光电二极管的工作原理及应用特性分析

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技术研发

TECHNOLOGY AND MARKET

Vol.23, No.12,2016

光电二极管的工作原理及应用特性分析

胡静

(贵州职业技术学院,贵州贵阳550023)

摘要:光电二极管是一种重要的光伏探测器件,详细分析了它的工作原理和伏安特性,并简要介绍了它的应用。关键词:光伏效应;光电二极管;伏安特性;应用

doi:10.3969/j.issn.1006 - 8554. 2016. 12.015

1光电二极管的工作原理

光照射到半导体时,如果入射光子的能量E小于半导体的 禁带宽度Eg,光会透射过此物质,半导体表现为透明状;反之,光子将被半导体吸收,光子流和半导体内的电子相互作用,从 而改变电子的能量状态,引起各种电学效应,统称为光子效应。

P型半导体和N型半导体接触时会产生PN结,又称为空 间电荷区、势垒区等,这些空间电荷在结区形成了一个从N区指向P区的电场,称为内建电场。PN结开路时(零偏状态),在 热平衡下,由于浓度梯度而产生的扩散电流与由于内电场作用 而产生的漂移电流相互抵消,总电流为零,也就是说没有净电 流流过PN结。这时如果有光辐射到半导体上,且E> E g,光子 将被吸收,光子流强度随着深入半导体材料的距离指数衰减。定义单位距离内所吸收的相对光子数为吸收系数a它是入射 光能和禁带宽度的函数。随着入射光能增加吸收系数迅速增 大,以至于在半导体表面很薄的一层内光能就被完全吸收。以娃为例,如果入射光波长\ = 1.0 ,则对应的吸收系数a= 102cm-1,可以算出入射光子流被吸收90%处的距离是0.23 mm;如果人=0. 5 jxm,则对应的吸收系数a。104cm_1,入射光子流被吸收90%处的距离是2.3 jxm,表明光的吸收实 际上集中在半导体很薄的表层内。

光辐射到半导体时,入射光子流与价电子相互作用,把电 子激发到导带,在价带里产生空穴,形成电子一空穴对,称为非 平衡载流子或过剩少子,其产生率与光强有关。由于入射光强 随着深入半导体材料的距离指数衰减,电子一空穴对的产生率 也迅速下降。再以硅为例,如果入射光强为0.1 wcnT2,波长 入=0.6 jxm,假设少子寿命为10_7s,则距表面5 jxm和20 jxm 处的光子通量分别为0•013 5 wcm_2、3.35 x10_5wcm_2,电子一空穴对的产生率分别为1. 63 x 1020cnT3s'4. 05 x 1017cm_3s_1,过剩载流子浓度分别为 1.63 x1013cm-3,4. 05 x 1010c T3。可见,有光照时半导体表面薄层内产生了大量的过 剩载流子,光辐射越强,过剩少子数目越多(与入射光强成正 比),并且随着距离的深入迅速衰减。这样,半导体材料的表面 和体内就形成了浓度梯度,自然会引起扩散。光照前多子的热 平衡浓度本来就很高,光生载流子对多子的浓度影响很小,而 少子的热平衡浓度本来就很低,光生载流子对其浓度的影响就 很大,表面附近的少子浓度会急剧增加。在P区,光生电子向 体内扩散,如果P区厚度小于电子扩散长度,那么大部分光生 电子将能穿过P区到达PN结(少部分被复合)。一旦进入PN 结,将在内建电场作用下被迅速扫到N区;同样,在N区,光生40空穴向体内扩散到PN结,也因电场力作用被迅速扫到P区。这样,光生电子一空穴对就被内建电场分开,空穴集中在P区,电子集中在N区,半导体两端就会产生P区正N区负的开路 电压,如果将P区和N区短接,就会有反向电流流过PN结。这种光照零偏PN结产生开路电压的现象就称为光伏效应。

事实上,不仅光照零偏PN结会产生光伏效应,光照反偏 PN结、PIN结或肖特基势垒都能产生光伏效应。典型的应用

器件有光电池和光电二极管两类,光电池是利用光生伏特效应

制成的无偏压光电转换器件。而光电二极管是在反向偏压下 工作的光伏器件,它在微弱、快速光信号探测方面有着非常重 要的作用。

光电二极管可以等效为一个普通二极管和一个恒流源的

并联(入射光强恒定时光电流也恒定可以看作恒流源),利用理

想二极管的特性方程可得

I=ID~h =I sr(^p(^/k T) -1)--s

其伏安特性如图1所示,PN结正偏情况不作讨论,因为正 偏时正向电流很大,光电流几乎不起作用。

, ^7=0Jlj

______________________

图1光伏探测器的伏安特性

光电二极管是工作在光导模式的结型光伏探测器,它工作 于第三象限,此时二极管加反偏电压,内电场增强,PN结加宽,少子的漂移运动增强,多子的扩散运动减弱,扩散电流小于漂 移电流,热平衡被打破,但由于少子数量少,无光照时光功率P =0,这时/s= 0, = ^就是PN结的反向饱和电流,称为暗电 流,曲线是普通二极管的反向特性;当有光辐射时,若入射光能 量五大于半导体禁带宽度^,A < A。,光子被半导体吸收,从而

2016年第23卷第12期

技术与市场技术研发

产生额外的电子——空穴对,也叫光生载流子,光照越强,产生 的电子——空穴对越多。此时4不为零,且随人射光功率的 增大而增加。/ =心-4,反向特性曲线随之下移,光照越强 (P3 >^2 >A)下移越多,反向电流也越大,光生电流与光功率 P成正比,人射光功率越大,产生的电子——空穴对越多,光生

电流也就越大,与外加电压几乎无关。

2光电二极管的特性

2. 1光谱特性

光电二极管只能对大于禁带宽度的光子能量产生响应,不 同材料的光谱响应范围也不一样,如图2是硅和锗的光谱响应 曲线。对每一种探测器件,都有一个响应的峰值,其对应的光 子能量E稍大于禁带宽度Es。当E = hv < Es时,响应呈迅速 下降的趋势,而hv>Es时,响应也降低,如图2中所示。人射 光从短波长逐渐增加到峰值波长时,响应度逐渐增大。由于人 射光所产生的光生载流子只有进人到结区才能形成光电流,所 以,为了提高人射光的量子效率,应使人射光尽量照射在PN结 势垒区内。

2.2 频率响应

光电二极管同样存在PN结的势垒电容,会影响到它的频 率特性,主要因素是载流子的渡越时间和RC时间常数。光生 载流子在向结区扩散和漂移过势垒区都需要一定的渡越时间,它限制了光电二极管对高频调制的响应能力,由于漂移速度远 比扩散速度快,所以耗尽层型光电二极管在频率响应上要优于 扩散型。RC时间常数主要取决于结电容和负载电阻,要使结 电容尽量小,可减小结面积,增大耗尽层厚度并适当加大反偏电压,这样可以提高频率上限。

2.3 噪声特性

光电二极管工作时,所吸收的光辐射不仅有信号光还有背

景光,同时反偏PN结还存在暗电流,它会产生散粒噪声和热噪声,同时光信号本身也有量子噪声。

3其他结构类型的光电二极管

3.1PIN型光电二极管

它是在P型和N型半导体之间夹有一层相当厚度的高电

阻率的本征半导体—

—I层。反偏时,耗尽层可在整个I区展开,它扩了光电转换的有效工作区域,对提高量子效率有利。

与普通PN结光电二极管相比,PIN型提高了频率响应能力,有

利于高频运用,同时击穿电压更高,主要运用于光通信、光测

距、光度测量和光电控制方面。利用PIN结构制作的四象限光

电二极管,可以对运动目标进行探测,实行跟踪、定位和制导。

3.2雪崩光电二极管

它是在PN结或PIN结加上足够大的反偏电压,引起雪崩

式的碰撞电离,产生大量的电子——空穴对。其电流增益可达

102 ~104。这种器件结电容小,响应速度快,灵敏度高,常用于

探测高频,低强度的可见光和近红外辐射,也能响应调制在微

波频率的光波。

3.3肖特基势垒光电二极管

这是一种非结型(没有PN结)器件,它是利用金属与半导

体接触形成势垒,也产生耗尽层。势垒中发生的光电效应与PN结中一样。利用不同的金属与半导体材料接触,可以制成

多种肖特基势垒光电二极管。因为并非所有的半导体材料都能

既制成P型又能制成N型,从而形成PN结,所以肖特基势垒光

电二极管对那些不能形成PN结的半导体材料特别有意义。

此外,还有金属-氧化物-金属结构的点接触光电二极管

和光电三极管等光伏探测器件。

参考文献:

[1]杨小丽.光电子技术基础[M].北京:北京邮电大学出版

社,2005.

[2]D o n al d A.N ea m e n.半导体物理与器件[M].北京:电子

工业出版社,2005.

[3]杨经国,冉瑞江,杜定旭,等.光电子技术[M].四川:四川

大学出版社,1990.

作者简介:

胡静(1972 -),女,贵州龙里人,贵州职业技术学院副教

授,从事电工电子教学及研究。

(上接第39页)

4)综合上述分析焊管辊槽开裂的原因是:回炉坯料再次人 炉后,因是凉坯与热坯混装,回炉坯料中心温度未达到设定的 开坯温度值,导致出现轧制温度、终轧温度偏低,形成带状组 织。另外轧后冷却手段缺乏,卷曲温度偏高,在长时间高温堆 冷时晶粒长大,最终形成表层脱碳、带状组织严重、晶粒度粗大 的带钢。这些组织缺陷降低了带钢的性能指标,导致在辊槽变 形量大(应力大)时,出现开裂。

4改进措施

通过以上实验跟踪和分析得出,晶粒粗大加上带状组织严 重,是造成加工开裂的主要原因。改进措施:

1) 加热炉温度控制在1150丈~ 1 250丈和开坯温度1 050T ±15^,加大终轧后的冷却速度,降低卷取温度在650T

以内,抑制碳在原始带状基础上的长距离扩散,从而消除或减

轻带状组织。

2) 确保人库带钢的合理码放,避免带钢长时间堆冷,红带 码垛时不超过两层,确保带钢的自然冷却效果。

3)回炉钢人炉集中轧制,避免与热坯混装,便于对加热炉 炉内温度、开轧温度等的控制。

参考文献:

[1]任颂赞,张静江,陈质如,等.钢铁金相图谱[M].上海:上

海科学技术文献出版社,2003:122 -146.

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