制绒培训

5.影响制绒的因素
5.1 单晶制绒影响因素分析
硅的腐蚀速率与表面原子密度、晶格方向、掺杂浓度、 溶液成分、浓度、温度、搅拌等参数有关 5.1.1 影响因素
• NaOH及异丙醇浓度 • 制绒槽内硅酸钠的累计量 • 制绒反应的温度 • 制绒反应时间的长短 • 槽体密封程度、异丙醇的挥发程度
南安市三晶阳光电力有限公司
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9.1.3 表面污染
现象：同一批片子相同位置有 一些类似于油污一样的污渍
原因：来料问题，可能于切片 后干燥处理有关系或者是包装 时引入 解决方法： 1、与硅片厂家协商； 2、加大预清洗浓度； 3、重新制绒。
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9.1.4 表面污渍
现象：制绒后表面有污渍
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目
录
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1.制绒基础知识
1.1 什么是制绒
制绒是将硅表面进行预清洗并用强碱或强酸腐蚀成 类似金字塔状或蜂窝状结构的过程
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1.2 制绒的作用
1.2.1 去除损伤层 1.2.2 形成减反射绒面（陷光结构）
5.1.2 各个因素作用
NaOH浓度
制绒的根本 反应温度 NaSiO3浓度 IPA浓度
反应控制过程
提高溶液浓稠度， 控制反应速度 提高反应物疏运 速度，提高氢气 泡脱附作用
氢气泡密度及大小 以及在硅片表面停 留的时间
过程控制
搅拌或 鼓泡
决定金字塔形貌
硅片表面原始状态，如：表面平整度、有 无油污、划伤及硅片厚度等
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5.2.1 湿法各相同性腐蚀
腐 蚀 速 率

制绒设备基本原理培训
2019/3/30
晋能清洁能源科技有限公司
培训目录
一．前清洗工序的目的 二．前清洗工艺步骤 三．前清洗设备组成 四．前清洗设备开关机步骤 五．前清洗设备换药液流程 六．设备日常维护
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一 制绒的目的及原理（1）
根据工艺方法不同，制绒可分为碱制绒（仅适用于单晶硅制绒）和酸制绒（可用于单晶和多晶硅表面 的制绒）。捷佳创设备为酸制绒设备，其目的主要有： 去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） 清楚表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCL) 形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc),最终提高电池光电 转换效率。
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设备开始运行步骤：
合上总电源开关、PLC电源开关及各个主电源开关
将控制台上“自动/手动”转换开关切换到手动 确认各有液槽体的液位正常 检查所有光电开关等信号开关是否松动，确保所有信号正常，确认无故障及异常现象 把画面切入系统启动界面，按下“回原点”按钮，触摸屏上显示“OK”后将控制台上“自 动/手动”转换开关切换到自动状态，再点击自动启动按钮，此时蜂鸣器鸣响三声，提示自 动运行开始
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五、前清洗设备换药液流程
手动状态下，点击“主界面”，进入主界面，点击排液阀手动
选择“制绒槽”（或者任何一个槽体，此处只与制绒槽为例，其他槽体更换药液流程基本一样 ），进入“制绒槽”模块，点击排液阀ON，将槽体内的液排掉 待槽体排空后，回到“主界面”，进入主界面，点击加水手动 进入“加水手动界面”，选择制绒槽点击加水ON 等到槽体达到高液位，回到“主界面”，进入主界面，点击排液阀手动，将槽体内的液体排掉 重复以上步骤，清洗槽体2~3次

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二、制绒的作用与原理
3 制绒的原理
利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性 腐蚀特性，在硅片表面腐蚀形成角锥体密布的表面形貌 ，就称为表面织构化。 角锥体四面全是由〈111〉面包围形成。 反应式为： Si+2NaOH+H2O →Na2SiO3 +2H2 ↑
无IPA
IPA浓度3%
IPA浓度10%
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三 制绒的过程及工艺控制
时间的影响
经热的浓碱去除损伤层后，硅片表面留下了许多肤浅的准方形的腐蚀坑。1分钟后，金字
塔如雨后春笋，零星的冒出了头；5分钟后，硅片表面基本上被小金字塔覆盖，少数已开 始长大。我们称绒面形成初期的这种变化为金字塔“成核”。10分钟后，金字塔密布的 绒面已经形成，只是大小不均匀，反射率也降到了比较低的水平。随着时间的延长，金 字塔向外扩张兼并，体积逐渐膨胀，尺寸趋于均等。
Reflectance
0.7 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 0 300
400Βιβλιοθήκη 500600700 Wavelength (nm) smooth texture
800
900
1000
1100
单晶硅片表面的 金字塔状绒面
单晶硅片表面反射率
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当NaOH处于合适范围内时，乙醇或异丙醇的浓度的上升会使腐蚀速率大幅度下降。目前，
工业上NaOH浓度控制在1.5-2%之间。

Etch bath Rinse1 Alkaline Rinse
Rinse2
Acidic Rinse
Rinse3
Dryer2
主操作界面
详细说明
程序内 的日期 和时间 模式、与PLC的 连接情况及登陆 的用户名 灯塔状 态 机器名称 厂家名称
报警的详细信息
登陆按扭
详细说明
机器的三种报警:严重的问题、机器本 身的问题和一般的警报
初始配槽时HF和水的体积
RENISE3功能 功能
RENISE3功能 功能
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单个槽的 自动手动切换 FILLING DI----给槽内加纯水（RENISE2的水是 RENISE3槽的水溢流过来的） DRAINING----整个槽排液 START PROCESS----在手动模式下单个槽运行工艺 STOP----结束操作
RENA InOxSide设备构造
RENA InOxSide工艺步骤：边缘刻蚀 碱洗 →酸洗 吹干 工艺步骤： 酸洗→吹干 工艺步骤 边缘刻蚀→碱洗 酸洗 RENA InOxSide后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、 后清洗设备的主体分为以下七个槽 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。 排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
5 关于刻蚀槽flow（流量）报警 出现此类报警时，工艺人员需检查是否有碎片堵住药液入口。如 有碎片需取出后，将药液打入tank混匀溶液后重新将药液打入bath 中。如果流量不稳定报警，需要求设备人员检查相应传感器 6 关于overfilled（溶液过满）报警 出现此类报警时，工艺人员需要求设备检查液位传感器是否正常 工作。如果确实过满，则需要手动排掉部分药液，直到达到生产液 位要求。 7 关于 tank empty（储药罐空）报警 出现此类报警时，说明外围相应储药罐中的药品已空，需及时通 知外围人员添加药液。 8 关于 valve blocked（阀门被堵）报警 出现此类报警时，则有阀门被堵，必须立即通知设备人员处理。