1、改良西门子法是目前主流的生产方法(总)

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1、改良西门子法是目前主流的生产方法

多晶硅是由硅纯度较低的冶金级硅提炼而来,由于各多晶硅生产工厂所用主辅原料不尽相同,因此生产工艺技术不同;进而对应的多晶硅产品技术经济指标、产品质量指标、用途、产品检测方法、过程安全等方面也存在差异,各有技术特点和技术秘密,总的来说,目前国际上多晶硅生产主要的传统工艺有:改良西门子法、硅烷法和流化床法。改良西门子法是目前主流的生产方法,采用此方法生产的多晶硅约占多晶硅全球总产量的85%。但这种提炼技术的核心工艺仅仅掌握在美、德、日等7家主要硅料厂商手中。这些公司的产品占全球多晶硅总产量的90%,它们形成的企业联盟实行技术封锁,严禁技术转让。短期内产业化技术垄断封锁的局面不会改变。

在未来15-20年内,采用改良西门子法工艺投产多晶硅的资金将超过1,000亿美元,太阳能级多晶硅的生产将仍然以改良西门子法为主,改良西门子法依然是目前生产多晶硅最为成熟、最可靠、投产速度最快的工艺,与其他类型的生产工艺处于长期的竞争状态,很难相互取代。尤其对于中国的企业,由于技术来源的局限性,选择改良西门子法仍然是最现实的作法。在目前高利润的状况下,发展多晶硅工艺有一个良好的机遇,如何改善工艺、降低单位能耗是我国多晶硅企业未来所面临的挑战。

2、西门子改良法生产工艺如下:

这种方法的优点是节能降耗显著、成本低、质量好、采用综合利用技术,对环境不产生污染,具有明显的竞争优势。改良西门子工艺法生产多晶硅所用设备主要有:氯化氢合成炉,三氯氢硅沸腾床加压合成炉,三氯氢硅水解凝胶处理系统,三氯氢硅粗馏、精馏塔提纯系统,硅芯炉,节电还原炉,磷检炉,硅棒切断机,腐蚀、清洗、干燥、包装系统装置,还原尾气干法回收装置;其他包括分析、检测仪器,控制仪表,热能转换站,压缩空气站,循环水站,变配电站,净化厂房等。

(1)石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅,

其化学反应SiO2+C→Si+CO2↑

(2)为了满足高纯度的需要,必须进一步提纯。把工业硅粉碎并用无水氯化氢(HCl)与之反应在一个流化床反应器中,生成拟溶解的三氯氢硅(SiHCl3)。

其化学反应Si+HCl→SiHCl3+H2↑

反应温度为300度,该反应是放热的。同时形成气态混合物(Н2, НС1, SiНС13, SiC14, Si)。

(3)第二步骤中产生的气态混合物还需要进一步提纯,需要分解: 过滤硅粉,冷凝SiНС13,SiC14,而气态Н2,НС1返回到反应中或排放到大气中。然后分解冷凝物SiНС13, SiC14,净化三氯氢硅(多级精馏)。

(4)净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。

其化学反应SiHCl3+H2→Si+HCl。

多晶硅的反应容器为密封的,用电加热硅池硅棒(直径5-10毫米,长度1.5-2米,数量80根),在1050-1100度在棒上生长多晶硅,直径可达到150-200毫米。这样大约三分之一的三氯氢硅发生反应,并生成多晶硅。剩余部分同Н2,НС1,SiНС13,SiC14从反应容器中分离。这些混合物进行低温分离,或再利用,或返回到整个反应中。气态混合物的分离是复杂的、耗能量大的,从某种程度上决定了多晶硅的成本和该 3工艺的竞争力。

在西门子改良法生产工艺中,一些关键技术我国还没有掌握,在提炼过程中70%以上的多晶硅都通过氯气排放了,不仅提炼成本高,而且环境污染非常严重。在“十一五”期间,为实现采用改良西门子工艺的多晶硅的产业化,建议开展下述课题研究:基于SiHCl3氢还原法的低电耗多晶硅生成反应器技术;干法回收中H2、HCl、SiHCl3、SiCl4混合气体大能力无油润滑加压装置;SiCl4氢化反应器进料系统控制技术装置;大型多侧线SiHCl3高效提纯技术装置;千吨级多晶硅生产系统自动控制组态技术。

西门子法主要分为三个关键过程:一是硅粉和氯化氢在流化床上进行反应以形成中间化合物三氯氢硅(TCS);二是将三氯氢硅进行分馏以获得ppb级高纯的状态;三是将超纯三氯氢硅用氢气通过化学气相沉积(CVD)还原成所需的产品--

半导体级多晶硅。

西门子法也称三氯氢硅精馏法,因此法由西门子公司发明而得名[10].西门子法是目前生产多晶硅,特别是单晶硅用多晶硅的主要方法,其主要流程见图3.

图3 西门子法生产多晶硅流程简图

Fig·3 The general flow chart ofpolysilicon production by siemens process 如图,首先将工业硅粉碎,在流化床反应器中与HCl气体混合并发生反应(350℃)Si+3HCl→SHi Cl3+H2,由于SHi Cl3在30℃下呈液态,所以很容易与氢气分离.将得到的SHi Cl3精馏与其它杂质的氯化物分离.经过提纯后的SHi Cl3在高温(1 100~1 200℃)进行化学气相沉积(简称VCD),得到6N~10N的电子级多晶硅棒.

改良西门子法

1955年,西门子公司成功开发了利用H2还原SiHCl3在硅芯发热体上沉积硅的工艺技术,并于1957年开始了工业规模的生产,这就是通常所说的西门子法。在西门子法工艺的基础上,通过增加还原尾气干法回收系统、SiCl4

氢化工艺,实现了闭路循环,于是形成了改良西门子法——闭环式SiHCl3氢还

原法。改良西门子法的生产流程是利用氯气和氢气合成H C l(或外购HCl),HCl 和工业硅粉在一定的温度下合成SiHCl3,然后对SiHCl3进行分离精馏提纯,提纯后的SiHCl3在氢还原炉内进行化学气相沉积反应得到高纯多晶硅。改良西门子法包括五个主要环节:即SiHCl3合成、SiHCl3精馏提纯、SiHCl3的氢还原、尾气的回收和SiCl4的氢化分离。该方法通过采用大型还原炉,降低了单位产品的能耗。通过采用SiCl4氢化和尾气干法回收工艺,明显降低了原辅材料的消耗。改良西门子法是目前生产多晶硅最为成熟、投资风险最小、最容易扩建的工艺,国内外现有的多晶硅厂大多采用此法生产太阳能级与电子级多晶硅。所生产的多晶硅占当今世界生产总量的70%~80%。改良西门子法生产多晶硅属高能耗的产业,其中电力成本约占总成本的70%左右。

(1)改良西门子法。改良西门子法是以HCl(或Cl2、H2)和冶金级工业硅为原料,

由SiHCl3氢还原生产多晶硅。西门子法目前已改良发展到第三代技术。第一代技术只对还原炉中未反应的氢气进行回收利用,只适合于百吨以下规模生产。第二代是在第一代的基础上,实现了SiCl4的回收利用,增加沉积速度,从而扩大生产。第三代技术通过采用活性炭吸附法或冷SiCl4溶解HCl法,解决了干法回收氯化氢技术,将得到的干燥的HCl又进入流化床反应器与冶金级硅反应,从而实现了完全闭路循环生产,适用于现代化年产1000T以上规模的多晶硅生产。其具体生产工艺流程见图1。