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硅片切割技术的现状和发展趋势

硅片切割技术的现状和发展趋势
硅片切割技术的现状和发展趋势

硅片切割技术的现状和发展趋势

李苏杰;陈钊

【期刊名称】《中国科技纵横》

【年(卷),期】2012(000)023

【摘要】随着半导体行业的发展,硅片的切割成为半导体应用时的一个必要环节,本文简介多线硅片切割和太阳能级硅片切割的机理以及特点,介绍国内外硅片切割技术的研究现状,同时对这一领域的发展趋势作出展望.

【总页数】1页(51)

【关键词】半导体;硅片切割;太阳能级

【作者】李苏杰;陈钊

【作者单位】英利能源(中国)有限公司河北保定071001;英利能源(中国)有限公司河北保定071001

【正文语种】中文

【中图分类】

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