透射电子显微镜的结构及成像

透射电子显微镜的原理透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束来观察物质微观结构的工具。

相对于光学显微镜，TEM可以提供更高的分辨率和更大的放大倍数，因此在研究纳米尺度物体和物质的晶体结构等方面具有独特的优势。

下面将介绍TEM的原理以及工作过程。

TEM的主要组成部分包括电子源、电子光学系统、样品台以及探测器。

第一部分是电子源。

TEM使用的是热阴极电子源，通过加热材料产生的电子可以使它们跨越电子能障形成电子束。

电子束的形成需要经过一系列的加速器和准直透镜等装置，以确保电子束稳定的强度和方向。

第二部分是电子光学系统。

TEM的电子光学系统由一个或多个透镜组成，包括准直透镜、磁透镜和目标透镜。

准直透镜用于平行化电子束，磁透镜用于对电子束进行聚焦，目标透镜用于调整电子束的焦距。

这些透镜的组合可以将电子束聚焦到非常小的尺寸上，从而实现高分辨率的成像。

第三部分是样品台。

样品台是放置待观察样品的平台，可以通过控制样品的位置、倾斜角度等参数来调节观察角度和焦距。

第四部分是探测器。

探测器是接收和记录电子束穿过样品时所发生的相互作用的装置，常用的探测器包括像差探测器（Diffraction Contrast Detector）和投影光学探测器（Projection Optics Detector）。

像差探测器可以测量样品中的晶体缺陷和晶体结构，而投影光学探测器可以获得样品的原子分布图像。

TEM的工作过程如下：首先，样品被制成非常薄的切片，并被放置在样品台上。

然后，电子束由电子源发出，并通过光学系统的透镜进行聚焦。

接下来，聚焦的电子束穿过样品，并与样品中的原子和分子发生相互作用。

这种相互作用包括电子-电子相互作用、电子-晶格相互作用和电子-原子核相互作用。

然后，电子束到达探测器，根据不同的探测器可以得到不同的信息。

像差探测器可以根据电子束的衍射来获得样品中的晶体结构信息，而投影光学探测器则可以获得样品的原子分布图像。

透射电镜结构原理及明暗场成像透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope, TEM）是一种利用电子束来观察物质微观结构的仪器。

与光学显微镜相比，透射电镜具有更高的分辨率和更强的放大能力。

其结构原理主要包括电子源、透射电子束、样品与透射电镜之间的相互作用、透射电镜成像系统。

1.电子源：透射电子显微镜主要使用热电子发射阴极作为电子源。

通常使用钨丝发射、氧化物表面发射或冷钨阴极等方式来产生电子束。

2.透射电子束：电子源发射出的电子经过一系列的电子光学透镜系统进行聚焦和调节，形成一束准直的电子束。

透射电子束的能量通常为几千伏到几十万伏之间，能量越高，穿透力越强。

3.样品与透射电镜之间的相互作用：透射电子束通过样品后，会与样品中的原子和分子发生相互作用。

这些相互作用包括散射、散射衍射和吸收。

这些相互作用使得电子束的方向、速度、能量等发生变化。

透射电子显微镜中的明暗场成像原理如下：1.明场成像：在明场条件下，样品中的透射电子束被物镜聚焦，形成一个清晰的像。

物体的亮度取决于电子束的强度，在没有样品的地方透射电子束强度最大，物体越厚，透射强度就越小，呈现出亮度变暗的效果。

明场成像适合于观察形貌和表面特性。

2.暗场成像：在暗场条件下，样品被遮挡住一部分区域，只有经过遮挡区域的电子束能够通过。

这样，只有经过散射才能把电子束引入投影镜，通过暗场的形成，呈现出样品的内部结构。

暗场成像适合于观察晶体缺陷、界面反应等。

总之，透射电子显微镜利用电子束的穿透性质，通过样品与电子束的相互作用以及透射电镜的光学系统，实现了对物质微观结构的高分辨率观察。

明暗场成像原理使得我们可以观察到不同结构和特性的样品的不同信息。

透射电子显微镜的原理透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束来观察和研究物质的光学仪器。

与光学显微镜相比，透射电子显微镜具有更高的分辨率，能够观察到更小尺寸的物体和更细微的结构。

1.电子源：透射电子显微镜使用热阴极或冷场发射阴极作为电子源。

热阴极通过电子加热产生热电子，冷阴极则利用材料的特殊电子发射特性产生电子束。

2.透镜系统：透射电子显微镜使用一系列电磁透镜来控制和聚焦电子束。

其中包括准直透镜、对焦透镜、物镜透镜和投影透镜。

这些透镜通过调节电流和电压来控制电子束的聚焦和成像。

3.样品台：样品台是支撑和处理样品的平台。

它通常具有位置调节和倾斜功能，以使得样品的成像角度和位置能够被调整。

4.探测器：透射电子显微镜使用不同的探测器来测量透射电子的强度和散射电子的角度。

最常用的探测器是透射电子探测器和散射电子探测器。

5.图像显示系统：透射电子显微镜的图像显示系统通常由CCD摄像机和显示器组成。

CCD摄像机将透射电子的信号转化为电信号，并通过计算机处理后在显示器上显示。

透射电子显微镜的分辨率取决于电子波长。

与可见光相比，电子具有更短的波长，能够给出更高的分辨率。

透射电子的波长约为0.004纳米到0.1纳米，比可见光的波长小3个数量级。

因此，透射电子显微镜能够观察到比光学显微镜更小的物体和更细微的结构。

透射电子显微镜的应用广泛，包括材料科学、生物学、纳米技术等领域。

在材料科学中，透射电子显微镜可以用来观察和研究材料的晶体结构、晶格缺陷以及元素分布等。

在生物学中，透射电子显微镜可以用来观察和研究生物分子的结构和细胞的超微结构。

在纳米技术中，透射电子显微镜可以用来观察和研究纳米材料和纳米器件的性质和性能。

总而言之，透射电子显微镜通过利用电子束来观察和研究物质的原理，具有较高的分辨率和广泛的应用领域。

它在科学研究和工业生产中发挥着重要的作用，为我们提供了深入认识和理解微观世界的工具。

透射电子显微镜解析出材料结构与缺陷的微观形貌材料科学与工程领域中，了解材料的微观结构和缺陷是极为重要的。

透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）作为一种高分辨率的显微镜，被广泛应用于研究材料的微观结构和缺陷的形貌。

本文将对透射电子显微镜的原理以及其在解析材料结构和缺陷方面的应用进行探讨。

首先，我们来了解一下透射电子显微镜的原理。

TEM利用电子束的穿透性质，通过透射模式进行成像。

当电子束通过材料样品时，被材料中的原子核和电子云散射，形成折射、衍射和透射等效应。

其中，透射电子显微镜主要依靠透射电子的成像来解析材料的微观结构和缺陷。

在TEM中，电子束通过样品后，经过透射器（透镜）和投影透镜组件进行成像，最后由像差校正系统进行调整来提高成像质量。

透射电子显微镜的高分辨率使得它能够解析出材料的微观形貌，包括晶体结构、晶格缺陷和界面等。

透射电子显微镜在解析材料结构方面具有得天独厚的优势。

通过TEM的高分辨率成像，可以直接观察到材料的晶格结构。

晶体的晶体结构、晶胞参数、晶体方向和位错等重要的结构信息可以通过TEM成像来获得。

通过选取特定的衍射点和晶格平面，可以进一步通过电子衍射技术确定晶体结构。

透射电子衍射技术可以通过模式匹配和比对已知晶体结构的衍射图案来确定材料的晶体结构，为研究和设计材料提供了重要的依据。

此外，透射电子显微镜还可以帮助解析材料中的晶体缺陷。

晶格缺陷是材料中常见的现象，对材料的性能和行为产生显著影响。

通过透射电子显微镜观察，可以揭示出材料中的位错（dislocation）、嵌错（inclusion）、晶界（grain boundary）和尖晶石等各种缺陷。

位错是晶体中最常见的缺陷类型之一，它们对晶格的完整性和形貌起到了至关重要的作用。

透射电子显微镜可以通过成像和EDS（能谱分析）技术来定量和表征位错的类型和密度。

此外，透射电子显微镜还可以通过高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）技术对材料的晶界和界面进行观察，揭示出材料微观结构中的复杂性。

透射电镜结构原理及明暗场成像1 简介透射电子显微镜如图1所示（Transmission Electron Microscope，TEM）是利用高能电子束充当照明光源而进行放大成像的大型显微分析设备，透射电子显微镜是一种具有高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器，被广泛应用于材料科学等研究领域。

透射电子显微镜按加速电压分类，通常可分为常规电镜(100kV)、高压电镜(300kV)和超高压电镜(500kV以上)。

提高加速电压，可缩短入射电子的波长。

一方面有利于提高电镜的分辨率；同时又可以提高对试样的穿透能力，这不仅可以放宽对试样减薄的要求，而且厚试样与近二维状态的薄试样相比，更接近三维的实际情况，在自然科学研究中起到日益重要的作用图1 透射电镜2 透射电镜的基本结构及工作原理透射电子显微镜由以下几大部分组成：照明系统，成像光学系统；记录系统；真空系统;电气系统，如图2所示。

成像光学系统，又称镜筒，是透射电镜的主体。

照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。

电子枪是发射电子的照明光源。

聚光镜是把电子枪发射出来的电子会聚而成的交叉点进一步会聚后照射到样品上。

照明系统的作用就是提供一束亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。

图2 透射电子显微镜主体的剖面图成像系统主要由物镜、中间镜和投影镜组成。

物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。

透射电子显微镜分辨本领的高低主要取决于物镜。

因为物镜的任何缺陷都被成像系统中其它透镜进一步放大。

欲获得物镜的高分辨率，必须尽可能降低像差。

通常采用强激磁，短焦距的物镜。

物镜是一个强激磁短焦距的透镜，它的放大倍数较高，一般为100-300倍。

目前，高质量的物镜其分辨率可达0.1nm左右。

中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜，可在0-20倍范围调节。

当M>1时，用来进一步放大物镜的像；当M<1时，用来缩小物镜的像。

在电镜操作过程中，主要是利用中间镜的可变倍率来控制电镜的放大倍数。

透射电子显微镜原理透射电子显微镜（transmission electron microscope, TEM）是利用透射电子成像，因而要求样品极薄（加速电压100kV时，样品厚度不能超过100nm）。

其结构包括三大部分：电子学系统、真空系统和电子光学系统。

电子光学系统提供电子束，在高真空条件下照射到样品上，经过成像系统中的物镜成像，再经过中间镜和投影镜的进一步放大，获得的图像记录在CCD上。

TEM使用油扩散泵（Diffuse Pump）来实现高真空。

由于油扩散泵的启动和关闭都需要30分钟，导致TEM开机和关机都至少需要30分钟。

TEM发射出的高能电子束轰击到光路元器件上以及样品上，会产生以X-ray为主的等等其他射线辐射，因此建议孕妇等过敏性体质者尽量避免接触TEM。

由于平台现有TEM的加速电压为100kV，是一台生物电镜，因此无法满足材料科学上要求的高放大倍数（30万倍以上）、高分辨、衍射花样等实验要求，有这方面需求的科研人员请与武大、地大等单位联系。

TEM是研究结构生物学的有力工具。

除了电镜之外，现在尚没有一种仪器能使人们用肉眼直接观察到亚细胞结构、蛋白大分子（直径20nm以上）的排列结构形态。

利用电镜观察超微结构的形态和位置，可以研究解决部分形态和功能的问题。

TEM是研究超微结构必须的工具之一，但它存在一些缺点：（1）TEM的价格昂贵，维护费用及其配件、耗材都在几百甚至上千美元以上。

（2）TEM的维护和使用均要求较高的技术，也是一个精细、繁琐的过程。

TEM每3天要做一次维护和电子光路调整，每次调整和维护至少需要2个小时。

（3）TEM不能像光镜那样随时可用，受到很多限制。

TEM放大倍数有很多，再加上切片的限制，因此无法实现始终同一放大倍数的拍摄。

（4）TEM样品必须置于真空中，因此对活体标本的观察是不可能的。

（5）TEM样品取材及制备存在局限性。

TEM取材要求只有1mm3大小块状，而且观察面更小，如果把一个厚6µm的细胞核切成60nm的超薄切片，可以且100张，而一般光镜的石蜡切片厚度即为6µm。

透射电子显微镜部分结构及功能在光学显微镜下无法看清小于0.2&micro;m的细微结构，这些结构称为亚显微结构（s ubmicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructu res）。

要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。

1 932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron mi croscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。

目前TEM的分辨力可达0.2nm。

电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。

另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。

这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。

电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机。

电子显微镜是使用电子来展示物件的内部或表面的显微镜。

高速的电子的波长比可见光的波长短（波粒二象性），而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制，因此电子显微镜的分辨率（约0.1纳米）远高于光学显微镜的分辨率（约200纳米）。

透射式显微镜的结构与原理透射式电子显微镜(TEM)与投射式光学显微镜的原理很相近，它们的光源、透镜虽不相同，但照放大和成像的方式却完全一致。

在实际情况下无论是光镜还是电镜，其内部结构都要比图示复杂得多，图中的聚光镜（condonser lens）、物镜（object lens）和投影镜（projection lens）为光路中的主要透镜，实际制作中它们往往各是一组（多块透镜构成），在设计电镜时为达到所需的放大率、减少畸变和降低像差，又常在投影镜之上增加一至两级中间镜（i ntemediate lens）。

TEM透射电子显微镜的成像原理TEM（Transmission Electron Microscopy）是一种高分辨率的显微镜技术，主要用于研究材料的微观结构和组织。

TEM利用电子束而非光束，可以实现比光学显微镜更高的分辨率，能够观察到纳米级别的细节。

其成像原理可以分为电子光学原理和电子-物质相互作用原理两个方面。

首先，电子光学原理是TEM成像的基础。

TEM的光学系统由一个电子源、一系列透镜、标本和一个像屏组成。

电子源通常采用热阴极的方式，通过加热金属丝使其发射电子。

这些电子经过一系列透镜的聚焦作用，形成一个细束，并进入样品。

对于TEM而言，最重要的透镜是电磁透镜，通常是通过一对线圈产生的。

电磁透镜中的电磁场可以对电子束进行聚焦和对准，以便在样品上形成清晰的像。

透镜的设计和设置可以调整其聚焦能力和调制电子束的波前。

透射电子显微镜通常具有两个凸透镜，分别称为物镜和目镜。

物镜透镜在样品和像屏之间，起到聚焦电子束和收集被样品散射的电子的作用。

目镜透镜位于像屏和观察者之间，用于观察和放大图像。

其次，电子-物质相互作用原理也是TEM成像的重要部分。

透射电子在穿过样品时会与样品中原子的电子发生相互作用，这种相互作用会导致电子的散射和吸收。

根据散射和吸收的强弱，我们可以获得关于样品内部结构和组织的信息。

散射现象包括弹性散射和非弹性散射。

弹性散射是指电子与原子的表面电子或晶格电子发生碰撞而改变方向，但能量基本保持不变。

非弹性散射是指电子在与样品中的原子碰撞时损失或获得能量。

这些散射电子通过透镜被聚焦到像屏上，呈现出所观察到的图像。

通过分析散射电子的强度和角度，我们可以推断出样品中的晶体结构、物质的化学成分和其它细节。

吸收现象是指电子在穿过样品时被材料中的原子吸收。

这种吸收现象通常被用来确定材料的厚度和密度。

因此，TEM利用电子束与样品相互作用的方式，可以获得关于样品结构和组织的信息。

通过聚焦和收集散射电子，形成清晰的图像，进而研究材料的微观特性。