真空溅镀工艺介绍

磁控溅射镀膜技术PPT课件

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溅射技术及其发展的历程1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。他在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了。但是，真正应用于研究的溅射设备到1877年才初露端倪。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不请状态，所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可*的。19世纪中期，只是在化

溅射技术

真空溅射镀膜技术

《真空溅射技术》第一章溅射技术所谓“溅射”就是用荷能粒子(通常用气体正离子)轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象。1842年Grove(格洛夫)在实验室中发现了这种现象。1877年美国贝尔实验室及西屋电气公司首先开始应用溅射原理制备薄膜。1966年美国国际商用电子计算机公司应用高频溅射技术制成了绝缘膜。1970年磁控溅射技术及其装置出现，它以“高

磁控溅射镀膜简介溅射薄膜靶材按其不同的功能和应用可大致分为机械功能膜相物理功能膜两大类。前者包括耐摩、减摩、耐热、抗蚀等表面强化薄膜材料、固体润滑薄膜材料, 后者包括电、磁、声、光等功能薄膜材料靶材等, 具体应用在玻璃涂层(各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜), 工艺品装饰镀膜, 高速钢刀具镀膜, 切削刀具镀膜, 太阳能反光

磁控溅射镀膜及其应用溅射原理溅射原理1. 先让惰性气体（通常为Ar气）产生辉光放电现象产生带电的离子；2. 带电离子经电场加速后撞击靶材表面，使靶材原子被轰击而飞出来，同时产生二次电子，再撞击气体原子从而形成更多的带电离子；3. 靶材原子携带着足夠的动能到达被镀物(基材)的表面进行沉积。溅射原理溅射原理示意图溅射沉积示意图溅射原理溅射示意图直流辉光放电的电压

bumping凸块技术与工艺简介

磁控溅射技术原理、现状、发展及应用实例（薄膜物理大作业论文）班级：1035101班学号：1101900508姓名：孙静一、前言镀膜玻璃是一种在玻璃表面上镀一层或多层金属氧化物薄膜，使其具有一种或多种功能的玻璃深加工产品。自七十年代开始，在世界发达国家和地区，传统的单一采光材料—普通建气琳璃，已逐步为具有节能、控光、调温、改变墙体结构以及具有艺术装饰效果的多功

Sputter 磁控溅镀原理Sputter 在辞典中意思为: (植物)溅散.此之所谓溅镀乃指物体以离子撞击时,被溅射飞 散出. 因被溅射飞散的物体附著于目标基板上而制成薄膜. 在日光灯的插座附近常见的变黑现 象,即为身边最赏见之例,此乃因日光灯的电极被溅射出而附著于周围所形成.溅 镀现象, 自 19 世纪被发现以来,就不受欢迎,特别在放电管领域中尤当防止.近

溅镀技术简介0613

真空溅镀工艺技术的应用

磁控溅射镀膜工艺介绍

磁控溅射原理及技术

镀膜技术介绍

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Sputter磁控溅镀原理Sputter在辞典中意思为：（植物）溅散。此之所谓溅镀乃指物体以离子撞击时，被溅射飞散出。因被溅射飞散的物体附著于目标基板上而制成薄膜。在日光灯的插座附近常见的变黑现象，即为身边最赏见之例，此乃因日光灯的电极被溅射出而附著于周围所形成。溅镀现象，自19世纪被发现以来，就不受欢迎，特别在放电管领域中尤当防止。近年来被引用于薄膜制作技

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