光纤传感技术的光栅位移传感系统实现了长距离测量和多点测量的应用；利用光学存储介质制作的光栅具有更高的光学品质和更低的测量误差。
总的来说，光栅精密位移测量技术经过几十年的发展，从初期的粗略测量到数字化处理再到干涉式测量，实现了从低精度到高精度的迅速提升。
随着科学技术的不断进步，相信光栅精密位移测量技术在未来会有更广阔的应用前景。
第1篇一、实验名称光栅衍射实验二、实验目的1. 理解光栅衍射的基本原理，包括光栅方程及其应用。
2. 掌握分光计的使用方法，包括调整和使用技巧。
3. 学习如何通过实验测定光栅常数和光波波长。
4. 加深对光栅光谱特点的理解，包括色散率、光谱级数和衍射角之间的关系。
三、实验原理光栅是由大量平行、等宽、等间距的狭缝（或刻痕）组成的光学元件。
当单色光垂直照射到光栅上时，各狭缝的光波会发生衍射，并在光栅后方的屏幕上形成一系列明暗相间的衍射条纹。
这些条纹的形成是由于光波之间的干涉作用。
根据光栅方程，可以计算出光栅常数和光波波长。
四、实验仪器1. 分光计2. 平面透射光栅3. 低压汞灯（连镇流器）4. 光栅常数测量装置5. 光栅波长测量装置五、实验步骤1. 准备工作：检查实验仪器是否完好，了解各仪器的使用方法和注意事项。
2. 调节分光计：根据实验要求，调整分光计，使其达到最佳状态。
3. 放置光栅：将光栅放置在分光计的载物台上，确保其垂直于入射光束。
4. 调节光源：调整低压汞灯的位置，使其发出的光束垂直照射到光栅上。
5. 观察衍射条纹：通过分光计的望远镜观察光栅后的衍射条纹。
6. 测量衍射角：使用光栅常数测量装置，测量衍射条纹的角宽度。
7. 计算光栅常数和光波波长：根据光栅方程，计算光栅常数和光波波长。
8. 重复实验：重复上述步骤，至少进行三次实验，以确保实验结果的准确性。
六、实验数据记录1. 光栅常数（d）：单位为纳米（nm）。
2. 光波波长（λ）：单位为纳米（nm）。
3. 衍射角（θ）：单位为度（°）。
七、实验结果与分析1. 计算光栅常数和光波波长：根据实验数据，计算光栅常数和光波波长。
2. 分析实验结果：比较实验结果与理论值，分析误差产生的原因，如仪器误差、操作误差等。
3. 讨论实验现象：讨论光栅衍射条纹的特点，如条纹间距、亮度等。
八、实验结论1. 通过实验，验证了光栅衍射的基本原理。
2. 掌握了分光计的使用方法，提高了实验操作技能。
光纤光栅传感器的应用研究及进展光纤光栅传感器（Fiber Bragg Grating Sensor，FBG Sensor）是一种基于光纤光栅的传感器技术，具有高精度、高灵敏度、抗干扰能力强等优点，在工业、医疗、环境监测等领域有着广泛的应用。
本文将从光纤光栅传感器的基本原理、应用领域和近年来的研究进展三个方面进行探讨。
光纤光栅传感器的基本原理是利用了光纤中的光栅结构对光波的折射率和光纤长度进行测量。
光纤光栅是一种周期性调制的折射率分布结构，当光波通过光纤光栅时，会发生布拉格散射，这种散射会使一部分光波反向传播并被光纤光栅再次散射回来，形成布拉格反射。
当光纤光栅受到外界的力、温度、应变等影响时，其折射率和长度会发生变化，从而导致布拉格反射波长的改变。
通过测量布拉格反射波长的变化，可以得到外界的参数信息。
光纤光栅传感器可以应用于多个领域。
在工业领域，光纤光栅传感器可以实现对物体的形变、压力、温度等参数的测量。
例如，在航空航天领域，光纤光栅传感器可以用于飞机机翼的变形监测；在石油化工领域，光纤光栅传感器可以用于管道压力和温度的监测。
在医疗领域，光纤光栅传感器可以应用于心脏瓣膜的监测和血压的测量。
在环境监测领域，光纤光栅传感器可以用于地下水位、土壤湿度等的监测。
近年来，光纤光栅传感器的研究取得了一系列的进展。
一方面，光纤光栅传感器的灵敏度和分辨率得到了提高。
通过改变光纤光栅的结构和优化信号处理算法，可以提高传感器的灵敏度。
另一方面，光纤光栅传感器的应用领域得到了拓展。
传统的光纤光栅传感器主要应用于单一参数的测量，如温度、压力等，而现在的研究主要关注多参数的测量。
例如，通过改变光纤光栅的布局和优化信号处理算法，可以实现对多种参数的同时测量。
此外，光纤光栅传感器还面临一些挑战和问题。
一方面，光纤光栅传感器的制备和安装需要专业的技术和设备，成本较高。
另一方面，光纤光栅传感器的应用受到光纤光栅的长度限制，难以实现对大范围区域的监测。
精密光栅的制备与测量技术精密光栅是一种应用于科学研究和工业应用中的重要器件。
它具有独特的结构和性能，能够用于精确测量、信息存储和光学通讯等领域。
在本文中，我们将探讨精密光栅的制备与测量技术，并介绍其在实际应用中的重要性。
一、精密光栅的制备技术精密光栅的制备涉及到复杂的工艺流程和高精度的设备。
其中最常用的制备技术是光刻法。
光刻法是在光敏胶层上照射光线，通过化学腐蚀、蚀刻等步骤来形成光栅结构。
这个过程需要使用到显微镜、激光器、光刻机等设备。
在制备过程中，首先要设计并制作好光栅的图案。
这需要绘制一个高精度的掩模，通常使用电子束光刻机来完成。
电子束光刻机具有高分辨率和精度，能够将设计的图案准确地转移到光敏胶层上。
接下来是光敏胶层的涂布和显影步骤。
光敏胶层是一种特殊的光敏材料，可以通过光线的照射进行化学反应。
当光线通过掩模透射到光敏胶层时，光敏胶层的化学结构会发生变化，从而形成光栅结构。
然后是蚀刻步骤。
在光敏胶层显影之后，会形成一个光栅图案。
接下来，需要使用化学蚀刻或物理蚀刻技术，将不需要的光敏胶层去除，从而形成最终的光栅结构。
这个过程需要使用到特殊的蚀刻液和设备，如离子束蚀刻机。
二、精密光栅的测量技术精密光栅的制备工艺决定了其结构的精度，而测量技术则保证了光栅的性能和质量。
光栅的测量主要包括两个方面：空间分辨率和频率精度。
在空间分辨率测量中，我们通常使用显微镜、扫描电子显微镜等设备，观察光栅表面的细节。
这可以帮助我们了解光栅的结构是否一致、是否存在缺陷等。
此外，我们还可以使用探针显微镜和原子力显微镜等设备，直接测量光栅结构的高度差异。
频率精度是另一个重要的测量指标。
光栅的频率精度决定了其在光学测量中的可靠性和准确性。
为了测量光栅的频率精度，我们通常使用干涉技术。
干涉技术通过比较光栅的实际频率与标准频率之间的差异，来评估光栅的质量。
这种测量通常使用干涉仪、激光器等设备进行。
三、精密光栅的应用精密光栅在科学研究和工业领域中具有广泛的应用。
纳米光栅制作技术的最新进展-最新文档资料纳米光栅制作技术的最新进展1 引言光栅是一种精密光学仪器的核心器件，通常，由大量等宽等间距的平行狭缝组成。
最初，光栅被用来实现复色光的空间分离，发展至今已有两百多年的历史。
21世纪以来，光栅的作用不再局限于光谱学领域，天文学、量子光学、集成光学、光通讯等诸多领域都需要光栅的参与。
本文首先简要介绍了纳米光栅制作的传统方法，然后讨论基于薄膜应力自组装制作纳米光栅的方法，期望引起国内科技工作者的关注，并得到进一步的研究与推广。
2 纳米光栅的传统制备方法2.1 机械刻划机械刻划是用来制作母光栅的传统加工方法，即使用符合精度要求的金刚石刻刀刻划金属膜。
利用刻划原理制备纳米光栅，可以在扫描探针纳米加工技术的基础上，使用原子力显微镜硅制探针在接触模式下对材料进行刻划[1]。
使用刻划法制作纳米光栅需要高精度的设备和环境，尤其需要稳定的供电，以及对室内温度、湿度的精确控制。
2.2 全息光刻全息光刻制备纳米光栅：首先将处理好的光学玻璃或熔石英等基底涂上一定厚度的光刻胶，烘干后放入干涉光学系统，通过两束准直激光干涉曝光并记录下干涉条纹，最后放入显影液中显影就可以获得图形。
2.3 飞秒激光直写飞秒激光直写加工是将飞秒激光聚焦到透明材料的内部，与电子相互作用产生非线性效应，诱发材料局部光学性质改变，通过控制激光与材料样品的相对移动得到不同量级的结构。
采用飞秒光源经过显微镜聚焦后逐点刻写光栅，可以通过精密移动平台的传动速度来调节光栅周期，具有较高的灵活性。
但是飞秒激光直接制备光栅需要复杂的光学系统将激光精确地聚集到一点，得到精确的光栅周期对控制平台移动的步电进机和传动装置也有很高的精度要求。
此外，因为聚焦的点有一定的面积，所以在制作周期较小的光栅时，可能会出现相邻两个折射率区域重叠的情况，影响成栅的质量。
3 薄膜应力自组装制作纳米光栅我们利用弹性基底上硬质薄膜在应力作用下的自组装特性，即自发产生周期分布的表面褶皱来制备纳米级光栅：在预拉伸的PDMS基底上利用磁控溅射技术沉积金属薄膜，薄膜沉积后释放预应变就会得到垂直预应力方向的周期性表面结构，该结构即为一维纳米光栅。
光栅位置检测系统及原理光栅位置检测系统是一种高精度的测量系统，被广泛应用于各种工业和科学领域，如光学，精密测量，纳米技术，电子工程等。
该系统的核心原理是利用光栅的周期性结构来测量位移。
下面将详细介绍光栅位置检测系统的基本组成、工作原理以及其应用。
一、光栅位置检测系统的基本组成光栅位置检测系统主要由光源、光栅、指示光栅（或称为读数头）、光电检测器和数据处理单元组成。
1.光源：提供光能，为整个系统提供原始动力。
常用的光源有可见光LED、激光等。
2.光栅：一种具有周期性刻线的透明或金属薄片，可以将入射光分成多个子束。
当光栅移动时，子束的数目和位置会发生变化，从而产生相位差。
3.指示光栅：与光栅配合使用，其作用是增加系统的精度和稳定性。
4.光电检测器：将光信号转换为电信号的组件，通常使用的是光电二极管或光电倍增管。
5.数据处理单元：对光电检测器产生的电信号进行处理，计算出光栅的位移量。
二、光栅位置检测系统的工作原理光栅位置检测系统的工作原理可以简述为“莫尔条纹”原理。
当光栅和指示光栅相对移动时，它们之间的光线相交会产生明暗交替的莫尔条纹。
这些条纹的移动与两个光栅的相对位移有关，通过测量莫尔条纹的数量，就能知道光栅的位移量。
具体来说，当光源发出的光照射到光栅上时，光栅的刻线会将光线分成多个子束。
这些子束在指示光栅上产生明暗交替的莫尔条纹。
当两个光栅相对移动时，莫尔条纹也会随之移动。
这个移动可以被光电检测器检测到并转化为电信号。
三、应用1.测量和控制系统：在自动化生产线上，需要对物体的位置、速度等进行精确控制。
光栅位置检测系统能够提供高精度的位置信息，为控制系统提供反馈信号，从而实现精确控制。
2.光学仪器：在望远镜、显微镜等光学仪器中，需要精确测量物体的位置和移动。
光栅位置检测系统能够提供高精度、高稳定性的位置信息，提高光学仪器的测量精度。
3.纳米技术：在纳米技术领域，需要对物体的尺寸、形状等进行精确控制。
基金项目:国家自然科学基金资助项目(50275047);安徽省重点实验室基金资助项目:安徽省教育厅自然科学基金资助项目(2003kj004);安徽大学“211工程”创新团队资助项目收稿日期:2005-06-29 收修改稿日期:2006-01-24光栅纳米测量的研究与进展马修水1,2,费业泰1,陈晓怀1,李桂华1,2,权继平2(1.合肥工业大学仪器仪表学院,安徽合肥 230009;2.安徽大学测量与控制工程系,安徽合肥 230039) 摘要:概括分析了光栅纳米测量中双光栅测量系统、炫耀光栅测量系统、基于误差修正技术的纳米光栅测量系统的测量原理及其关键技术,重点讨论了基于二次莫尔条纹原理的纳米光栅测量系统的测量原理。
在对上述各测量系统分析研究的基础上,指出光栅纳米测量进一步研究的关键在于:研究基于新型测量原理的光栅纳米测量系统,研制光栅纳米测量系统的精密机械调整机构、光电信号处理和细分技术、误差分离和修正技术等。
关键词:光栅纳米测量;双光栅测量系统;炫耀光栅;误差修正技术;二次莫尔条纹中图分类号:TH741.7 文献标识码:A 文章编号:1002-1841(2006)04-0053-031 光栅纳米测量的发展状况111 双光栅测量系统双光栅是利用两块光栅迭合时所形成的莫尔条纹进行测量的。
图1是高线数双光栅测量系统光路原理图[1-3],这种光栅结构主要包括光源、参考光栅、标尺光栅、角锥棱镜以及3个光电探测器,其工作原理如图2,其光路工作过程如下:图1 高线数双光栅测量系统光路图图2 双光栅系统原理图 (1)光源发射出的光束A 透射过参考光栅以后产生衍射光束,图2中只显示±1级衍射光B 和B ′。
(2)B 和B ′两束衍射光与角锥棱镜,标尺光栅采用Littrow自准直安装,每束光都首先入射标尺光栅,然后反射后的第1级衍射光进入角锥棱镜。
光束B 和B ′的经1级衍射光分别为C 、C ′.(3)C 、C ′的反射光D 、D ′从角锥棱镜出射,并且再次入射标尺光栅,此时与原反射光C 、C ′发生了平行于光栅刻槽的侧向位移。
(4)D 、D ′的第1级衍射光E 、E ′重新入射参考光栅,分别产生出射序列,E 、E ′是对称入射到参考光栅的同一点,并且它们的出射序列也重合在一起。
(5)在实际使用中,光电探测器1、2、3接收3路出射光F 、G 、H.取3路光电转换信号的目的是为了移相,供后续计数细分电路鉴向使用。
此系统使用光栅常数比为2的两根高线数光栅,由独特的双光栅结构实现了光学4细分,使光学位移分辨率达到标尺光栅栅距的1/4,加上高倍电子细分,使最终的位移分辨率达到1nm ,其测量范围等于标尺光栅的长度。
112 炫耀光栅[4-5]光能量在光栅光谱不同次级上的分配取决于光栅刻槽的几何形状,只要改变光栅刻槽的剖面形状,使之成为如图3所示的锯齿状,就能使衍射的大部分光能量由零级主极大移到所需的级次上,从而克服了透射光栅的光强分布情况中入射光的大部分能量都集中在零级衍射(没有色散)的主极大上,而在其他次级,尤其是较高级次上光强很小的弱点。
具有这种特性的光栅称为炫耀光栅。
在图3所示的定向透射光栅中,锯齿的长边相当于“衍射缝”,短边为不透光的“缝间隙”,N 为平均的光栅表面法线,N ′为长边的法线。
设入射光对光栅表面的入射角θi ,对衍射缝的入射角为α,它的某一衍射光对光栅表面的衍射角为θk ,而对衍射缝的衍射角为β,θb 是平均的光栅表面法线N 和长边的法线N ′的夹角,这些角度之间有如下的关系式:α=θi -θbβ=θk -θb图3 锯齿形炫耀光栅剖面图 2006年 第4期仪表技术与传感器Instrument T echnique and Sens or 2006 N o 14 图4是一种炫耀光栅测量机构的原理图,此机构由指示光栅G 1(炫耀光栅)和计量光栅G 2组成。
精确调整入射光束的入射角,使两条衍射线光线能量相等,且在两光栅的空隙间对称传播。
在经过计量光栅第二次衍射后,出射光a 、a ′通过透镜,在四象限光电管D 接收面上相干形成莫尔条纹。
可以证明当两块光栅相对移动一个细光栅的栅距时,两束衍射光相位差变化2π,也就是说,干涉条纹明暗变化一个周期,而且这种变化与计量光栅的栅距无关。
由于炫耀光栅的栅距比计量光栅小很多倍,所以系统分辨力大大提高。
此测量机构与气浮导轨及红宝石探头可组成超精密测量仪,其测量范围可达0～100mm ,分辨力可达1nm.图4 炫耀光栅原理图113 基于误差修正技术的光栅纳米测量应用光栅测量的系统误差的检测、分离和修正的方法,能够大幅度地提高光栅测量系统的精确度,使之从μm 、亚μm 级水平进入纳米级水平,以实现光栅μm 测量,其关键技术为[6-7]:11311 误差检测图5是误差检测系统的结构框图。
光栅纳米测量系统和激光干涉仪通过精密导轨联结在一起,测量轴线置于同一条直线上以保证符合阿贝原则。
选用同步动态检测方式,对于光栅纳米测量系统和激光干涉仪的测量数据,在由计算机控制的同步采样脉冲发生器发出的采样脉冲的触发下同时刻采样,并传给计算机进行处理。
图5 误差检测系统11312 误差分离光栅纳米测量的误差分为周期累计误差、细分误差和随机误差。
检测数据也是这3种误差成分混合叠加的结果。
为了进行系统误差补偿,必须将前两项误差从总的误差检测结果中分离出来。
这3种误差成分具有不同的频谱特性,可以很容易地通过傅里叶变换和离散频谱分析的方法来实现误差分离;检测数据中基频与莫尔条纹空间频率一致的成分为细分误差;将其分离出来后,对剩余的部分进行低通滤波,去掉高频的随机误差,即得到周期累计误差。
11313 误差补偿光栅纳米测量的补偿策略有以下几种:1131311 归一补偿光栅纳米测量的归一补偿是指在全量程的所有位置上,采用相同的补偿参数进行系统误差补偿,即对于周期累计误差,用同一条直线进行线性补偿;对于细分误差,使用同一条细分误差补偿曲线。
光栅测量的计算公式:X =n ×W +e(1)式中:X 为光栅补偿前的位移量;n 为通过的莫尔条纹信号的整周期数的计数值;W 为莫尔条纹信号空间周期的常数;e 为细分电路得出的细分量。
设周期累计误差的固定偏移量为δ,斜率补偿系数为β,细分误差曲线用函数ERR (e )来表示,则补偿后的位移X b 的计算公式为X b =[X -ERR (e )]×β-δ=[n ×W +e -ERR (e )]×β-δ(2)由于光栅测量是相对测量,而在归一补偿法中δ为固定值,故可令δ为0,而不影响测量结果,于是归一补偿法的计算公式变为X b =[n ×W +e -ERR (e )]×β(3)全量程归一补偿意味着补偿数值的获取与当前测量位置无关,可以适用于没有绝对零位的光栅测量系统,尤其适用于高速光栅纳米测量系统。
其缺点是在系统误差比较大的系统中,误差可能补偿得不够彻底,补偿精度不够高。
1131312 分段补偿所谓分段补偿,就是将全量程根据其误差特性分为若干段,每一段都有自己的补偿参数,按所处段的不同进行不同的补偿,即对于周期累计误差,每一段都按各自的补偿函数进行补偿;对于细分误差,每一段都有自己的细分误差补偿曲线。
分段补偿法的计算公式:X b =[n ×W +e -ERR (k ,e )]×β(k )-δ(k )(4)式中:ERR (k ,e )为第k 段的细分误差函数;β(k )为第k 段周期累计误差补偿系数;δ(k )为第k 段的周期累计误差的偏移值。
分段补偿法的优点是当分段数足够多时,可以对系统误差进行精确的修正。
其缺点是要求测量系统有绝对零位,需大量存储空间存储表格数据,影响系统整体测量速度。
1131313 混合补偿以上两种补偿方法,既可单独使用,也可以交叉混合用来适应不同场合的特殊要求,这就是混合补偿。
混合补偿可以在测量精度和速度之间取得某种折衷[8-9]。
114 基于二次莫尔条纹的光栅纳米测量系统[10]系统结构如图6所示,图中,指示光栅b 和指示光栅c 固定在同一测量基尺上,标尺光栅a 分别与指示光栅b 和指示光栅c 产生两组一次莫尔条纹信号Ⅰ-Ⅱ和Ⅰ′-Ⅱ′,利用透镜1和2来调整一次莫尔条纹的移动方向。
透镜3、4和5、6分别将一条莫尔条纹信号Ⅰ-Ⅱ和Ⅰ′-Ⅱ′缩小,以便有足够数量的一次莫尔条纹再次干涉形成二次莫尔条纹。
当指示光栅b 和指示光栅c 沿着标尺光栅a 相对移动时,指示光栅b 和指示光栅c 分别和标尺光栅a 产生的两组一次莫尔条纹信号,通过透镜1 54 Instrument T echnique and Sens orApr 12006 图6 基于二次莫尔条纹光栅纳米测量系统原理结构和2使两组一次莫尔条纹信号的移动方向相反。
两组一次莫尔条纹信号通过透镜3、4和5、6以及棱镜1、2处理,将在光电接收元件上干涉产生二次莫尔条纹条纹,通过对二次莫尔条纹信号进行电子细分,可获得更高的细分测量精度,经过仿真计算,光栅传感器分辨力达到5140×10-10m,测量精度达到nm 级。
2 光栅纳米测量的关键技术211 基于新型测量原理光栅纳米测量系统的研究基于衍射光学原理的光栅纳米测量系统,测量范围较小,系统复杂,在大位移测量仪器中应用受到限制。
基于误差修正技术的计量光栅纳米测量系统,误差标定、误差分离、误差修正程序复杂,且对测量环境要求苛刻。
为了满足测量范围大、抗干扰能力强的纳米测量仪器的需要,必须在测量原理的研究上有所突破。
基于二次莫尔条纹原理研究的纳米测量精度的计量光栅传感器,通过理论计算和仿真,能够达到纳米测量精度。
但是,将理论变成现实产品,需在以下关键技术方面进一步研究:纳米测量精度光栅传感器光栅副的设计和研制;莫尔条纹成像过程中光能量平衡关系的研究;光电发送和接受元件的特性匹配和优化设计;光电系统的动态特性等。
212 精密机械系统的研制精密的机械系统是实现光栅纳米测量的重要保证。
如何设计和制造出行程在mm级或几十mm甚至几百mm的适合纳米级测量精度需要的驱动装置和导轨,仍是目前需要解决的技术难题。
213 光电信号处理和细分技术光栅纳米测量中高频响应与高分辨力之间存在矛盾,有必要研究具有更高频率响应、高细分份数的莫尔条纹细分技术。
光栅纳米测量不仅要求有高的细分份数,而且要求细分均匀,使其具有高的细分精度和较强的误差补偿和误差修正的潜力。
214 误差分离和误差修正光栅测量是以实物作为测量基准的,虽然在加工、装配、调整、信号处理等众多环节中采取了许多措施,但仍然还有很多误差因素不可避免,如光栅的刻划误差、导轨的直线度误差、电子元器件的非线性等。
