合金
平面 生长(异质)
• 几种晶体管的基本结构
台面
Schottky
合金 生长(异质) 平面1
平面2
MOS
1)、简单的Bipolar IC 结构 隔离、基区、发射区、钨塞、集电区
• References:(Processing)
1. The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication, By Stephen A. Campbell, (Oxford, 2nd Edition, 2001)
2. Silicon VLSI Technology—Fundamentals, Practice and Modeling, By Lame D. Plummer et al, (Pearson Education, , 2000)
– 第一单元:热处理和局域掺杂技术
• 第二章:扩散掺杂技术(Ch3) • 第三章:热氧化技术(Ch4) • 第四章:离子注入技术(Ch5) • 第五章:快速热处理技术(Ch6)
– 第二单元:图形加工技术
• 第六章:图形转移技术(光刻技术)(Ch7~9) • 第七章:图形刻蚀技术(Ch10~)
– 第三单元:薄膜技术
5. 半导体制造技术,Michael Quirk, Julian Serda (科学出版社,1999) Semiconductor Manufacturing Technology, (Prentice Hall, 2001)
6. 微电子技术工程—材料、工艺与测试,刘玉岭 等,(电子工 业出版社, 2004)
3. Silicon Processing,By Stanley Wolf and Richard N. Tauber, (Lattice Press,2000)