EDI设备的化学清洗及再生讲解

EDI工艺的化学清洗与对冲！EDI电除盐工艺相对混合离子交换工艺是一种新技术，它的电再生工艺和清洗方法，国内还没有很成熟的技术，某发电厂三期水处理EDI装置自2006年6月投运以来，由于各项指标控制严格，运行情况基本良好。

但是，因为水处理原水采用循环冷却排污水，城市中水其水质较差，含盐量、有机物、细菌含量较高。

再加上设备长期的连续运行和来水水质不稳定等原因，直接影响到化学的预处理和全膜脱盐处理的正常运行，给膜工艺处理增加了处理难度。

RO（反渗透）的化学清洗由原来的6个月清洗一次增加到3个月清洗一次。

EDI装置的产水量和脱盐率也有不同程度的下降。

其中，2006～2009年由于EDI 装置的连续长期运行，产水量由原来的单套50 t/h下降到42 t/h。

同时进出水压差明显增大，进水压力有初启动的0.25MPa上升到0.5 MPa左右。

直接影响到设备的安全运行和机组的正常供水。

针对这一现象，进行了全方位的取样化验分析论证，在取得第一手判断数据后，先后联系并配合EDI厂家对EDI装置进行了系统对冲、化学清洗和强电流电压再生。

经处理后的EDI装置，系统的压力、压差、流量和各项控制指标恢复到初投运的规定值，系统运行恢复正常良好。

1 EDI膜块的污堵、污染与结垢1.1 EDI膜元件污堵、污染及结垢原因，某发电厂采用全厂6台机组循环冷却水排污水和城市中水做为水处理的水源，来水电导率不稳定，一般在1 500～3 800 μS/cm之间，循环水浓缩倍率是地表水（黄河水）的3～4倍，水中有机物和细菌含量及各种杂质都比较高。

如果前期系统和予处理控制不好很容易造膜元件污堵、污染与结垢。

如果运行中各项指标及加药参数控制不当也会造成膜的污染。

1.2 EDI膜元件受到污堵、污染及结垢的不同处理方式由于我厂水处理水源采用的水质不同，水质每天的变化都有较大的波动，再加上不同的季节用水不同，水的温度对膜元件的运行有很高的要求，另外，循环冷却水需要定期加入杀菌灭藻剂。

EDI装置清洗步骤：清洗装置：可以和RO 机共用一套清洗系统，也可单独为其配备一套清洗系统。

所需设备和附件：1．泵：流量为系统产水量的30%，压力30psi(0.2MPa)2．清洗过滤器：通量与EDI 设备的流量相同，精度1微米。

3．清洗水箱：材质：PE，容积：可根据设备大小配备。

4．UPVC 管接件和PE 软管对于浓水侧结垢的清洗2%的强酸溶液，这是较有效，同时腐蚀性也最强的清洗液。

使用去离子水配置，37%分析纯HCl溶液。

酸液的配制方法：2%盐酸（HCI）溶液（以100 升清洗箱为例）①．去离子水100L（可用RO 产品水）②．37%盐酸（分析纯）5.4 公斤③．配制成2%的强酸溶液（应完全混合）调制PH=2 左右。

注：混合酸的安全方法：切记要先将水加入到溶器中然后再加入酸。

清洗过程：1)按系统图纸，连接清洗管路。

2)启动清洗泵，调节浓(极)水流量为系统产水量的20%左右。

3)测量并记录通过浓(极)水室的水流量和压力降。

4)不要将酸打入淡水室，否则需用很长的运行时间来再生树脂。

5)用泵使清洗液循环清洗EDI30min，然后停泵用清洗液浸泡EDI5分钟以上。

6)当EDI内清洗液消耗完时，再次配制清洗液。

7)在清洗箱中装满去离子水，然后用泵来冲洗残留的清洗液。

8)更换箱中去离子水，直到冲洗出水的pH在日常运行的范围内。

9)此时测定并记录压力降、流量、pH。

10)将清洗临时管路断开，恢复原样（如果还需要碱洗EDI 设备，这一步骤可不要，直接配碱液）。

11)启动供水泵，继续冲洗至出口水比入口水小于30μS/cm，注意：以上步骤必须在断电情况下进行！12)启动电源。

13)在再生模式下运行EDI，直到离子进出平衡。

14)在标准模式下运行EDI，直到出水品质恢复到正常水平。

注：不要向淡水室注入酸液，否则树脂将需要很长的再生时间。

如果酸液进入淡水室，冲洗需要6-8 小时，同时要花费近16 个小时来再生EDI 并达到等同的产水品质。

多晶硅E D I设备清洗方案-CAL-FENGHAI-(2020YEAR-YICAI)_JINGBIANEDI设备清洗方案一、EDI的清洗方法：根据EDI的运行状态，EDI的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。

1.清洗时，EDI的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。

即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI，从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。

(正洗)2.第一步酸洗：清洗水箱中配制% 盐酸溶液，循环30分钟。

冲洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，将水箱中水冲洗至中性，然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。

第二步消毒碱洗：水箱中配制% NaOH+%NaCL 的溶液，循环50分钟。

冲洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。

警告：清洗过程中清洗压力最高不超过，膜块的电源禁止供电，清洗所需用水必须是RO或者EDI系统的产水。

二、清洗步骤：1.准备1)关闭EDI。

停止EDI运行，确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。

2)关闭下列阀门：原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。

3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。

4)连接清洗管道。

把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。

把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI 系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。

注意清洗管线必须牢固、紧密，以防止化学药品的喷溅。

2、浓水室酸洗1)约剂配制：在清洗水箱中注入大约1500L的反渗透产水作为溶剂，然后向其中缓缓加入大约60L (或73kg)37％的盐酸搅拌均匀配制成约%的盐酸溶液。

2)酸洗步骤(1)将清洗水泵出口软管连接到EDI系统浓水进口，EDI系统浓水出口用软管连接回流到清洗水箱，同时关闭EDI装置本身循环系统的进出阀门来避免药剂进入循环泵；(2)启动清洗泵以15m3/h（正常运行流速的一半）的流速循环清洗15分钟后停止清洗泵并关闭相应阀门让药剂在浓水室内浸泡15分钟左右，再次启动清洗泵循环清洗15分钟左右；(3)停止清洗并排净清洗箱和清洗泵；(4)浓水室冲洗：在清洗水箱中注入大约3000L反渗透水，启动清洗泵冲洗EDI浓水室，清洗流速约为15 m3/h（正常运行流速的一半），边冲洗边排放直到出水PH值接近7为止。

EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式：o 颗粒/胶体污堵o 无机物污堵o 有机物污堵o 微生物污堵清洗方法时间（分）备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗≥50再生≥120 根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量（升）备注MX-50 50 1. 酸洗温度15-25℃2. 碱洗温度25-30℃3. 配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-100 80MX-200 110MX-300 150•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o 确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

o 使系统构建成一个闭路自循环管路。

o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

o 给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。

o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo 提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册. 本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求: 前处理系统一定要有RO 系统,且要确保RO 系统操作正常. 进流水质最低要求如下:1 导电度(包括SiO2 及CO2) μs/cm < 402 温度℃5 - 453 压力Psi 20-1004 自由余氯(Cl2) ppm < 0.025 铁(Fe)、锰(Mn) ppm < 0.016 硫化物(S- ) ppm < 0.017 pH 4-118 总硬度(as CaCO3) ppm < 1.09 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.010 总有机碳(TOC) ppm < 0.5备注: 1. 导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2 浓度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)2. 启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI 系统应至少包括下列附属设备:1. 稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR, 亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).2. 流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时, 模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.3. 压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.4. 进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).5. 系统控制(PLC 控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30 秒后(视泵至EDI 距离调整时间),若电源仍无供应, 则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI 膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。

EDI工作原理EDI（Electrodeionization）即电极离子交换，是一种利用电场和离子交换树脂结合的技术，用于去除水中的离子和溶解性固体。

它是一种高效、节能、无化学品添加的水处理技术，广泛应用于电子、制药、化工、电力等行业。

EDI工作原理主要包括三个步骤：预处理、电离和再生。

1. 预处理在EDI系统中，水首先经过预处理单元，包括颗粒过滤器、活性炭过滤器和软化器等。

这些预处理设备用于去除水中的悬浮物、有机物、硬度离子等杂质，以保护EDI模块的正常运行。

2. 电离经过预处理后的水进入EDI模块，EDI模块由阳离子交换膜、阴离子交换膜和离子交换树脂层交替排列而成。

当水通过EDI模块时，外加电场使得水中的离子向交换膜移动。

阳离子交换膜选择性地吸附阳离子，阴离子交换膜选择性地吸附阴离子，而离子交换树脂层则吸附剩余的离子。

在EDI模块中，阳离子交换膜和阴离子交换膜之间形成了电离区域。

在电离区域中，水分解产生氢离子和氢氧根离子，即H+和OH-离子。

这些离子通过交换膜逐渐移动到离子交换树脂层。

3. 再生随着离子的吸附，EDI模块中的离子交换树脂层逐渐饱和。

为了恢复EDI模块的工作能力，需要进行再生。

再生过程主要包括两个步骤：电解再生和水洗再生。

电解再生是通过反向电场，将吸附在离子交换树脂上的离子排除出去。

这样，离子交换树脂就恢复了吸附离子的能力。

水洗再生是用纯水冲洗EDI模块，去除残留的离子和杂质。

EDI系统的优势：1. 高纯水产率：EDI系统能够高效地去除水中的离子，产生高纯度的水。

2. 无需化学品：EDI系统不需要添加任何化学品，避免了化学品的使用和处理过程。

3. 节能环保：EDI系统不需要热再生，相比传统的离子交换技术节能约50%。

4. 操作简便：EDI系统自动化程度高，操作简便，减少了人工干预的需求。

5. 占地面积小：EDI系统结构紧凑，占地面积相对较小。

总结：EDI工作原理是利用电场和离子交换树脂的结合，去除水中的离子和溶解性固体。

EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式：o颗粒/胶体污堵o无机物污堵o有机物污堵o微生物污堵清洗方法时间（分）备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗≥50再生≥120根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量（升）备注MX-50501.酸洗温度15-25℃2.碱洗温度25-30℃3.配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-10080MX-200110MX-300150•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

o使系统构建成一个闭路自循环管路。

o按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

o给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。

o直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求:前处理系统一定要有RO系统,且要确保RO系统操作正常.进流水质最低要求如下:1导电度(包括SiO2及CO2)μs/cm<402温度℃5-453压力Psi20-1004自由余氯(Cl2)ppm<0.025铁(Fe)、锰(Mn)ppm<0.016硫化物(S-)ppm<0.017pH4-118总硬度(as CaCO3)ppm<1.09二氧化硅(SiO2)ppm<1.010总有机碳(TOC)ppm<0.5备注: 1.导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2浓度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)2.启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI 系统应至少包括下列附属设备:1.稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR,亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).2.流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时,模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.3.压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.4.进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).5.系统控制(PLC控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30秒后(视泵至EDI距离调整时间),若电源仍无供应,则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。

edi化学清洗流程EDI化学清洗流程一、引言化学清洗是指通过化学反应来去除或分解杂质、污染物等的过程。

EDI（Electrodeionization）即电极离子交换技术，是一种通过电场作用将水中的离子从水溶液中分离出来的技术，常用于水质处理和纯化过程中。

本文将介绍EDI化学清洗流程的具体步骤和注意事项。

二、EDI化学清洗流程1. 准备工作在进行EDI化学清洗前，需要进行一些准备工作。

首先，需要关闭EDI设备的进水和出水阀门，并将电源断开。

接着，需要排空EDI 设备中的水，并清除设备内可能存在的杂质和污染物。

此外，还需要检查EDI设备的运行状态和相关设备的连接情况，确保设备正常运行。

2. 制备清洗液制备清洗液是进行EDI化学清洗的关键步骤。

清洗液的配制需要根据具体的清洗目的和污染物种类来确定。

常用的清洗液包括酸性清洗液、碱性清洗液和氧化剂清洗液等。

在配制清洗液时，需要按照一定的比例将清洗剂和纯水混合，同时注意搅拌均匀，以确保清洗液的浓度和均匀性。

3. 清洗过程进行EDI化学清洗时，需要按照一定的步骤进行操作。

首先，将制备好的清洗液注入EDI设备中，并确保液位覆盖清洗膜。

接着，打开EDI设备的进水阀门，让清洗液均匀地流过清洗膜，进行清洗作用。

清洗时间的长短可以根据实际情况进行调整，一般建议清洗时间为1-2小时。

4. 清洗后处理清洗结束后，需要对EDI设备进行后续处理。

首先，关闭EDI设备的进水阀门，将清洗液排出。

然后，打开EDI设备的出水阀门，用纯水进行冲洗，以去除残留的清洗剂和杂质。

冲洗时间一般为30分钟左右。

最后，关闭EDI设备的出水阀门，并将电源接通，使设备恢复正常运行。

5. 检测和验证进行EDI化学清洗后，需要对清洗效果进行检测和验证。

常用的检测方法包括测量EDI设备的产水质量、测量设备的电导率和pH值等。

通过对清洗后的水质进行分析，可以评估清洗效果是否达到预期的要求。

如果清洗效果不理想，可以根据实际情况进行调整和再次清洗。

超滤系统在线清洗方案一、清洗方案根据超滤系统目前的运行情况、与超滤厂家的建议，本次保养性清洗，采用先次氯酸钠（或氯锭）、氢氧化钠碱洗，后草酸洗的清洗方案。

二、清洗工艺流程清洗水箱(5m3)→清洗泵→清洗保安过滤器→反超滤系统→清洗药液箱。

三、清洗药剂（单套用量）碱洗：1、氯锭（100ppm）1-2公斤2、氢氧化钠8-10公斤（调节PH）3、RO水4、pH=11-135、温度：30℃-35℃酸洗：1、草酸 50公斤2、RO水3、pH=1-3（以pH为准）4、温度：30℃-35℃四、清洗过程(以清洗#1超滤为例)(一)、清洗准备——清洗系统检查、清洗1、记录清洗前系统运行数据。

2、检查清洗系统：清洗水箱（启动反渗透系统，注水进清洗水箱，自循环排放式清洗，直至水箱排水清澈）、保安过滤器、加温系统、清洗水泵、清洗管路等，保证系统清洁、通畅。

系统清洗完毕后，关闭超滤所有阀门。

打开超滤清洗水进口阀（运行时关闭）、超滤清洗浓水手动阀（运行时关闭）、超滤清洗产水手动阀（运行时关闭）。

3、使用RO产水模拟系统清洗。

清洗药箱放入RO产水1.5m，将清洗水箱RO 水打入超滤系统清水循环。

流程：水箱→清洗水泵→清洗保安过滤器→#1超滤清洗水进口阀→#1超滤本体系统→#1超滤清洗浓（产）水手动阀→清洗水箱。

(二)、碱洗1、清洗过程中要记录系统相关数据。

2、在使用RO产水模拟系统清洗正常后。

配制清洗液：配置100ppm的氯锭（WHL-502杀菌剂），使用氢氧化钠调节pH到11-13，温度：30-35℃。

3、清洗步骤(控制清洗液温度在30-35℃)1）打第一个2h循环。

每隔20min记录清洗液pH值、温度、颜色的变化，以适当的配比增加氢氧化钠等药剂，使碱洗清洗液的pH＝11-13，清洗流速由清洗水泵控制（流量约100t/h，出口压力1.5Kg/cm2以下）。

2）浸泡1h。

3）重复（1）-（2）二到三次（轮流开合超滤清洗产水手动阀）。

EDI膜堆的清洗方案EDI设备的化学清洗及再生虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。

如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的 pH 值，将会加快沉淀的速度。

遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI 膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。

维修EDI模块或者采购EDI模块就找湖南凯聚达科技有限公司通常判断 EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高 45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。

膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。

（EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。

）详细如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。

如果EDI膜块的进水不是直接由 RO 产水端进入 EDI 膜块，而是通过RO 产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。

在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

2、无机物污堵如果 EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。

即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。

EDI膜块的化学清洗及再生方法EDI膜块的化学清洗及再生方法：虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。

如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2和较高的pH值，将会加快沉淀的速度。

遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。

通常判断EDI膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。

5.维修EDI及采购EDI就找湖南凯聚达科技有限公司膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。

（EDI清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。

）详细如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。

如果EDI膜块的进水不是直接由RO产水端进入EDI膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。

在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

2、无机物污堵如果EDI进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。

即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。