TiO薄膜的半导体和气敏特性

tio2薄膜退火解释说明以及概述1. 引言：1.1 概述本文旨在探讨和解释tio2薄膜的退火过程及其对薄膜性质的影响。

tio2薄膜作为一种重要的功能材料，在光电、光催化、电化学等领域具有广泛应用。

而退火作为一种常见的热处理方法，可以引起tio2薄膜结构和性能的变化，因此是研究和改善薄膜性能的关键步骤之一。

1.2 文章结构本文主要分为五个部分进行介绍。

首先，在引言部分先进行了概述，并解释了文章的目的。

接下来，在第二部分将详细介绍tio2薄膜以及退火对其性质的影响。

然后，第三部分将阐述tio2薄膜退火实验方法与步骤。

随后，在第四部分会对实验结果进行分析和讨论，包括观察表面形貌、比较光学和电学性质以及解读X射线衍射数据等方面。

最后，在第五部分给出本次研究的总结发现及启示，并展望未来可能的研究方向。

1.3 目的本文的主要目的是深入探讨和解释tio2薄膜退火过程中发生的物理变化和机制，并通过实验方法来验证这些变化对薄膜性质的影响。

通过结合实验结果和分析，希望能够增进对tio2薄膜退火行为的理解，并为进一步优化和改善薄膜性能提供参考和指导。

2. Tio2薄膜退火解释说明：2.1 Tio2薄膜的概念与特性：Tio2薄膜是由二氧化钛(Titanium Dioxide, TiO2)材料制成的一种薄片状结构。

它具有许多优异的性质，如高透明性、高折射率、低电阻率和良好的光催化活性等。

这些特性使得Tio2薄膜在许多应用领域具有广泛的用途，包括太阳能电池、传感器、光学涂层和催化剂等。

2.2 退火对Tio2薄膜的影响：退火是指通过加热材料然后缓慢冷却来改变材料的晶体结构和性质。

在Tio2薄膜中，退火过程对其微观结构和物理性质都会产生一定影响。

首先，退火可以减少或去除材料中的内部应力，提高了材料的稳定性和耐久性。

此外，由于Tio2晶体结构中存在一些非平衡位点或缺陷，经过退火处理后这些缺陷可能被修复或消除，从而改善了Tio2薄膜的光电性能。

ITO薄膜简介与产品介绍1. ITO薄膜简介1.1 什么是ITO薄膜？ITO薄膜是一种具有透明导电性能的材料，其中ITO指的是氧化铟锡〔Indium Tin Oxide〕的缩写。

该薄膜具有高透过率和低电阻率的特性，被广泛应用在电子显示器、太阳能电池、触摸屏等领域。

1.2 ITO薄膜的制备方法常见的ITO薄膜制备方法包括物理蒸镀法和化学溶胶-凝胶法。

物理蒸镀法利用高纯度的ITO靶材，通过真空蒸发沉积在基底上形成薄膜；而化学溶胶-凝胶法那么是通过溶液中的化学反响生成ITO凝胶，再通过烧结得到薄膜。

2. ITO薄膜的特性2.1 高透过率ITO薄膜具有高透过率的特性，可在可见光频段保持较高的透过率。

这使得ITO薄膜在显示器等光学设备中可以提供清晰的图像和文字显示。

2.2 低电阻率ITO薄膜具有较低的电阻率，可以实现电流的良好导电性能。

这使得ITO薄膜在触摸屏、太阳能电池等应用中可以提供可靠的电流传输。

2.3 控制面阻抗通过调整ITO薄膜的厚度和微观结构，可以控制其面阻抗。

这对于触摸屏等电容式传感器应用非常重要，可以实现高灵敏度和快速响应的触摸体验。

2.4 抗氧化性能ITO薄膜具有良好的抗氧化性能，可以在高温环境下长时间稳定运行。

这使得ITO薄膜在高温工艺和特殊环境下的应用具有优势。

3. ITO薄膜产品介绍3.1 ITO玻璃ITO玻璃是将ITO薄膜沉积在玻璃基底上形成的产品。

它具有高透过率、低电阻率和良好的平整度，被广泛应用在液晶显示器、有机发光二极管〔OLED〕等光学设备中。

3.2 ITO膜ITO膜是将ITO薄膜沉积在柔性基底上形成的产品。

由于其柔性特性，ITO膜在可弯曲显示器、柔性电子产品等领域有着广阔的应用前景。

3.3 ITO导电布ITO导电布是利用ITO薄膜材料覆盖在纤维布上形成的产品。

它可以在触摸屏、抗静电材料、导电纤维等领域发挥导电和抗静电的功能，具有良好的耐久性和导电性能。

4. 结论ITO薄膜作为一种具有透明导电性能的材料，具有高透过率、低电阻率和良好的控制面阻抗等特性。

液晶显示器现已成为技术密集，资金密集型高新技术产业，透明导电玻璃则是LCD的三大主要材料之一。

液晶显示器之所以能显示特定的图形，就是利用导电玻璃上的透明导电电膜，经蚀刻制成特定形状的电极，上下导电玻璃制成液晶盒后，在这些电极上加适当电压信号，使具有偶极矩的液晶分子在电场作用下特定的方面排列，仅而显示出与电极波长相对应的图形。

在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3（ITO）膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出微细的图形。

其透过率已达90%以上，ITO中其透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制，通常SnO2：In2O3=1：9。

ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两回事个主要的性能指针：电阻率和光透过率。

目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常Sn2O3：In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度已不够好---虽然导电性能很好。

如用是电流平行流经ITO脱层的情形，其中d为膜厚，I为电流，L1为在电流方向上膜厚层长度，L2为在垂直于电流方向上的膜层长主，当电流流过方形导电膜时，该层电阻R=PL1/dL2式中P为导电膜之电阻率，对于给定膜层，P和d可视为定值，P/d，当L1=L2时，怒火正方形膜层，无论方块大小如何，其电阻均为定值P/d，此即方块电阻定义：R□=P/d，式中R□单位为：奥姆/□（Ω/□），由此可所出方块电阻与IOT膜层电阻率P和ITO膜厚d有关且ITO膜阻值越低，膜厚越大。

目前在高档STN液晶显示屏中所用ITO玻璃，其R□可达10Ω/□左右，膜厚为100-200um，而一般低档TN产品的ITO玻璃R□为100-300Ω/□，膜厚为20-30um。

ITO薄膜研究现状及应用2ITO薄膜研究现状及应用2ITO薄膜是由铟和锡的氧化物组成的透明导电薄膜。

它具有优异的透光性和导电性能，是一种重要的功能性材料。

目前，ITO薄膜研究已经取得了一些重要的进展，并在多个领域得到了广泛应用。

本文将介绍ITO薄膜的研究现状和应用，并对未来的发展进行展望。

首先，ITO薄膜的制备方法有多种，其中最常用的是物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。

PVD方法包括蒸发、溅射和激光烧蚀等，适用于小面积的薄膜制备。

CVD方法则可以制备大面积、均匀性好的薄膜。

此外，还有溶液法和离子束辅助沉积等方法，可以制备高质量的ITO薄膜。

然后，ITO薄膜在光电子器件领域有广泛应用。

例如，它可以用于液晶显示器的导电电极，提供稳定的电流输出和高透光性。

此外，ITO薄膜还可用于有机太阳能电池和有机发光二极管等器件中，提高其性能和效率。

另外，ITO薄膜还可以用作光学薄膜，用于太阳能电池中的抗反射层和导电镜片等。

此外，ITO薄膜在传感器领域也有重要应用。

例如，它可以用于气体传感器，通过测量气体的电导率变化来检测特定气体的存在。

此外，ITO薄膜还可以用于压力传感器和湿度传感器等。

此外，ITO薄膜还可以用于触摸屏和柔性电子器件等领域，提供灵敏的触控和柔性的制备。

此外，ITO薄膜还在其他领域得到了广泛应用。

例如，在生物医学领域，ITO薄膜可以用于电刺激和电生理记录等应用。

此外，它还可以用于防静电涂层和EMI屏蔽等领域，提供静电和电磁屏蔽的功能。

虽然ITO薄膜在多个领域得到了广泛应用，但也存在一些问题和挑战。

首先，ITO薄膜的高成本限制了其在一些领域的应用。

其次，ITO薄膜还存在着导电性不稳定和薄膜厚度不均匀等问题。

此外，ITO薄膜的氧化镉含量较高，可能对环境和人体健康造成潜在风险。

为了解决这些问题，研究人员正在积极开展工作。

例如，他们正在寻求替代ITO薄膜的导电材料，如铝锌锡氧化物（AZO）和氧化铟锡锗（IGZO）等。

ito 氧化铟锡
（实用版）
目录
1.氧化铟锡的概述
2.氧化铟锡的性质和特点
3.氧化铟锡的应用领域
4.氧化铟锡的发展前景
正文
氧化铟锡（ITO，Indium Tin Oxide）是一种具有良好导电性和透明
性的氧化物半导体材料，广泛应用于各种电子器件和光电子器件领域。

氧化铟锡的主要成分是铟（In）和锡（Sn），它具有良好的导电性，
可以作为透明导电膜使用。

这种材料在室温下的电阻率约为 10^-6 Ω·cm，其导电性甚至超过了纯铟。

同时，氧化铟锡具有较高的透光率，可以在可见光范围内达到 80% 以上，这使得它在显示器、太阳能电池等光电子器
件领域具有广泛的应用。

氧化铟锡还具有良好的耐腐蚀性、化学稳定性和热稳定性，这使得它可以在各种环境下保持其导电和透明性能。

此外，氧化铟锡的制备方法相对简单，可以通过溶胶凝胶法、化学气相沉积法等方法制备。

氧化铟锡的应用领域非常广泛，主要包括以下几个方面：
1.显示器：氧化铟锡可以作为透明导电膜应用于液晶显示器（LCD）
和有机发光二极管（OLED）等显示器件中，以实现对图像的清晰显示。

2.太阳能电池：氧化铟锡具有良好的导电性和透明性，可用于制备太阳能电池的电极材料，提高太阳能电池的光电转换效率。

3.抗菌材料：氧化铟锡具有抗菌活性，可用于制备抗菌涂层，以防止细菌滋生。

4.电子元器件：氧化铟锡可用于制备电阻、电容等电子元器件，以实现对电路的精确控制。

随着科学技术的进步和社会经济的发展，氧化铟锡在电子和光电子领域的应用将越来越广泛，其发展前景十分广阔。

氧化铟锡作用一、引言氧化铟锡（ITO）是一种广泛应用于透明导电领域的材料，其具有优异的光学和电学性能。

自20世纪70年代以来，ITO已经成为平板显示器、智能手机、液晶显示器等电子产品中最重要的透明导电材料之一。

本文将从ITO的基本性质、制备方法、应用领域和未来发展方向等方面进行详细阐述。

二、ITO的基本性质1.光学性能ITO具有高透过率和低反射率的特点，其可见光透过率可达80%-90%，且随着薄膜厚度增加而减小。

在近红外波段（700-2500nm），ITO具有较高的透过率，可达70%以上。

此外，ITO还具有较好的抗紫外线和耐腐蚀性能。

2.电学性能ITO具有良好的导电性能，其电阻率在10-4到10-3Ω·cm之间，因此被广泛应用于透明导电领域。

此外，ITO还具有较高的载流子迁移率和较低的载流子浓度。

3.热稳定性在高温下，ITO薄膜的电学性能不会发生明显的变化，因此可以在高温环境下使用。

三、ITO的制备方法1.物理气相沉积法物理气相沉积法是一种常用的ITO制备方法。

其基本原理是将ITO靶材加热至高温，使靶材表面发生蒸发，然后通过惰性气体（如氩气）将蒸汽输送到基底上进行沉积。

该方法可以得到较高质量的ITO薄膜，但成本较高。

2.化学气相沉积法化学气相沉积法是一种易于控制且成本较低的ITO制备方法。

其基本原理是将ITO前驱体（如铟酸盐和锡酸盐）溶解在有机溶剂中，然后通过喷雾或旋涂等方式将溶液喷洒或涂布到基底上，在高温下使前驱体分解形成ITO薄膜。

3.溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是一种简单易行、成本低廉的ITO制备方法。

其基本原理是将铟和锡盐以及有机酸等溶解在有机溶剂中，形成溶胶，然后通过热处理和凝胶化过程得到ITO薄膜。

四、ITO的应用领域1.平板显示器平板显示器是ITO最主要的应用领域之一。

ITO作为液晶显示器中透明电极的材料，可以实现液晶分子的定向排列和电场控制，从而实现图像的显示。

2.智能手机智能手机是ITO另一个重要的应用领域。

钛氧膜的结构及性能研究摘要：主要介绍关于钛氧膜的能带结构，晶体结构以及钛氧膜的生物相容性能和表面活性等问题，还有钛氧膜的化学处理方法。

关键字：钛氧膜结构生物相容性表面活性TiO2有独特的光学、电学及化学性质,已广泛用于电子、光学和医学等方面。

例如,作为氧传感器用于湿敏、压敏元件及汽车尾气传感器；作为光催化剂,可实现有机物的光催化降解,具有杀菌、消毒和处理污水等作用；利用其亲水亲油的“双亲”特性,可使镀有钛氧膜的物体具有自清洁作用,从而达到防污、防雾、易洗、易干等目的；而金红石相钛氧膜是很好的人工心脏瓣膜材料。

对于TiO2的研究主要集中在制备、结构、性能和应用等方面。

在TiO2性能方面的研究,尤以对其生物相容性和光催化性能的研究最为丰富。

Ti-O膜作为生物活性材料在生物体内可以长期稳定存在且不与生物组织发生物化反应，即具有良好的生物相容性，但其缺点在于植入生物体内后，不能有效地在材料表面形成有正常的细胞并维持长期的活性。

国内外很多的研究者采用各种表面改性工艺方法，对材料表面进行生物活化或有机/无机复合等使材料表面挂带—COOH、—OH、—NH2等反应性基团，然后通过形成共价键使生物分子如蛋白质、多肽、酶和细胞生长因子等固定在材料表面，充当邻近细胞、基质的配基或受体，在材料表面形成一个能与生物体相适应的过渡层，以达到活化钛氧膜表面的效果。

目前，对钛氧膜的表面改性方法主要包括离子表面注入法，碱处理以及酸活化处理等方法。

1 氧化钛的能带结构与晶体结构1.1氧化钛的能带结构氧化钛的能带结构如图1-1所示［1］。

以金红石相为例，锐钛矿相的结构基本与其一致。

氧化钛能带结构是沿布里渊区的高对称结构，3d轨道分裂为e g与t2g 两个亚层，但它们全是空的轨道，电子占据s和p能级；费米能级处于s、p能带和t2g能带之间；最低的两个价带相应于O2s能级。

接下来6个价带相应于O2s 能级，最低的导带是由O3p产生生的，更高的导带能级是由O3p产生的。

ITO薄膜基础必学知识点
以下是ITO薄膜基础必学的知识点：
1. ITO膜的组成：ITO（Indium Tin Oxide）薄膜由铟、锡和氧组成。

2. ITO膜的制备：常用的制备方法有磁控溅射法、电弧离子镀法、溶
胶-凝胶法等。

3. ITO薄膜的特性：ITO薄膜具有良好的透明性、导电性和光学性能。

4. ITO薄膜的透明性：ITO薄膜在可见光范围内具有较高的透过率。

5. ITO薄膜的导电性：ITO薄膜的导电性主要来自于氧化铟和氧化锡
中的自由电子。

6. ITO薄膜的光学性能：ITO薄膜具有较高的折射率和较低的反射率，可用于制备具有抗反射性能的光学器件。

7. ITO薄膜的应用：ITO薄膜广泛应用于平板显示器、太阳能电池、
触摸屏、EMI屏蔽等领域。

8. ITO薄膜的缺点：ITO薄膜存在溶解性、机械性能差和成本较高等
缺点。

9. ITO薄膜的改性：为了克服ITO薄膜的缺点，可以通过掺杂其他金
属或合金、表面镀膜等方法来改善其性能。

10. ITO薄膜的未来发展：随着电子产品对透明导电膜需求的增加，ITO薄膜的研究和应用将持续发展进步。

ITO薄膜基础知识分析首先，ITO薄膜具有高透明度。

由于ITO薄膜的晶格结构具有高度的有序性，使得光线通过薄膜时几乎没有散射，从而具有较高的透明度。

在可见光范围内，ITO薄膜的透明度可以达到80%以上，甚至在特定条件下可以达到90%以上，使得ITO薄膜成为制备高透明度显示屏幕和窗户等透光器件的理想材料。

其次，ITO薄膜具有低电阻。

ITO薄膜中的氧化铟和锡的连接形成了络合键，形成了导电通道。

这种导电通道可以有效地传递电流，从而使ITO薄膜具有低电阻特性。

通常情况下，ITO薄膜的电阻率在10-4至10-5Ω·cm之间，具有良好的导电性能。

因此，ITO薄膜广泛应用于制备导电玻璃、触摸屏和透明导电膜等器件中。

此外，ITO薄膜具有优良的光电性能。

由于ITO薄膜的主要成分是氧化铟和锡，这两种材料具有较高的载流子浓度和迁移率。

这些载流子可以在ITO薄膜中自由运动，产生电子和空穴的很好的分离效应。

这种分离效应可以提高ITO薄膜的光电转换效率，使得其在光电子器件中具有更好的性能。

同时，ITO薄膜的光学常数也可以通过控制制备条件来调节，从而满足不同应用中的光学要求。

最后，ITO薄膜具有较好的化学稳定性。

由于ITO薄膜的铟和锡的氧化物化合物具有稳定的晶格结构，使得ITO薄膜在常温下具有较好的化学稳定性。

不容易被常见的化学物质侵蚀，具有良好的耐腐蚀性。

这种化学稳定性使得ITO薄膜可以在恶劣的环境中长时间工作，比如高温、高湿度等条件下，保持较好的性能。

综上所述，ITO薄膜具有高透明度、低电阻、优良的光电性能和化学稳定性等特点。

这些特点使得ITO薄膜在光电子器件和显示器件中得到广泛应用，如液晶显示器、有机发光二极管、太阳能电池等。

随着技术的发展，ITO薄膜在透明电子器件、光储存材料和生物传感器等领域的应用也将不断扩展。

TiO2半导体薄膜的制备与特性
徐明霞;徐廷献
【期刊名称】《应用化学》
【年(卷),期】1996(13)5
【摘要】ＴｉＯ_２半导体薄膜的制备与特性徐明霞，徐廷献，刘宁（天津大学材料系天津３０００７２）关键词ＴｉＯ_２，半导体薄膜，制备ＴｉＯ２薄膜或涂层，作为优良的色材、氧敏传感器材料和湿式太阳电池的光电阳极材料具有广阔的应用前景［１～３］．传统制膜技术主要采用物理...
【总页数】3页(P61-63)
【作者】徐明霞;徐廷献
【作者单位】天津大学材料系;天津大学材料系
【正文语种】中文
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ito导电pi薄膜-回复ITO导电PI薄膜，是指将ITO（铟锡氧化物）导电薄膜应用于聚酰亚胺（PI）基材上的一种特殊材料。

在本文中，将逐步解释ITO导电PI薄膜的制备方法、特性及应用等方面的内容。

一、ITO导电PI薄膜的制备方法ITO导电PI薄膜的制备包括以下几个步骤：1. 材料准备：选择高纯度的ITO导电材料和PI基材。

高纯度的ITO导电材料可以通过化学气相沉积、磁控溅射等方法制备，而PI基材则可以通过溶液法或热压法制备。

2. 基材处理：将PI基材进行表面处理，以提高其附着力和光学特性。

常用的处理方法包括等离子体处理、激光刻蚀等。

3. ITO导电薄膜沉积：将ITO导电材料沉积在经过表面处理的PI基材上。

常用的沉积方法有磁控溅射法、电子束蒸发法等。

在沉积过程中，需要控制沉积温度、气压等参数，以获得适合应用的ITO导电薄膜。

4. 后续处理：通过热处理或化学处理等方法对沉积好的ITO导电薄膜进行后续处理，以提高其导电性能和稳定性。

二、ITO导电PI薄膜的特性ITO导电PI薄膜具有以下几个主要特性：1. 优良的导电性能：ITO是一种优良的导电材料，具有较低的电阻率和较高的透过率。

因此，ITO导电PI薄膜可以提供良好的导电性能。

2. 良好的稳定性：ITO导电PI薄膜具有较好的机械强度和耐热性，能够适应复杂的工作环境，长时间保持稳定的导电性能。

3. 优异的光学特性：ITO导电PI薄膜具有优异的光学透明性，可同时保持高透过率和低反射率。

在一些需要光学透明性的应用中，ITO导电PI 薄膜可以作为透明电极使用。

4. 可高度加工性：ITO导电PI薄膜具有良好的可加工性，可以通过切割、折叠、穿孔等加工方式制备各种形状和尺寸的导电器件。

三、ITO导电PI薄膜的应用领域ITO导电PI薄膜在多个领域有广泛的应用，包括但不限于以下几个方面：1. 柔性显示器：ITO导电PI薄膜可以作为柔性显示器中的透明电极使用，使得显示器具有弯曲和可卷曲的特性。

介孔tio2薄膜介孔TiO2薄膜是一种具有许多应用前景的材料，它具有高比表面积、高孔隙度、优异的光学和电学性能等特点。

本文将从以下几个方面对介孔TiO2薄膜进行详细介绍。

一、介孔TiO2薄膜的制备方法1. 溶胶-凝胶法：该方法是将钛酸酯等前驱体在水或有机溶剂中加入表面活性剂或聚合物，形成胶体，然后通过热处理或紫外光辐射等方式制备出介孔TiO2薄膜。

2. 模板法：该方法是利用硅胶、聚苯乙烯等模板，在其表面沉积钛酸酯等前驱体，经过热处理后，去除模板即可得到介孔TiO2薄膜。

3. 水热法：该方法是将钛酸酯等前驱体在水中加入氢氧化钠等碱性物质，在高温高压下反应生成介孔TiO2颗粒，再通过涂覆或喷涂等方式得到介孔TiO2薄膜。

二、介孔TiO2薄膜的表征方法1. 扫描电子显微镜（SEM）：该方法可以观察到介孔TiO2薄膜的形貌和孔径大小。

2. 透射电子显微镜（TEM）：该方法可以观察到介孔TiO2薄膜的内部结构和晶体形态。

3. X射线衍射（XRD）：该方法可以分析介孔TiO2薄膜的晶体结构和晶格参数。

4. 红外光谱（FTIR）：该方法可以分析介孔TiO2薄膜的化学键和官能团。

5. 紫外-可见光谱（UV-Vis）：该方法可以分析介孔TiO2薄膜的吸收光谱和光催化性能。

三、介孔TiO2薄膜的应用领域1. 光催化材料：由于介孔TiO2具有高比表面积和优异的光学性能，因此可用于制备高效率的光催化材料，如污水处理、空气净化等领域。

2. 电池材料：由于介孔TiO2具有优异的导电性能和高比表面积，因此可用于制备锂离子电池、太阳能电池等材料。

3. 传感器材料：由于介孔TiO2具有高比表面积和优异的化学特性，因此可用于制备气敏传感器、生物传感器等材料。

4. 其他领域：介孔TiO2还可用于制备催化剂、涂料、光学薄膜等领域。

四、介孔TiO2薄膜的发展趋势1. 多功能化：未来的介孔TiO2薄膜将具有多种功能，如光催化、电化学、生物医学等多种应用。

TiO2薄膜制备及其气敏特性
许明;孙以材;潘国峰;张翼飞;何建建
【期刊名称】《传感器世界》
【年(卷),期】2009(015)002
【摘要】NO2是一种强毒性气体,本文利用了溶胶-凝胶法在硅片及陶瓷管上制备TiO2纳米薄膜,并探讨了在制备过程中不同的因素对薄膜成膜质量的影响.并用马弗炉对硅片及陶瓷管上制备的TiO2纳米薄膜进行不同温度的退火处理.对其分别进行XRD的分析,和原子力显微镜分析.利用气敏测试系统对不同的退火温度下的气敏元件进行测试.研制出工作温度低,气敏特性强,响应恢复特性好的基于TiO2的NO2气敏传感器.
【总页数】5页(P15-19)
【作者】许明;孙以材;潘国峰;张翼飞;何建建
【作者单位】河北工业大学微电子所,300130;河北工业大学微电子所,300130;河北工业大学微电子所,300130;河北工业大学,天津,300130;河北工业大学微电子所,300130
【正文语种】中文
【中图分类】TM28
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