真空镀膜实验一、实验目的真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中，光学仪器的反射镜，增透镜，激光器谐振腔的高反射膜，计算机上存储和记忆用的磁性薄膜，以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验，要求学生掌握如下几点：①较系统了解真空镀膜仪器的结构；②了解真空系统各组件的功

材料的低温物性与测试技术一、电阻测量方案1.实验装置及基本测量线路（采用四引线方法）：2.实验步骤:样处理与电极制作:将试样切成长方形的薄条，上、下两面磨平。在每个样品的一面制作四根电极引线，电极的制作可采用真空镀膜（银膜或铝膜）、铟压或银胶（注：这里采用银胶法）。若需要计算样品的真空室卷烟纸 和电绝缘）实验装置及基本测量线路图电阻率，需记录样品的几何参数。

深圳大学实验报告课程名称：近代物理实验实验名称：真空镀膜学院：物理科学与技术学院组号指导教师：报告人：学号：实验地点实验时间实验报告提交时间：一．实验目的1．、直接地接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识；2．了解和学会直流磁控溅射制备金属薄膜的原理和方法；3．了解清洗基片和测量薄膜膜厚的方法。二．实验仪器直流磁控溅射镀膜机；气体质量流量计；数显复合真

真空镀膜实验报告摘要：本实验在获得真空环境的基础上，在真空室内进行镀膜。在实验中需要复习获得真空的步骤和注意事项，学会使用蒸发镀膜设备，和在玻璃上镀锡的操作方法。关键词：真空镀膜 蒸发镀膜引言：真空镀膜又叫物理气相沉积，它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技

梁变形实验报告（1）简支梁实验一、实验目的1、简支梁见图一，力f在跨度中点为最严重受力状态，计算梁内最危险点达到屈服应力时的屈服载荷fs；2、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时，计算和实测梁的最大挠度和支点剖面转角，计算相对理论值的误差；3、在梁上任选两点，选力f的适当大小，验证位移互等定理；4、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时，实测梁的挠度曲线（至少

材料专业实验报告题目：扫描电镜(SEM)物相分析实验学院：先进材料与纳米科技学院专业：材料物理与化学姓名：学号：15141229862016年6月30日扫描电镜(SEM)物相分析实验一．实验目的1.了解扫描电镜的基本结构与原理2.掌握扫描电镜样品的准备与制备方法3.掌握扫描电镜的基本操作并上机操作拍摄二次电子像4.了解扫描电镜图片的分析与描述方法二．实验原理

近代物理实验报告真空镀膜实验学院班级姓名学号时间 2014年4月20日真空镀膜实验实验报告【摘要】：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和

真空镀膜实验报告

真空镀膜产品质量证明书篇一：真空镀膜过程中常见问题分析真空镀膜过程中常见问题分析镀膜过程中常见问题分析真空镀膜面漆常见问题分析面漆常见问题分析真空镀膜底漆常见问题分析底漆常见问题分析机壳底漆常见问题分析机壳UV面漆常见问题分析篇二：真空镀膜实验报告近代物理实验报告真空镀膜实验学院班级姓名学号时间XX年4月20日真空镀膜实验实验报告【摘要】：真空镀膜也叫物理气

真空(蒸发)镀膜实验（初稿）真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的

电子衍射实验报告1926年，美国物理学家戴维孙Davisson和革末Germer 实现电子衍射实验。经定量计算，证明了德布罗意波长公式的正确性。从热灯丝K射出来电子经电势差UKD加速后，通过一组栏缝D以一定角度投射到镍单晶体M上，经晶面反射后用集电器B收集，产生电子流强度I0。实验结果在某一角度φ下，电子流强度I 不是随UKD 增大而单调增大，而只有当电势差

实验一磁控溅射法制备薄膜材料一、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。二、实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。三、

低真空的获得，测量与用直流实验报告溅射法制备金属薄膜学院材料班级材料1510 学号 41503000 姓名张问一、实验目的与实验仪器实验目的：1)学习真空基本知识和真空的获得与测量技术基础知识。2)学习用直流溅射法制备薄膜的原理与方法。3)实际操作一套真空镀膜装置，使用真空泵和真空测量装置，研究该真空系统的抽气特性。4)用直流溅射法制备一系列不同厚度的金属薄

高真空磁控溅射镀膜系统介绍1.设备简介●名称：高真空磁控溅射镀膜系统●型号：JGP560●极限真空：6.60E-05 Pa●最高可控可调温度：500℃（1个样品位）●3个靶位，8个样品位2.真空简介●真空是一种不存在任何物质的空间状态，是一种物理现象。在“真空”中，声音因为没有介质而无法传递，但电磁波的传递却不受真空的影响。事实上，在真空技术里，真空系针对大

实验一磁控溅射法制备薄膜材料一、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。二、实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。三、

真空镀膜产品质量证明书篇一：真空镀膜过程中常见问题分析真空镀膜过程中常见问题分析镀膜过程中常见问题分析真空镀膜面漆常见问题分析面漆常见问题分析真空镀膜底漆常见问题分析底漆常见问题分析机壳底漆常见问题分析机壳UV面漆常见问题分析篇二：真空镀膜实验报告近代物理实验报告真空镀膜实验学院班级姓名学号时间XX年4月20日真空镀膜实验实验报告【摘要】：真空镀膜也叫物理气

真空镀膜 预习报告陈嘉琦 11990302【摘要】真空镀膜最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验采用的是蒸发法镀膜。理想的镀膜结果应在真空环境下进行，所以先对真空室进行抽真空，再进行镀膜。一、引言真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD ：physics vaporous deposit ），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子

低真空的获得测量与用直流溅实验报告射法制备金属薄膜一、实验目的与实验仪器实验目的1) 学习真空基本知识和真空的获得与测量技术基础知识。2) 学习用直流溅射法制备薄膜的原理和方法。3) 实际操作套真空镀膜装置，使用真空泵和真空测量装置，研究该真空系统的抽气特性。4) 用直流溅射法制备系列不同厚度的金属薄膜，为实验研究金属薄膜厚度对其电用率影响制备样品。实验仪器

篇一：磁控溅射镀膜实验报告近代物理实验磁控溅射镀膜宋爽核12 2011011723 指导老师：王合英 2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系，并在载玻片上镀上了铜膜。关键词：磁控溅射镀膜，辉光放电，溅射速率，溅射气压、溅

真空获得与真空镀膜实验报告实验目的1.了解真空技术的基本知识；2.掌握低，高真空的获得和测量的基本原理及方法；3.了解真空镀膜的基本知识；4.学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法。实验原理1.真空泵简介（1）机械泵机械泵通过不断改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀压缩从而获得真空，常用的是旋片式机械泵。旋片式机械泵原理见附图2。旋片式机械泵使用