超增益晶体管(续)
• (2)扩散穿通型超增益管 采用后两种途径,形成两种结构 • 双磷扩散结构:增加一次N+发射区扩散 • 发射区结深更深,基区宽度变小,内基区杂质浓度变低,增益大大提高 • 双硼扩散结构:增加一次P+基区扩散 • 比普通管基区扩散的结深浅,浓度低,增益大大提高 • 基区接触孔处及外基区周围与普通管基区同时进行扩散,,以减小基极串联电阻
集成晶体管和分立晶体管一样,从基极接触
孔到有效基区之间存在相当大的串联电阻,
由于集成晶体管的各电极都由表面引出,所
以其基极内基电区流电阻平行外于基区发电射阻,结两部和分集组成电结之间,
是横向流动的。
rB=rB1+ rB2=R3+R2+R1
基极串联电阻引起 发射极电流集边效应,
R3 RR1
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还影响高频增益和
区
C(B) S(C)
VBC<0(VBE>0),VSC<0(VBC >0)
E(N+)
衬底始终接最低电位,寄生 B(P)
反偏
正偏
PNP晶体管截止,等效为寄生
电容
NPN
CJS C(N)
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(2)NPN晶体管饱和或反向有源时
VBC>0(VBE<0),VSC<0 (VBC>0)
寄生PNP晶体管正向有源导通。有电流流向衬 底,影响NPN晶体管的正常工作。 E(N+)
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超增益晶体管(续)
• (3)扩散穿通型超增益管的特点 ①采用圆形发射区,以获得最小周长 ②应用时BC结偏置限制在0V左右,以减小基区宽度调制的影响
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