4
V E
g1
b2
ΔE
V
Vb1 =
E
V
V 1
b1
ε 2 N 2 (Vbi − V ) ε1 N1 + ε 2 N 2
Vb 2 =
ε1 N1 (Vbi − V ) ε1 N1 + ε 2 N 2
2ε1ε 2 N1 (Vbi − V )
x1 x = 0
x2
其中,N1和N2分别为半导体1和2的杂质浓度。耗尽区宽度x1和x2为
α
β
10
2
3 dB
β
10
β
α
0
α=
α0
其中fβ称为共射截止频率
10
2
1
α0
3 dB 0 .1 5 10 10
6
3 dB
1+j ( f / f α )
10
β
f β = (1 − α 0 ) f α
由于α0≈1,所以fβ远小于fα。
fβ 10
7
fT 10
8
fα 10
9
10
10
频率 / Hz
其中α 0 是低频(或直流)共基电 流增益,fα 是共基截止频率, 当 工 作 频 率 f=fα 时 , α的 值 为 0.707 α0(下降3dB)。
10
3
截止频率 :在低频时,共基电流增益是一固定值,不会因工 作频率而改变,然而当频率升高至一关键点后,共基电流增 益将会降低。右下图是一典型的共基电流增益相对于工作频 率的示意图。 加入频率的参量后,共基 电流增益为
10
3
右图中也显示了共射电流增益,
β0
β≡
0 = 1-α 1+j ( f / f β )