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羟基保护方法

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羟基的保护与去保护药明康德讲座

羟基的保护与去保护药明康德讲座
药明康德的研究团队不断探索新的保护与去保 护策略，为药物研发和化学合成提供了更加高 效和可靠的工具。
药明康德的研究成果在国内外学术期刊上发表， 得到了同行的广泛认可和引用，为羟基保护与 去保护领域的发展做出了重要贡献。
技术创新
药明康德在羟基保护与去保护技术方面 不断创新，开发出了一系列具有自主知 识产权的试剂和反应体系。
去保护条件
温度
去保护反应需要在一定的温度下进行，不同的去 保护方法所需的温度不同。
压力
对于某些需要较高压力的去保护反应，需要使用 高压反应釜进行操作。
时间
去保护反应需要一定的时间来完成，具体时间取 决于反应条件和保护基团的性质。
去保护效率
反应速率
去保护反应的速率取决于反应条件和 保护基团的性质，一般来说，酸催化 水解法和还原法较为快速。
纯度
去保护反应后得到的产物纯度取决于 反应条件和操作过程，需要进行后处 理和纯化操作。
03
羟基保护与去保护的应用
在药物合成中的应用
总结词
在药物合成中，羟基保护与去保护是常见的反应，用于合成复杂分子和目标药 物。
详细描述
在药物合成过程中，为了防止羟基参与反应或产生副反应，通常需要对羟基进 行保护。常用的羟基保护基团包括酯、醚、缩醛等。在药物合成完成后，需要 将这些保护基团去除，以获得目标药物。
在天然产物合成中的应用
总结词
在天然产物合成中，羟基保护与去保护有助于控制反应过程 和产物纯度。
详细描述
天然产物的合成过程中，羟基常常是关键官能团。通过将羟 基保护起来，可以控制其反应过程，避免不必要的副反应。 在完成合成后，去除保护基团，可以得到纯度较高的天然产 物。
在材料科学中的应用

羟基的保护

羟基的保护
三苯甲基醚（Tr）、叔丁基醚和烯丙基醚等。
1、甲基醚
甲基醚化试剂一般有MeI、(MeO)2SO2或MeOTf与相应的碱组成反应体系。甲基醚非常的惰性，不易除 去，常用TMSI/CH3Cl或CH2Cl2或MeCN或者BBr3/ CH2Cl2等。酚用甲基醚保护较多，易去除，一般AlCl3/ CH2Cl2或甲苯加热去除。 2、苄基醚
酸或TBAF除去。
Me Me
MeO2C
Me
O Me
O
Me I2(12SiMe3
92%
SEMO
Me OMe
Me Me
MeO2C
Me O
Me O
Me
Me OH CO2CH2CH2SiMe3
HO
Me
OMe
MeO2C
H
H
Et3N+MEMCl-
OH
MeCN, 64h MeO2C
OMEM
80%
THP一般在酸催化下形成，如：CSA、POCl3、PTSA、TMSA、PPTS等。
2、去保护
MOM醚的去除一般在酸性条件，如6mom/L HCl-THF-H2O(1:2:1)及Lewis酸
Me3SiBr(4eq)/DCM、BF3.OEt2/PhSH等。
10%Pb-C 25oC, 3h
O H OH
78% OH
COOMe
7
4
89%
3、PMB和DMB
PMB和DMB的保护条件和去除与苄基醚相似，但一般在DMF中的产率高于THF。
4、三苯甲基醚
三苯甲基醚常用以保护伯醇，一般用TrCl/Py在DMAP催化下完成。其去除基本都用酸性条件，如：
HCOOH-H2O、HCOOH-tBuOH、0.1mol/LHCl/MeCN、1%碘甲醇溶液、BCl3/DCM等，也可用 Na/NH3(l)还原法。Nishizawa等报道了TESOTf/Et3SiH/DCM法，该条件温和。

保护羟基的常用试剂

保护羟基的常用试剂

保护羟基的常用试剂保护羟基的常用试剂一、概述在有机合成中，羟基（-OH）是常见的官能团。

然而，由于其亲电性和碱性特性，使其容易受到酸、碱、亲电试剂等的攻击，从而导致反应失效或分子结构改变。

为了避免这种情况的发生，化学家们采用了一系列保护羟基的方法。

其中最常见的是使用化学试剂来保护羟基。

本文将介绍几种常用的保护羟基试剂。

二、硅烷类试剂硅烷类试剂是一类广泛应用于有机合成中的化学试剂。

其中最常见的就是三甲基硅氢化钠（NaHSiMe3）和三甲基氧硅烷（TMOS）。

它们可以通过与羟基反应生成稳定的硅醚或硅酯结构来保护羟基。

三、醇类试剂醇类试剂也是常用于保护羟基的一类化学试剂。

其中最常见的就是三苯甲氧基甲醇（Triphenylmethanol），它可以通过与羟基反应生成稳定的苯甲醚结构来保护羟基。

四、丙酮类试剂丙酮类试剂是一类常用于保护羟基的化学试剂。

其中最常见的是二甲基乙酰胺（DMF）和五氯酚（PCl5）。

它们可以通过与羟基反应生成稳定的丙酮或醚结构来保护羟基。

五、卤代烷类试剂卤代烷类试剂也是一类常用于保护羟基的化学试剂。

其中最常见的就是溴甲烷和氯甲烷。

它们可以通过与羟基反应生成稳定的卤代甲基或卤代乙基结构来保护羟基。

六、二硫化物类试剂二硫化物类试剂也是一类常用于保护羟基的化学试剂。

其中最常见的就是二异丙硫脲（DIP）和三苯基磷硫氰（TPSCl）。

它们可以通过与羟基反应生成稳定的硫脲或硫醇结构来保护羟基。

七、总结以上介绍了几种常用于保护羟基的化学试剂，包括硅烷类、醇类、丙酮类、卤代烷类和二硫化物类试剂。

在实际应用中，根据反应条件和反应物的特性，可以选择合适的保护羟基试剂。

同时，在保护羟基的过程中，还需要注意试剂的选择、反应条件的控制以及后续去除保护基等问题，以确保反应顺利进行并得到理想产物。

保护羧基羟基的方法

保护羧基羟基的方法

保护羧基羟基的方法羧基和羟基是有机化合物中常见的官能团，它们在药物合成、材料科学和生物化学等领域具有重要的作用。

然而，在合成新化合物或者进行有机反应时，羧基和羟基往往是比较容易受到破坏或者干扰的官能团。

因此，保护羧基羟基的方法成为了有机合成化学中一个至关重要的课题。

在有机合成领域，为了保护羧基和羟基，可以采用不同的保护基。

保护基的选择应该考虑到其对底物和反应条件的兼容性，以及在去除保护基时是否容易引起其他官能团的不稳定性。

有一些常用的保护基包括丙二酸酯、碳酸酯、短链脂肪醇和苯基。

在选择保护基时，需要根据具体的反应条件和底物结构进行合理的选择。

除了选择适当的保护基外，控制反应条件也是保护羧基和羟基的关键。

有机合成中常用的保护羧基的方法包括使用神经氯酰或者硅酮试剂进行酯化反应，以及使用乙酸酐进行羟基的保护。

这些方法在合成复杂化合物时发挥着重要作用，可以有效地保护羧基和羟基不受到干扰或破坏。

另外，有机合成中也经常会遇到需要同时保护羧基和羟基的情况。

在这种情况下，需要考虑到保护基之间的选择和去保护的顺序。

一般来说，保护基之间应该是互相兼容的，同时在去除保护基时要避免引起其他官能团的破坏。

因此，在设计反应路线时，需要考虑到每一步反应的选择和顺序，以保证保护基的顺利去除并且不影响其他官能团的稳定性。

除了上述方法外，也可以通过合理设计反应条件和控制温度、溶剂等因素来保护羧基和羟基。

有机合成中的很多反应条件都是可以调控的，通过合理的温度和溶剂选择，可以有效地保护羧基和羟基不受到干扰或破坏。

此外，还可以通过改变反应物的浓度、化学性质等来保护羧基和羟基，使得反应的选择性更高，产物收率更高。

总的来说，保护羧基和羟基在有机合成中具有非常重要的作用。

选择合适的保护基、控制合适的反应条件以及合理设计反应路线都是保护羧基和羟基的有效方法。

通过不断的研究和实践，相信在未来的有机合成中，会有更多更有效的方法来保护羧基和羟基，为有机合成化学的发展做出更大的贡献。

羟基的保护(最全版)PTT文档

羟基的保护(最全版)PTT文档

OH
Bi(OTf)3 (0.5mol%)
Ac2O( 10eq) MeCN, 4h, rt
OAc 94%
OH
CO2Me
Bi(OTf)3 (3mol%)
PivCl(1.5eq) CH2Cl2, 4h, rt
OPiv CO2Me
95%
R - O R '
F e C l3 / A c O H o r R - O A c R '= T H P ,T B S ,T P S
T烷E氧S的基水烷解基稳醚定保性护比基T有MMSO好M，(甲但氧比基TB甲S基差醚。)、MTH M(甲硫基甲CO 基O 醚Bu)t、M过 EM量 M e3Si-Im
COOBut H
如：HOAc-THF-H2O(4:2:1)/45 C O 可以出去TBS和THP,但不能除去MOM、MOEM和O MTM醚。
O T B S OO
O B z
TBDPS醚一般使用TBDPSCl/Imid/DMF体系，DMAP作催化，溶剂也可用DCM，但不能保护叔醇。
B n O
O H
O HO H
T B D P S C l( 1 .2 e q ) im id a z o le ( 1 .2 e q )
D M F , r t
B n O
F e C l3 / A c O H (3 e q )/ C H 2 C l2
8 0 - 9 9 %
2、酯类保护基的除去
一般情况下，酯类保护基的除去均在碱性条件下去除。
KC对N于、乙E酸t3N酯、保或护iP基r2一Ne般t等在。温在和水的和碱醇性的条体件系下中就乙可酸以酯出在去酸，催常化用下的也碱能为发K生2C水O3解、或N酯H3交、换肼除、去胍。、 位阻较大的Piv需要较强的碱性体系，如KOH/MeOH除去。但TBDMS醚是不能承受的， Piv的

氨基-羟基的保护与脱保护

氨基-羟基的保护与脱保护

氨基-羟基脱保护的应用
在有机合成中，氨基和羟基的保护与脱保护是常见的操作。例如，在合成多肽、核酸等复杂有机分子 时，需要进行一系列的反应，而这些反应可能会涉及到氨基和羟基的参与或干扰。因此，需要进行适 当的保护和脱保护操作，以确保产物的纯度和收率。
在药物合成中，氨基和羟基的保护与脱保护也是常见的操作。例如，在合成某些药物时，需要将某些 官能团进行保护，以避免它们与反应试剂发生不必要的反应。在完成所需的反应后，需要将这些官能 团脱保护，以获得目标产物。
形成醚
形成硅醚
可以使用硅醚试剂如三甲基氯硅烷或 三乙基氯硅烷来保护氨基和羟基。硅 醚试剂可以在温和条件下与醇或酚反 应形成稳定的硅醚。
可以通过与卤代烃反应形成醚来保护 氨基和羟基。醚化反应通常在强酸或 强碱催化下进行。
氨基-羟基保护的应用
01
药物合成
在药物合成中，氨基和羟基的保护对于合成复杂化合物非常重要。通过
绿色化学
环保意识的提高使得绿色化学成为研究热点，氨基-羟基 的保护与脱保护反应也正向着绿色、环保的方向发展。
新技术的应用
随着新技术的不断发展，如计算机辅助设计、人工智能等， 氨基-羟基的保护与脱保护反应的研究和应用将更加广泛 和深入。
研究展望
新型保护基团的开发
01
目前使用的氨基-羟基保护基团种类有限，开发新型保护基团是
有机合成
在有机合成中，氨基-羟基的保护与脱保护有助于控制反应进程和 选择性，提高合成产物的纯度和收率。
生物活性分子合成
在生物活性分子合成中，保护与脱保护反应有助于保持分子的稳定性， 防止在合成过程中发生不希望的反应。
05
氨基-羟基保护与脱保护的发展趋势
和展望
发展趋势

羟基的保护-第二周

经典化学合成反应讲座(二)
羟基的保护与去保护
羟基的保护(前言)
羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中， 如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚 醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很 重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种 官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤 化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要 将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如 何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关 键所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应 的醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅 醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基 醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多 ，但在糖及核糖化学中较为多见。
易保护，也容易去保护
随着硅原子上的取代基的不同，保护和去保护的反应活 性均有较大的变化。当分子中有多官能团时，空间效应 及电子效应是影响反应的主要因素。 任何羟基硅醚都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除，其 主要原因是硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之 间的亲和性。
在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行保护
苄基醚的裂解主要是通过催化加氢的方法，Pd是理想的催化剂，用Pt时 会产生芳环上的氢化作用。非芳性的胺可以使催化剂活性降低，阻碍O脱苄；在氢化体系中加入Na2CO3可以防止苄基被裂解，但可使双键发生 还原。孤立烯烃有可能影响苄基醚键的裂解（H2，5% Pd-C，97%产率）。 一般而言选择性的大小取决于取代的类型及空间位阻的情况。与酯共扼 的三取代的烯烃存在时，苄基的水解也有相当好的选择性。对甲氧苄基 基团存在时，苄基的水解（Pd-C，EtOAc，室温，18小时）有非常好的选 12 择性。在反应体系中加入Pyridine 可使对甲氧苄基和苄基氢解产生区别。

羟基与羰基的保护


TBDPSO TIPSO
OPMB OH
MOMCl,DIEA, CH2Cl2
TBDPSO
OPMB
OMOM
HCl(gas)/iPrOH,55oC
CO2CH3
O
TIPSO
OPMB OMOM OPMB OH
CO2CH3 O
2020/3/24
21
3.3 EE（CH3CH2OCH3CH-OR）保护羟基
EE的性质和THP很相似。
硅醚保护基
三甲基硅醚 (TMS-OR)
叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR )
苄醚保护基 烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
其他保护基 2020/3/24
3
硅醚保护的优点
硅醚是最常见的保护羟基的方法之一。主要优点有：
易保护，也容易去保护
非芳性的胺可以使催化剂活性降低，阻碍O-脱苄； 在氢化体系中加入Na2CO3可以防止苄基被裂解，但可使 双键发生还原。
2020/3/24
14
A cH N
O B n
N H A c M eO O
H
10% Pd/C /H 2
A cH N
O H
N H A c M eO O
H
J. A m . C hem . Soc. 1971, 93, 1746
C6H5
J .O r g . C h e m , 1 9 9 2 , 5 7 , 1 7 2 2
Bu4N+F-/THF
O Si
O THP
HO THPO
C6H5
Ph Ph
Can. J. Chem . 1975, 53, 2975
2020/3/24

羟基的保护与脱保护-PPT精选文档

硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上 的氧原子结合，这正是与其他保护基的不同之处。
4
硅醚保护的稳定性
硅醚对酸和碱都敏感； 但是不同的硅醚对酸，碱有相对的 稳定性。空间效应及电子效应是主要的影响因素 。 在酸中的稳定性为：
TMS (1)<TES (64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000)；
CH3 CN
P y . C H 3C N
J .O r g .C h e m . 1 9 8 7 , 5 2 , 6 2 2
H O TBS 2
C 6H 5 C C Ph Si Ph 1 O OTHP
一般情况下，在TBDMS基团存在时，断裂DEIPS( 二乙基异丙 基硅基) 基团是较容易的，但实际得出的一些结果是相反的。 在这些例子中，分子结构中空间阻碍是产生相反选择性的原因。 电子效应的不同也会影响反应的选择性。对于两种空间结构相 似的醇来说，电子云密度不同造成酸催化去保护速率不同，因 此可以选择性去保护。这一点对酚基和烷基硅醚特别有效：烷 基硅醚在酸中容易去保护，而酚基醚在碱性条件下更容易去保 护。降低硅的碱性还可以用于改变Lewis酸催化反应的结果， 并且有助于选择性去保护。在硅原子上引入吸电子取代基可以 提高碱性条下水解反应的灵敏性，而对酸的敏感性降低。
羟基的保护与去保护
1
羟基的保护(前言)
羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中， 如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚 醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很 重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种 官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤 化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要 将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如何 选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键 所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的 醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅醚 、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚 、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多， 但在糖及核糖化学中较为多见。

羟基的保护


烷氧基烷基醚
烷氧基烷基醚保护基有MOM(甲氧基甲基醚)、MTM(甲硫基甲基醚)、MEM (甲氧基乙氧基甲基醚)、BOM(苄氧基甲基醚)、SEM(三甲硅基乙氧基甲基醚)、 THP(四氢吡喃)醚等。
1、制备
除THP醚外，其制法大体相同，一般用相应的氯化物或溴化物与醇负离子作用。如用NaH
或KH作碱，一般在THF中进行。
10%Pb-C 25oC, 3h
O H OH
78% OH
COOMe
7
4
89%
3、PMB和DMB
PMB和DMB的保护条件和去除与苄基醚相似，但一般在DMF中的产率高于THF。
4、三苯甲基醚
三苯甲基醚常用以保护伯醇，一般用TrCl/Py在DMAP催化下完成。其去除基本都用酸性条件，如：
HCOOH-H2O、HCOOH-tBuOH、0.1mol/LHCl/MeCN、1%碘甲醇溶液、BCl3/DCM等，也可用 Na/NH3(l)还原法。Nishizawa等报道了TESOTf/Et3SiH/DCM法，该条件温和。
BnO
OH
OH OH
TBDPSCl(1.2eq) imidazole(1.2eq)
DMF, rt
BnO
OTBDPS
OH OH
80%
TIPS醚的制备与TBS醚相似，TIPSCl/DMF/Imid
OH COOMe
TIPSCl( 1eq) imid( 2.5eq)
DMF, rt, 48h
OTIPS COOMe
另一种去除方法是金属氢化物还原，如LiAlH4、DIBAL或KBHEt3等。
OTBDMS
TBDMSO
O
O
DIBAL( 2.5eq)
CH2Cl2, -78oC 95%
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1. 4 UCP( un i2chemo protection)类
针对有限的羟基保护基团, Komba 等[ 9 ]提出了一种新的保护基团- UCP(氨基酸
聚合衍生物). 利用UCP聚合度的不同对不同的羟基分别进行保护, 最终用
Edman降解可使聚合度不同的UCP依次脱去, 游离出特定的羟基. 该方法减少
保护基的种类和数量, 避免了不同的试剂环境对其他保护基的影响.

试剂及条件: ( •) mono2UCP, 氰尿酰氯, 吡啶, 40 e , 2 h, 90% . ( ‚ ) 80% 醋酸溶
液, 60 e , 2 h, 79%.( ƒ) tri2UCP, 吡啶, 40 e , 2 h, 65% . ( „)乙酸酐, 吡啶, 40 e , 2
h, 91% . ( …)四步a: 含20% 哌啶的N,N 2二甲基甲酰胺溶液, 室温, 20min. b: E
dman试剂PITC, N2甲基吗啉, 室温, 30 min. c: 三氟乙酸, 二氯甲烷, 室温, 30
min. d: 叔丁氧基甲酸酐Boc2O, 标准碳酸钠溶液, N,N 2二甲基甲酰胺, 室温,
30min, 总收率69% .

2 醚类
2. 1 苄醚类
引入苄基经典的方法是将反应物与过量的苄基卤和粉末状氢氧化钾高温共热.
后经改进, 在DMF溶液中, 用Ag2O催化在室温下即可苄基化, 同时对于部分乙
酰化的反应物不会伴随脱酰基现象, 但仍需过量的苄基卤和氮气的保护[ 10 ] .
如利用相转移催化剂[ 11] 形成苄基醚时, 无需惰性气体保护和无水条件, 且操
作过程和后处理较易, 但收率较经典法低.

借助于金属有机锡化合物[ 12 ]可有选择性地引入苄基. Bu2 SnO和糖环上相邻的
两个羟基形成环状中间体, 然后再与苄基卤反应即可在特定位置引入苄基:

董奇志等[ 13]用浓氢氧化钠作碱性试剂及载体, 在相转移催化剂存在和微波辐
射下对糖进行苄基化反应时, 无需机械搅拌, 无需溶剂, 且反应时间短:
苄基醚对酸、碱, 以及很多试剂包括过碘酸钠、四乙酸铅和氢化铝锂等都稳定, 受
得住正常用来酸性水解除去异丙叉和苄叉基的条件和使甲基糖苷转变为游离糖
的条件. 但在中性溶液中室温下钯催化氢解很容易除去苄基, 也可用金属钠在乙
醇或液氨中还原裂去. 当糖中存在对氢化敏感的基团时, 可对苄基氢进行自由基
卤代反应, 然后水解即可脱去苄基.

2. 2 三苯甲基( trityl)醚
三苯甲基常用来保护伯羟基, 由于空间位阻作用, 该反应选择性好, 产率高. 将
糖和三苯基氯甲烷溶于吡啶溶液在室温[ 3] 或者高于室温[ 14] 下反应一定时间
即可在伯位引入三苯甲基. 也可用单甲氧基三苯基(MMT)或双甲氧基三苯基
(DMT )作为伯羟基的保护基. 它们和三苯基氯甲烷均是按SN1历程进行反应,
且反应速率顺序为: DMT>MMT > Trity.l一般是催化氢解除去三苯甲基, 但不适
合处理含硫化合物. 用80% 乙酸(在回流温度)、氯化氢/氯仿、溴化氢(计算量) /
乙酸等催化脱去三苯甲基时, 会伴随酰基的迁移和糖链水解, 产率低.
Lehrfeld[ 15 ]提出用硅胶柱脱去三苯甲基的方法, 产率可达80% 以上, 效果较
好.
2. 3 硅醚类
2. 3. 1 三甲基硅醚类
三甲基硅基作保护基的同时又可降低化合物的极性, 可对三甲基硅醚进行气相
色谱分析[ 16] 和质谱分析. 三甲基硅醚类稳定性差, 在其它合成中应用较少,
但在糖类中得以应用[ 17] . 三甲基硅基的选择性较差, 但可通过使全部羟基成
醚, 再选择性脱去三甲基硅基, 得到伯羟基游离的中间体[ 18] :

通常使用含氟离子的试剂(如四丁基氟化胺/无水THF等)除去三甲基硅基. 也可
以在甲醇/碳酸钾溶液中选择性甲醇解脱去.
2. 3. 2 叔丁基二甲硅醚( t2BuMe2 Si2简称TBDMS)
TBDMS氯化物可优先与伯羟基反应, 可用来保护伯羟基. 通常以咪唑为催化剂,
在DMF溶液中通过TB2DMS氯化物和糖反应引入叔丁基二甲硅基[ 19] . 如用
TBDMSOT f做醚化试剂, 可将C23、C26 位或C22、C26位的羟基同时醚化
[ 20] .叔丁基二甲醚较为稳定, 能够承受醇性氢氧化钾的酯水解条件以及温和的
还原条件(如Zn /CH3 OH等). 可用氟离子(如Bu4N+ F- 等)在四氢呋喃溶液中脱
去. 也可用含水乙酸( 66%乙酸)于室温下脱去.
2. 4 烯丙基类
烯丙基类保护基可以完全避开强酸性环境, 反应条件温和, 是现代糖化学合成中
的首选方法. 烯丙基醚[ 21]可以通过W illiamson醚合成法、有机锡法等合成. 使
用二价铜盐作催化剂时, 烯丙基醚化反应具有很好的化学选择性、区域选择性,
主要得到单烯丙基化的产物. 如与单糖衍生物反应时, 一般会得到C24位羟基
被保护、C26位羟基游离的产物:

当糖中含有酰胺基时, 为避免氮原子被烷基化, 可先转化成其钡盐再烷基化成烯
丙基醚:

可在碱性介质(叔丁醇钾的DMSO溶液)中, 将烯丙基异构化成丙烯基形成烯醇醚
后在酸性条件下脱除烯醇醚. 一般用1 mol# L- 1的盐酸或0. 5 mol# L- 1的硫酸
的丙酮水溶液, 在此酸性条件下, 葡糖苷不会水解而仍保持环状结构:

如果糖中存在对酸敏感的保护基, 可在中性条件下用HgC l2, 通过加成、断链等
过程或在弱碱性条件下,通过氧化、水解脱除丙烯醇醚. 常用的氧化剂有高锰酸
钾、四氧化锇、臭氧以及碘等. 首先氧化碳碳双键, 形成不稳定的中间体, 然后
水解断链而成:

3 形成缩醛或缩酮类
3. 1 异丙叉缩酮
糖与丙酮在催化剂(如高氯酸, 硫酸, 盐酸, 对甲苯磺酸和氯化锌等)作用下即可
得到异丙叉缩酮, 但反应条件苛刻, 要求在无水环境下进行. 采用2, 22二甲氧基
2或2, 22二乙氧基2丙烷进行酸催化的缩酮交换, 反应更容易且具有选择性, 同
时能有效地对反式二羟基进行异丙叉化[ 22] . 甘中红等[ 23 ]用原甲酸三乙酯为
试剂, 丙酮作溶剂, 在以化学改性硅胶为载体的四氯化钛的催化下实现了对单糖
或糖甲基苷的高效率的异丙叉化.异丙叉不同于苄叉只选择性保护4、6 位羟基,
只要空间位置合适就可进行反应, 有时还可改变环的大小, 如D2葡萄糖和丙酮
在ZnCl2 /H3 PO4催化下即可生成1, 2: 5, 62氧2二异丙叉基2A2D2呋喃葡萄糖
[ 24 ] .异丙叉保护基在许多中性和碱性介质中稳定, 可以在酸性条件下水解除去.
存在对酸敏感的叔丁基二甲基硅基、三苯甲基等基团时可在氯仿中用FeCl3
/SiO2催化脱去保护基, 该反应可选择性脱去5、6位缩酮而不影响1、2位缩酮
和其它取代基[ 25] :
3. 2 苄叉缩醛
苄叉衍生物通常是由糖和苯甲醛在酸性催化剂(如盐酸, 硫酸, 对甲苯磺酸或氯
化锌等)存在下反应制得, 该反应选择性保护C24、C26位羟基. 用硝基取代后的
苄叉[ 26]效果更好, 这是由于硝基的共轭效应与诱导效应的协同作用, 使得分子
中苯环上的电子云密度下降, 醛基碳所带正电荷增大, 从而使其比未取代的苄叉
具有更强的亲电性. 取代后的苄叉作保护基, 产物易于结晶, 后处理方便, 产率
较高. Sheman等[ 27] 采用PhCH(OMe) 2代替苯甲醛, 在樟脑磺酸(CSA)存在下
于DMF溶液中可更有效地选择性保护C24、C26位羟基, 收率可达85% .
苄叉保护基在许多非酸性情况下稳定. 但可很快地被催化(如Pd /C等)氢解选择
性地除去; Sheman等[ 27]在Me3N# BH3、A lCl3和THF存在的条件下选择性脱
去保护基, 游离出4、6位羟基. 也可以通过FeC l3 /SiO2在氯仿中选择性脱去4,
6位缩酮[ 25] :