全自动9槽硅料清洗机
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湖南瑞升自动硅料清洗机使用说明
1、准备:在清洗槽内加入清洗液,要求达到预定水位线(在工作中清洗液会逐渐损耗,要注意及时补充)。
打开电源,电源指示灯亮。
2、不计时工作状态:按动超声键,超声指示灯长亮,开始超声清洗,超声功率数码管显示当前超声功率值。
再次按动超声键,超声清洗结束。
计时工作状态:按动计时键,计时指示灯闪烁,开始超声清洗机,清洗时间数码管显示设定时间值。
按动超声键,超声指示灯长亮,开始超声清洗,超声功率数码管显示当前超声功率值。
时间指示灯长亮,同时清洗时间值以1分钟为单位递减。
当清洗时间递减为0,蜂鸣器报警,表示清洗结束。
3、变频清洗:频率:频率因素会涉及清洗效果,一般采用较低频率针对较难清洗的污垢,采用较高频率针对精密清洗场合。
4、加温清洗:温度:随着清洗液温度上升,液体中生存的气泡会遮断声波,使超声波减弱。
但是在常规清洗中会采用提高液体温度来增加清洗能力。
必须针对不同的清洗液和清洗物来确定适合的液体温度,一般情况下液体温度在50-60℃比较适当。
5、清洗工艺:清洗工艺的设定要根据污染的类型,污染程度,处理批量来决定,***的工艺过程如下:超声波清洗(水系清洗剂)→超声波清洗(纯水、自来水)→脱水(干燥)干燥处理对清洗物的清洗性优劣非常重要,常见的干燥方法有热风干燥、通风干燥、真空
干燥、离心脱水干燥、IPA提升干燥等,可按照生产批量、成本、产品精度、被洗物形状等加以选择。
硅片清洗机的结构设计及电气控制摘要:一、硅片清洗机的概述二、硅片清洗机的结构设计1.清洗腔2.清洗液循环系统3.喷淋系统4.控制系统三、硅片清洗机的电气控制1.电气控制系统的组成2.电气控制系统的工作原理四、硅片清洗机的维护与保养正文:一、硅片清洗机的概述硅片清洗机是一种用于清洗硅片的设备,其主要目的是去除硅片表面的污垢和氧化物,以保证硅片表面的光洁度和洁净度,从而为后续的加工工艺提供良好的基础。
硅片清洗机在光伏行业、半导体行业等领域有着广泛的应用。
二、硅片清洗机的结构设计1.清洗腔清洗腔是硅片清洗机的主要工作部分,硅片在这里进行清洗。
清洗腔通常由不锈钢材料制成,具有良好的耐腐蚀性和耐高温性能。
清洗腔内部设有喷淋系统和清洗液循环系统,以保证硅片表面被充分清洗。
2.清洗液循环系统清洗液循环系统负责清洗液的循环和加热。
循环系统通常由泵、加热器和管道等组成,泵负责将清洗液从清洗腔内抽出,经过加热器加热后,再流回清洗腔内。
这样,可以保证清洗液的温度保持在设定范围内,有利于提高清洗效果。
3.喷淋系统喷淋系统负责将清洗液喷淋到硅片表面,以实现对硅片表面的清洗。
喷淋系统通常由喷淋头、喷淋管道和清洗液储存罐等组成。
喷淋头通常设有多个喷嘴,以保证清洗液能均匀地喷淋到硅片表面。
4.控制系统控制系统负责对整个清洗过程进行控制,包括清洗时间、清洗液温度、喷淋压力等参数的控制。
控制系统通常由PLC、触摸屏等人机界面设备组成,操作人员可以通过触摸屏设置清洗参数,并实时监控清洗过程。
三、硅片清洗机的电气控制1.电气控制系统的组成电气控制系统主要由电源系统、电机控制系统、传感器系统、人机界面系统等组成。
电源系统负责为整个设备提供电力,电机控制系统负责控制清洗腔、清洗液循环系统、喷淋系统等部分的电机,传感器系统负责实时监测设备运行状态,人机界面系统负责与操作人员进行交互。
2.电气控制系统的工作原理电气控制系统的工作原理如下:首先,操作人员通过人机界面系统设置清洗参数,包括清洗时间、清洗液温度、喷淋压力等;然后,人机界面系统将设置的参数转换为电信号,发送给PLC;接着,PLC 根据接收到的电信号,控制电机控制系统对各个电机进行调速、启停等操作,从而实现对整个清洗过程的控制;最后,传感器系统实时监测设备运行状态,将监测到的数据发送给PLC,以便PLC 根据实际情况对电机进行调整。
专利名称:一种硅片清洗机纯水回收系统专利类型:实用新型专利
发明人:熊诚雷,史舸,邵奇,沈激,张倩
申请号:CN201520361523.9
申请日:20150530
公开号:CN204685622U
公开日:
20151007
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本实用新型公开一种硅片清洗机纯水回收系统,包括纯水槽、排水收集池、主排水管路、直排水管路、回收排水管路以及回收水储罐,所述纯水槽设置在排水收集池内部,排水收集池的底部呈锥形,且排水收集池通过底端开口与主排水管路的一端连接,主排水管路的另一端通过三通气动阀分别连接直排水管路和回收排水管路的进水端,回收排水管路上设有Ph值测试仪,回收排水管路的出水端连接至回收水储罐,回收水储罐的底部设有出水管路,出水管路上设有水泵,所述的三通气动阀与PLC控制器连接。
本实用新型可以有效解决目前现有硅片清洗机因大量消耗纯水而运行成本高的问题,减少了纯水排放量、大幅度降低生产成本。
申请人:麦斯克电子材料有限公司
地址:471000 河南省洛阳市洛阳高新技术产业开发区滨河北路99号
国籍:CN
代理机构:洛阳公信知识产权事务所(普通合伙)
代理人:罗民健
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硅料的清洗方法讲解(图文)在一个行业一个产品某种意义上来说都有其一个特定性。
要解决一个问题,我们首先要了解产品的来与去。
就太阳能原料而言,我们从以下方面来谈它的来去,就是通常我们说的输入。
原生多晶:按常规考虑,原生多晶在生产过程中,生产厂家的成品已经经过清洗处理,在拉单晶和铸多晶时,直接投入即可。
但问题是:1、生产厂家处理了没有?2、生产厂家处理的结果是什么?3、在物流、储存时有没有出现杂质侵入等原因。
通常一般厂家不放心直接使用,需要把此料进行一次酸洗后才放心。
硅料表面和缝隙中压留酸分子,然后再用超声波通过循环纯水进行漂洗。
还有一个问题,我们在酸洗和漂洗过程中的硅料不可能悬空在溶液中,如果杂质刚好在两个硅料或硅料与洗篮接触点,那不是还没洗到吗?所以一般要动一下,可能很少有人知道这动的原因,或根本没有在意。
头尾料:在生产硅片中要对硅棒或硅锭进行切方处理,剩下的叫头尾、边皮料。
因为大家知道硅料是可以再生利用,所以切下的头尾料要再利用怎么办?那就是清洗。
我们先分析头尾料上的杂质:1、切割后金属离子的转移;2、切割液的残留;3、物流留下的污物。
这三个问题怎样处理?切割液的残留和物流留下的污物用超声碱洗解决,金属离子用酸洗解决。
碎片料:在我们切片、脱胶、清洗、物流过程中,因为种种原因会产生碎片,碎片的主要特性是粘合,主要杂质为切割砂液,我们可以利用碎片在溶液中的翻转漂浮对其分离清洗,达到它的清洁度一致性。
埚底料:埚底料的主要去除对象是石英,在对埚底料进行处理时,应对大块石英进行打磨,然后在酸液中进行长时间浸泡处理。
综合上述情况,我们注意到了在各种不同类的情况下,要用不同工艺来解决。
我们在这洗料过程中要把握:1、料要动2、漂要清3、流程要准确。
其他料:除以上四种料以外还有废电池片、IC料及半导体芯片等一些硅料芯片,要对其除金属、蓝薄、银浆等前期处理。
一、硅料的浸泡随着多晶硅产能逐渐增加,原料对生产商而言有更多的选择,同时也会放弃一些利用价值低的废料。
硅片超声波清洗机结构特点:采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业采用第三代最新技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落最新全自动补液技术独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥不留任何水痕成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一身彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置及多工艺方式转换清洗工艺:上料→碱腐蚀→纯水漂洗→酸碱腐蚀→纯水漂洗→喷淋漂洗→酸中和→纯水漂洗→碱中和→纯水漂洗→烘干→下料?适用范围:各种规格的单晶硅、多晶硅太阳能电池硅片的制绒清洗XT-1300SG太阳能硅片制绒超声波清洗机■ 采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业■ 采用第三代最新技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落■ 最新全自动补液技术■ 独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥不留任何水痕■ 成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一身■ 彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置及多工艺方式转换清洗工艺:上料→碱腐蚀→纯水漂洗→酸碱腐蚀→纯水漂洗→喷淋漂洗→酸中和→纯水漂洗→碱中和→纯水漂洗→烘干→下料清洗工件:各种规格的单晶硅、多晶硅太阳能电池硅片的制绒清洗清洗溶剂:水基清洗剂产品特点:单机械手或多机械手组合,实现工位工艺要求。
PLC全程序控制与触摸屏操作界面,操作便利。
自动上下料台,准确上卸工件。
净化烘干槽,独特的烘干前处理技术,工作干燥无水渍。
全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。
具备抛动清洗功能,保证清洗均匀。
全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。
1)适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗,多晶硅片线剧切片后的大批量清洗。
清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。
(2)清洗工艺流程自动上料→去离子水+超声波清洗+振动筛抛动→碱液+超声波清洗+抛动→去离子水+超声波清洗+抛动→碱液+超声波清洗+抛动→碱液+超声波清洗+抛动→去离子水+超声波清洗+抛动+溢流→去离子水+超声波清洗+抛动+溢流→自动下料【摘要】半导体/ LED/ LD硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。
硅料的清洗方法讲解图文走过路过不要错过 HUA system office room 【HUA16H-TTMS2A-HUAS8Q8-HUAH1688】在一个行业一个产品某种意义上来说都有其一个特定性。
要解决一个问题,我们首先要了解产品的来与去。
就太阳能原料而言,我们从以下方面来谈它的来去,就是通常我们说的输入。
原生多晶:按常规考虑,原生多晶在生产过程中,生产厂家的成品已经经过清洗处理,在拉单晶和铸多晶时,直接投入即可。
但问题是:1、生产厂家处理了没有2、生产厂家处理的结果是什么3、在物流、储存时有没有出现杂质侵入等原因。
通常一般厂家不放心直接使用,需要把此料进行一次酸洗后才放心。
硅料表面和缝隙中压留酸分子,然后再用超声波通过循环纯水进行漂洗。
还有一个问题,我们在酸洗和漂洗过程中的硅料不可能悬空在溶液中,如果杂质刚好在两个硅料或硅料与洗篮接触点,那不是还没洗到吗?所以一般要动一下,可能很少有人知道这动的原因,或根本没有在意。
头尾料:在生产硅片中要对硅棒或硅锭进行切方处理,剩下的叫头尾、边皮料。
因为大家知道硅料是可以再生利用,所以切下的头尾料要再利用怎么办?那就是清洗。
我们先分析头尾料上的杂质:1、切割后金属离子的转移;2、切割液的残留;3、物流留下的污物。
这三个问题怎样处理?切割液的残留和物流留下的污物用超声碱洗解决,金属离子用酸洗解决。
碎片料:在我们切片、脱胶、清洗、物流过程中,因为种种原因会产生碎片,碎片的主要特性是粘合,主要杂质为切割砂液,我们可以利用碎片在溶液中的翻转漂浮对其分离清洗,达到它的清洁度一致性。
埚底料:埚底料的主要去除对象是石英,在对埚底料进行处理时,应对大块石英进行打磨,然后在酸液中进行长时间浸泡处理。
综合上述情况,我们注意到了在各种不同类的情况下,要用不同工艺来解决。
我们在这洗料过程中要把握:1、料要动2、漂要清3、流程要准确。
其他料:除以上四种料以外还有废电池片、IC料及半导体芯片等一些硅料芯片,要对其除金属、蓝薄、银浆等前期处理。
硅料清洗的主要流程硅料清洗是一个关键的工艺步骤,用于去除硅料表面的杂质和污染物,确保硅料在后续工艺中的质量和性能。
下面将介绍硅料清洗的主要流程。
首先,准备工作是非常重要的。
清洗硅料的过程需要准备好适当的设备和材料,包括清洗槽、清洗剂、超声波清洗器和防护设备。
同时,需要对清洗区域进行消毒和将废液流向排放处的合理设计。
接下来,将硅料放入清洗槽中。
在放入清洗槽之前,需要先对硅料进行预处理,包括去除表面的大颗粒杂质和尽量减少空气中的灰尘。
硅料应该小心地放入清洗槽中,避免碰撞和破损。
然后,选择合适的清洗剂来清洗硅料。
清洗剂的选择应该根据硅料表面的污染程度和特性来确定。
常用的清洗剂包括酸性清洗剂、碱性清洗剂和有机溶剂。
不同的清洗剂都有不同的适用范围和效果,需要根据实际情况来选择。
清洗过程中,可以采用多种方式进行清洗。
常用的清洗方式包括机械刷洗、超声波清洗和喷淋清洗。
机械刷洗适用于表面较为粗糙的硅料,可以去除较为顽固的污染物。
超声波清洗是通过超声波振动产生的微小气泡爆破,使污染物松动并脱落。
喷淋清洗则是通过喷淋清洗剂,将硅料表面的污染物冲刷掉。
清洗过程中,需要注意控制清洗参数。
包括清洗时间、温度和搅拌速度等。
不同的硅料和清洗剂有不同的最佳参数,需要进行试验和优化。
同时,要保证清洗过程的稳定和可靠性,避免因参数变动造成不良影响。
最后,清洗完毕后,需要对硅料进行干燥和质检。
干燥过程要避免使用高温干燥,以免硅料受损。
质检包括对清洗后的硅料进行外观检查和化学分析,确保清洗效果达到要求。
总之,硅料清洗是一个复杂而关键的工艺步骤,需要谨慎操作并控制好各项参数。
只有通过科学规范的清洗流程,才能确保硅料在后续工艺中的质量和性能。
希望本文的介绍对硅料清洗过程的理解和指导有所帮助。
槽形混合机清洁操作规程槽形混合机是一种常用的工业设备,用于混合粉状或颗粒状物料。
为了保证其正常运行和产品质量,定期进行清洁是必不可少的。
下面是槽形混合机清洁操作规程:1. 清洁前准备工作(1)关闭混合机电源,确保设备停止运转。
(2)准备好清洁工具和物料,如毛刷、清洗剂和清洗布。
(3)准备好个人防护用具,如手套、护目镜和口罩。
2. 清洁外部表面(1)用湿布或清洗剂擦拭混合机外部表面,去除污垢和灰尘。
(2)特别注意清洁机器底座和控制面板,以确保设备的整洁。
3. 清洁混合桶(1)打开混合桶的卸料门,将残余物料全部排出。
(2)用清洁剂和清洁布擦拭混合桶内壁,去除黏附的物料和污垢。
(3)用清洗剂加水的混合液对混合桶进行彻底清洗,包括底部和侧壁。
(4)用水清洗混合桶内的清洗液,直到无任何残留。
4. 清洁搅拌器及其附件(1)取下搅拌器及其附件,用清洁剂和刷子擦拭其表面和所有可见部位。
(2)用水将搅拌器及其附件彻底清洗干净,确保无残留。
5. 清洁其他部件(1)检查混合机的传动部件和机械连接部件,清除其中的尘土和杂质。
(2)用清洁剂和刷子清洁传动部件和机械连接部件,确保其干净无污垢。
(3)检查混合机的滑动部件和轴承,如有需要,添加润滑剂。
6. 清洗设备周围环境(1)清除设备周围的杂物和灰尘,保持工作区域整洁。
(2)检查设备的排水口和废水收集装置,清理其中的污物和堵塞。
7. 清理清洁工具和物料(1)将使用过的清洁剂和清洁布彻底清洗干净。
(2)将使用过的刷子和其他清洁工具进行消毒和清洗。
8. 清洁记录和检查(1)将清洁操作的日期、时间以及执行人员记录在设备维护手册中。
(2)定期检查设备的清洁情况,并及时处理任何问题。
以上是槽形混合机清洁操作的基本规程,根据具体设备和清洁要求可能有所差异,操作人员应严格按照设备的操作说明和安全规定进行清洁工作。
清洁后,应进行设备的功能性测试,确保设备能够正常运行。
矿产资源开发利用方案编写内容要求及审查大纲
矿产资源开发利用方案编写内容要求及《矿产资源开发利用方案》审查大纲一、概述
㈠矿区位置、隶属关系和企业性质。
如为改扩建矿山, 应说明矿山现状、
特点及存在的主要问题。
㈡编制依据
(1简述项目前期工作进展情况及与有关方面对项目的意向性协议情况。
(2 列出开发利用方案编制所依据的主要基础性资料的名称。
如经储量管理部门认定的矿区地质勘探报告、选矿试验报告、加工利用试验报告、工程地质初评资料、矿区水文资料和供水资料等。
对改、扩建矿山应有生产实际资料, 如矿山总平面现状图、矿床开拓系统图、采场现状图和主要采选设备清单等。
二、矿产品需求现状和预测
㈠该矿产在国内需求情况和市场供应情况
1、矿产品现状及加工利用趋向。
2、国内近、远期的需求量及主要销向预测。
㈡产品价格分析
1、国内矿产品价格现状。
2、矿产品价格稳定性及变化趋势。
三、矿产资源概况
㈠矿区总体概况
1、矿区总体规划情况。
2、矿区矿产资源概况。
3、该设计与矿区总体开发的关系。
㈡该设计项目的资源概况
1、矿床地质及构造特征。
2、矿床开采技术条件及水文地质条件。